JPS60100034A - エチレンガス濃度測定法およびその装置 - Google Patents
エチレンガス濃度測定法およびその装置Info
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- JPS60100034A JPS60100034A JP58206923A JP20692383A JPS60100034A JP S60100034 A JPS60100034 A JP S60100034A JP 58206923 A JP58206923 A JP 58206923A JP 20692383 A JP20692383 A JP 20692383A JP S60100034 A JPS60100034 A JP S60100034A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、測定地点が遠く離れている箇所でのエチレン
ガス濃度測定に好適なガス濃度測定法およびその装置に
関するものである。
ガス濃度測定に好適なガス濃度測定法およびその装置に
関するものである。
エチレンガスは石油化学コンビナ−1・のエチレンクラ
ッカーで知られるように高分子材料の主要原料であって
、国内においても年産数百万tも生産されている有用な
ガスであるが、他方エチレンは可燃性ガスであって、そ
の爆発範囲は空気中濃度2.7vo1.1%〜38vo
1.%とその範囲が広い。すなわち、ガス漏洩に充分注
意を払わないと重大な災害、人身事故を引き起しかねな
い。扱うガスの規模が大であることから、この防爆、防
災のための有効な漏洩検知、警報機器、システムの開発
が望まれるところである。そして、コンビナートの場を
対象として考えれば、集中監視室からの遠隔測定が望ま
れること、そして着火源を持たず、本質的に安全な防爆
検知方式であることが必須となる。
ッカーで知られるように高分子材料の主要原料であって
、国内においても年産数百万tも生産されている有用な
ガスであるが、他方エチレンは可燃性ガスであって、そ
の爆発範囲は空気中濃度2.7vo1.1%〜38vo
1.%とその範囲が広い。すなわち、ガス漏洩に充分注
意を払わないと重大な災害、人身事故を引き起しかねな
い。扱うガスの規模が大であることから、この防爆、防
災のための有効な漏洩検知、警報機器、システムの開発
が望まれるところである。そして、コンビナートの場を
対象として考えれば、集中監視室からの遠隔測定が望ま
れること、そして着火源を持たず、本質的に安全な防爆
検知方式であることが必須となる。
従来より用いられている半導体式ガスセンサや燃焼式ガ
スセンサ、光干渉式検知方法ではガスの選択検知や動作
の安定性、湿度の影響、稀薄ガスの検知等々で問題があ
り、さらに保守の面を考慮しなければならない点など不
利、不便であった。
スセンサ、光干渉式検知方法ではガスの選択検知や動作
の安定性、湿度の影響、稀薄ガスの検知等々で問題があ
り、さらに保守の面を考慮しなければならない点など不
利、不便であった。
また、遠隔監視、遠隔測定の場合、電気信号が送受され
るので電磁誘導による誤報やケーブルの損傷による事故
誘発などの危険性も無視することができなかった・ 本発明は、前述の事情に鑑みてなされたものであって、
エチレンガスの漏出を確実に、迅速に検知して警報を発
するようにしたものであって、厳しい使用条件下でも信
頼性が高く、実時間測定ができ、かつ極めて遠隔の箇所
における測定が可能であると共に事故誘発などの危険性
の全くないエチレンガス濃度の測定方法およびその装置
を提供することにある。
るので電磁誘導による誤報やケーブルの損傷による事故
誘発などの危険性も無視することができなかった・ 本発明は、前述の事情に鑑みてなされたものであって、
エチレンガスの漏出を確実に、迅速に検知して警報を発
するようにしたものであって、厳しい使用条件下でも信
頼性が高く、実時間測定ができ、かつ極めて遠隔の箇所
における測定が可能であると共に事故誘発などの危険性
の全くないエチレンガス濃度の測定方法およびその装置
を提供することにある。
以下図面を参照しながら本発明のエチレンガス濃度の測
定方法およびその装置の詳しい内容を説明する。
定方法およびその装置の詳しい内容を説明する。
本発明は、近年光通信用として開発された例えば石英系
光ファイバーのような光ファイバーを利用するものであ
る。
光ファイバーのような光ファイバーを利用するものであ
る。
このような光ファイバーは1.0〜1.8gmの波長領
域では光の伝送損失が低く、特に1.1〜1.7pLm
の波長領域では伝導損失がldB/km以下の極めて低
損失である。又、エチレンガスは1.1310〜1.7
05 gmのブロードな波長帯域にわたって連続した特
性吸収帯がある。そして、」1記のエチレンガスの特性
吸収帯内には水蒸気(H2O)および炭酸ガス(002
)による光の吸収がほとんどない狭い波長域が選択でき
る。本発明は以上のような新たな知見にもとづいてなさ
れたものである。即ち、エチレンガスの特性吸収帯内の
波長帯であって、伝送路として用いる光ファイバーによ
る損失が少なく、H2OやC02の影響をほとんど受け
ることのない波長域を選ぶことによって本発明の目的で
ある遠隔の地点においてエチレンガスの濃度を正確に、
しかも迅速に測定できるようにしたものである。
域では光の伝送損失が低く、特に1.1〜1.7pLm
の波長領域では伝導損失がldB/km以下の極めて低
損失である。又、エチレンガスは1.1310〜1.7
05 gmのブロードな波長帯域にわたって連続した特
性吸収帯がある。そして、」1記のエチレンガスの特性
吸収帯内には水蒸気(H2O)および炭酸ガス(002
)による光の吸収がほとんどない狭い波長域が選択でき
る。本発明は以上のような新たな知見にもとづいてなさ
れたものである。即ち、エチレンガスの特性吸収帯内の
波長帯であって、伝送路として用いる光ファイバーによ
る損失が少なく、H2OやC02の影響をほとんど受け
ることのない波長域を選ぶことによって本発明の目的で
ある遠隔の地点においてエチレンガスの濃度を正確に、
しかも迅速に測定できるようにしたものである。
第1図は石英系光ファイバーの0.6〜1.8gmの波
長域における伝送損失を示すグラフである。
長域における伝送損失を示すグラフである。
この図より明らかなように波長1.1〜1.7μmでの
伝送損失はlkm当り1dB以下である。そして、実用
的には可視域から1.8gtaまでの波長域の光の伝送
に有効であることがわかる。この様な低損失の光ファイ
バーを光伝送路として用いれば、遠隔地に存在するエチ
レンガス濃度を吸光光度法によって測定することが可能
である。
伝送損失はlkm当り1dB以下である。そして、実用
的には可視域から1.8gtaまでの波長域の光の伝送
に有効であることがわかる。この様な低損失の光ファイ
バーを光伝送路として用いれば、遠隔地に存在するエチ
レンガス濃度を吸光光度法によって測定することが可能
である。
第2〜第4図は本発明の対象となるエチレンガスの特性
吸収を示す一連の吸収波長帯を示す。
吸収を示す一連の吸収波長帯を示す。
これらの一連の波長帯から特性吸収波長はブロードな1
つの波長域であることを示し、その領域は1.610〜
1.705 gmであることがわかる。但し、この1.
f(10〜1.705 gmの波長域は測定上の関係で
この領域にとどめたが、第2図、第4図から推定すると
第5図に示すように1.805〜1.720 p−rn
にわたって存在すると思われる。本発明では明らかとな
った波長帯1.610〜1.705 JLmを対象とし
て取扱うことにする。第2〜第4図を通覧すると、ブロ
ードな波長帯ではあるが、特徴的な吸収波長として1.
8425gm、 1.848gm、 1.fi80IL
n+。
つの波長域であることを示し、その領域は1.610〜
1.705 gmであることがわかる。但し、この1.
f(10〜1.705 gmの波長域は測定上の関係で
この領域にとどめたが、第2図、第4図から推定すると
第5図に示すように1.805〜1.720 p−rn
にわたって存在すると思われる。本発明では明らかとな
った波長帯1.610〜1.705 JLmを対象とし
て取扱うことにする。第2〜第4図を通覧すると、ブロ
ードな波長帯ではあるが、特徴的な吸収波長として1.
8425gm、 1.848gm、 1.fi80IL
n+。
1.857μm、 1.65135 p、m、 1.8
81pm、 1.6tE14pm。
81pm、 1.6tE14pm。
1、f175pm、 1.8797zm、 1.685
5 gm、 1.8881Lm等々が挙げられる。
5 gm、 1.8881Lm等々が挙げられる。
第2〜第4図の特性吸収帯はエチレンガスの圧力が85
0 Tartで、測定セルの光路長が50cm、分光器
の分解能が0.1no+のときに得られたものである。
0 Tartで、測定セルの光路長が50cm、分光器
の分解能が0.1no+のときに得られたものである。
この特性吸収をみると、例えば1.8245 pLmで
は光の吸収率は80%に達しており、極めて光吸収の大
なることがわかる。すなわち、この波長を測定波長とし
て選べばエチレンガスの濃度測定」二有利となる。
は光の吸収率は80%に達しており、極めて光吸収の大
なることがわかる。すなわち、この波長を測定波長とし
て選べばエチレンガスの濃度測定」二有利となる。
エチレンガスの濃度を吸光光度法によって測定する場合
はまず、エチレンの特性吸収波長帯である1、810〜
1.705 p、mにおいて、少なくとも1つの波長を
中心波長とする光を選ぶ。実際にはこの光は1つの狭い
波長帯である。例えば帯域透過フィルターによって1.
622〜1.1(27gmあるいは1.815〜1.1
320 pLIllなどの狭い波長帯が選ばれる。そし
て、これらの狭い波長帯の光を含む光が発光源から発せ
られ、エチレンガスの存在する測定セル(吸収セル)中
を光が通過した際に前述の、狭い波長帯の光がどの程度
吸収されるかにょって、エチレンガスの濃度がその吸収
率から検知される。
はまず、エチレンの特性吸収波長帯である1、810〜
1.705 p、mにおいて、少なくとも1つの波長を
中心波長とする光を選ぶ。実際にはこの光は1つの狭い
波長帯である。例えば帯域透過フィルターによって1.
622〜1.1(27gmあるいは1.815〜1.1
320 pLIllなどの狭い波長帯が選ばれる。そし
て、これらの狭い波長帯の光を含む光が発光源から発せ
られ、エチレンガスの存在する測定セル(吸収セル)中
を光が通過した際に前述の、狭い波長帯の光がどの程度
吸収されるかにょって、エチレンガスの濃度がその吸収
率から検知される。
上述した狭い波長帯(測定波長)を1つ又は複数個使っ
て、エチレンガスの濃度を吸光光度法によって測定する
場合には通常エチレンガスの特性吸収帯以外の、すなわ
ち、エチレンガスによって光の吸収が行なわれない波長
域から、測定波長と同様に少なくとも1つの波長を中心
波長とする狭い波長帯の光を選ぶ。この波長を参照波長
と呼ぶ。参照波長はエチレンガスの特性吸収帯の近傍で
ある1、587zmや]、75p、m付近の波長域を選
択する。参照波長、測定波長はH2O(水蒸気)やC0
2の影響をほとんど受けない波長を選ぶことが肝要であ
る。
て、エチレンガスの濃度を吸光光度法によって測定する
場合には通常エチレンガスの特性吸収帯以外の、すなわ
ち、エチレンガスによって光の吸収が行なわれない波長
域から、測定波長と同様に少なくとも1つの波長を中心
波長とする狭い波長帯の光を選ぶ。この波長を参照波長
と呼ぶ。参照波長はエチレンガスの特性吸収帯の近傍で
ある1、587zmや]、75p、m付近の波長域を選
択する。参照波長、測定波長はH2O(水蒸気)やC0
2の影響をほとんど受けない波長を選ぶことが肝要であ
る。
エチレンガスによって吸収された少なくとも1つの測定
波長とエチレンガスによって光の吸収されない少なくと
も1つの参照波長との光強度比を1つ又は複数個とるこ
とによってエチレンガスの濃度を精度よく検知、測定す
ることができる。
波長とエチレンガスによって光の吸収されない少なくと
も1つの参照波長との光強度比を1つ又は複数個とるこ
とによってエチレンガスの濃度を精度よく検知、測定す
ることができる。
第6図はH2Oの吸収波長特性曲線を示すものである。
この図より明らかなようにH2Oの強い吸収帯は 1.
2〜1.7gm帯においては1.350〜1.393p
mの波長帯に集中している。従って、この波長帯を除け
ば水分の影響の少ない測定が可能であ0 る。同様にして、CO2の特性吸収の強い波長帯を除い
た波長帯を利用することによって炭酸ガスの影響の少な
い測定が可能となる。
2〜1.7gm帯においては1.350〜1.393p
mの波長帯に集中している。従って、この波長帯を除け
ば水分の影響の少ない測定が可能であ0 る。同様にして、CO2の特性吸収の強い波長帯を除い
た波長帯を利用することによって炭酸ガスの影響の少な
い測定が可能となる。
以−4−述べた内容から明らかなように、例えば石英ガ
ラス系の光ファイバーを光伝送路として用い、第2〜第
4図に示すようなエチレンガスの特性吸収波長帯を利用
すれば遠隔地にあるエチレンガスの濃度を共存するH2
O(水蒸気、水分)やCO2さらには他の炭化水素系ガ
スの影響をほとんど受けることなく、又光伝送路におけ
る光損失などの影響もほとんど受けることなく高精度、
高信頼性にて測定ができる。
ラス系の光ファイバーを光伝送路として用い、第2〜第
4図に示すようなエチレンガスの特性吸収波長帯を利用
すれば遠隔地にあるエチレンガスの濃度を共存するH2
O(水蒸気、水分)やCO2さらには他の炭化水素系ガ
スの影響をほとんど受けることなく、又光伝送路におけ
る光損失などの影響もほとんど受けることなく高精度、
高信頼性にて測定ができる。
次に、本発明のエチレンガス濃度測定装置に用いられる
光源、すなわちエチレンガスの特性吸収波長帯に対応す
る近赤外域の光を発光する光源について説明する。この
波長域の光源としては、一般に半導体レーザーダイオー
ド(LD)、発光ダイオード(LED) 、放電管(キ
セノンランプなど)、加熱線などが挙げられる。いずれ
にしても測定波長域をカバーする光を連続的に、あるい
は1 パルス的に発し、しかも発光エネルギー強度の大きいも
のほど低濃度ガスの検知ができるので望ましい。
光源、すなわちエチレンガスの特性吸収波長帯に対応す
る近赤外域の光を発光する光源について説明する。この
波長域の光源としては、一般に半導体レーザーダイオー
ド(LD)、発光ダイオード(LED) 、放電管(キ
セノンランプなど)、加熱線などが挙げられる。いずれ
にしても測定波長域をカバーする光を連続的に、あるい
は1 パルス的に発し、しかも発光エネルギー強度の大きいも
のほど低濃度ガスの検知ができるので望ましい。
LDは高出力が得られやすく、単色性が強いのでエチレ
ンガスの特性波長帯のようなブロードな波長帯である場
合は発振波長が選びやすく望ましい。ただし、電源電圧
の変動や温度変化などによる発振波長の変動がないよう
に留意する必要がある。又LDを光源として用いる場合
は、参照波長用と測定波長用の少なくとも2つの異なる
LDを用いることが必要であるが、帯域透過フィルター
等の分光器を用いる必要はない。尚、参照波長用のLD
、あるいは測定波長用のLDの一方又は両方において発
光波長の異なるものを複数用いることによって感度や精
度のより高い測定が可能となる。
ンガスの特性波長帯のようなブロードな波長帯である場
合は発振波長が選びやすく望ましい。ただし、電源電圧
の変動や温度変化などによる発振波長の変動がないよう
に留意する必要がある。又LDを光源として用いる場合
は、参照波長用と測定波長用の少なくとも2つの異なる
LDを用いることが必要であるが、帯域透過フィルター
等の分光器を用いる必要はない。尚、参照波長用のLD
、あるいは測定波長用のLDの一方又は両方において発
光波長の異なるものを複数用いることによって感度や精
度のより高い測定が可能となる。
LEDや放電管などは、出力は低いが出力の安定性や長
寿命性などは良い。又、発光スペクトルはブロードであ
るのでこれらの光源を用いる場合には、分光器を用いて
検出波長帯を狭め、所望の特2 性吸収波長帯や参照波長帯での選択した波長における変
化量をキャッチして、エチレンガス濃度を測定するよう
にすればよい。この場合の分光器としては安価な帯域透
過フィルター等が考えられる。本発明の実施例では帯域
透過フィルターを用いた。
寿命性などは良い。又、発光スペクトルはブロードであ
るのでこれらの光源を用いる場合には、分光器を用いて
検出波長帯を狭め、所望の特2 性吸収波長帯や参照波長帯での選択した波長における変
化量をキャッチして、エチレンガス濃度を測定するよう
にすればよい。この場合の分光器としては安価な帯域透
過フィルター等が考えられる。本発明の実施例では帯域
透過フィルターを用いた。
ここで、帯域透過フィルターの透過幅は一般に広く1〜
数am程度であり、被測定ガスの特性吸収波長域が、こ
の透過幅よりも狭い場合は効率的に不利となる。しかし
、本エチレンガスの特性吸収波長帯は前述したように帯
状として存在しているので、このような帯域透過フィル
ターを用いても測定は充分に行なえる。
数am程度であり、被測定ガスの特性吸収波長域が、こ
の透過幅よりも狭い場合は効率的に不利となる。しかし
、本エチレンガスの特性吸収波長帯は前述したように帯
状として存在しているので、このような帯域透過フィル
ターを用いても測定は充分に行なえる。
第7図は中心波長が1.818ILm 、半値幅が5n
mである透過特性がガウス分布型の帯域透過フィルター
を用い、このフィルターを透過した後の光の強度分布を
模式的に示した図である。この図において、破線はエチ
レンガスが光路長50c鵬の測定セル内に850Tor
rの圧力で含まれている場合を表わし、実線はエチレン
ガスが存在しない場合を示し3 ている。この図における各曲線内の面積の差を実線にて
囲まれた面積で割ることによってエチレンガスによる吸
光比Aがめられる。このフィルターは、半値幅が例えば
3nmや7nmのものを用いても良い。
mである透過特性がガウス分布型の帯域透過フィルター
を用い、このフィルターを透過した後の光の強度分布を
模式的に示した図である。この図において、破線はエチ
レンガスが光路長50c鵬の測定セル内に850Tor
rの圧力で含まれている場合を表わし、実線はエチレン
ガスが存在しない場合を示し3 ている。この図における各曲線内の面積の差を実線にて
囲まれた面積で割ることによってエチレンガスによる吸
光比Aがめられる。このフィルターは、半値幅が例えば
3nmや7nmのものを用いても良い。
第8図は上述したような方法にもとづいて構成されたエ
チレンガス濃度測定装置の一実施例を示すものである。
チレンガス濃度測定装置の一実施例を示すものである。
本実施例は測定波長2ケと参照波長1ケを使用してエチ
レンガス濃度を測定する装置である。
レンガス濃度を測定する装置である。
この図において 1はLEDよりなる光源であって、連
続発光またはパルス発光される。同図は連続発光する場
合のブロックダイヤグラムを示したが、パルス発光させ
る場合には、例えばマイクロコンピュータ−からなる信
号処理装置22がパルス信号処理にすぐれた装置である
ことおよびパルス発光のタイミングが信号処理装置22
でわかり、従って信号処理のタイミングのとれる必要の
あることが異なるが、他は連続発光の場合と同様である
。ここでは、1のLED光源が連続発光する場合4 について説明する。lの光源より発光される例えば1.
60km帯(半値幅的0.1pL+a)の光は光結合器
2を経て光伝送路である低伝送損失の光ファイバー、例
えば石英系光ファイバー3に送られる。
続発光またはパルス発光される。同図は連続発光する場
合のブロックダイヤグラムを示したが、パルス発光させ
る場合には、例えばマイクロコンピュータ−からなる信
号処理装置22がパルス信号処理にすぐれた装置である
ことおよびパルス発光のタイミングが信号処理装置22
でわかり、従って信号処理のタイミングのとれる必要の
あることが異なるが、他は連続発光の場合と同様である
。ここでは、1のLED光源が連続発光する場合4 について説明する。lの光源より発光される例えば1.
60km帯(半値幅的0.1pL+a)の光は光結合器
2を経て光伝送路である低伝送損失の光ファイバー、例
えば石英系光ファイバー3に送られる。
この石芙系光ファイバーは前述の第1図に示すような伝
送特性を有し、 1.1−1.7JLmで極めて低伝送
損失のものである。したがって、その長さが数km−1
0km程度のものであっても差しつかえない。この石英
系光ファイバー3により伝送された光は結合器4bを経
て測定セル4に送り込まれる。
送特性を有し、 1.1−1.7JLmで極めて低伝送
損失のものである。したがって、その長さが数km−1
0km程度のものであっても差しつかえない。この石英
系光ファイバー3により伝送された光は結合器4bを経
て測定セル4に送り込まれる。
この測定セル4は円筒状体4aの両端に光結合器4b、
4b’ を設けた構造であって、同筒状体4aは測定ガ
スの自然流出入を可能にするために多孔性焼結金属や連
続気孔構造のプラスチックスフオームなどにて構成され
ている。なお、この測定セル4は円筒状に限定されるも
のでなく、直方体状などの種々の形状の変更が考えられ
る。この測定セル4の光路長(光結合器4b、4b’の
間の距離)は−例として50〜100cmのものが用い
られる。しかしエチレンガスが低い濃度の場合には測定
セルの光5 路長を長くしたほうがよい。その場合、周知の多重光路
型吸収セル等を用いても良い。この測定セル4からの光
は光結合器4b’ を経て低伝送損失の光ファイバー、
例えば石英系光ファイバー5に伝送yれる。この石英系
光ファイバーも同様に低伝送損失のものが使用される。
4b’ を設けた構造であって、同筒状体4aは測定ガ
スの自然流出入を可能にするために多孔性焼結金属や連
続気孔構造のプラスチックスフオームなどにて構成され
ている。なお、この測定セル4は円筒状に限定されるも
のでなく、直方体状などの種々の形状の変更が考えられ
る。この測定セル4の光路長(光結合器4b、4b’の
間の距離)は−例として50〜100cmのものが用い
られる。しかしエチレンガスが低い濃度の場合には測定
セルの光5 路長を長くしたほうがよい。その場合、周知の多重光路
型吸収セル等を用いても良い。この測定セル4からの光
は光結合器4b’ を経て低伝送損失の光ファイバー、
例えば石英系光ファイバー5に伝送yれる。この石英系
光ファイバーも同様に低伝送損失のものが使用される。
光ファイバー5によって更に伝送された光は、光結合器
8を通ってハーフミラ−にて構成されるビームスプリッ
タ−7に送られ、ここでまず2つの光束に分けられる。
8を通ってハーフミラ−にて構成されるビームスプリッ
タ−7に送られ、ここでまず2つの光束に分けられる。
第1の光束8は第1の帯域透過フィルタ8に送られ、第
2の光束10は第2のビームスプリッタ−11に送られ
、ここでさらに2つの光束:第3の光束12および第4
の光束13に分けられる。第3の光束12は第2の帯域
透過フィルタ14に送られ、第4の光束13は、第3の
帯域透過フィルタ15にそれぞれ送られる。
2の光束10は第2のビームスプリッタ−11に送られ
、ここでさらに2つの光束:第3の光束12および第4
の光束13に分けられる。第3の光束12は第2の帯域
透過フィルタ14に送られ、第4の光束13は、第3の
帯域透過フィルタ15にそれぞれ送られる。
これらフィルタ8,14.15はいずれも薄膜による光
の干渉作用を利用した干渉フィルタであり、多層膜干渉
フィルタなどが好適に用いられ、中心波長での透過率が
できるだけ高く、半値幅が2〜56 nmと狭いものが望ましい。そして1例えば、第1のフ
ィルタ8の中心波長は1.618JLmとされ、第2の
フィルタ14の中心波長は1.825ILmとされるか
、あるいはこの逆の組み合わせとされる。また、第3の
フィルタ15の中心波長はエチレンガスの特性吸収波長
以外の波長、例えば1.580 pLmが選ばれる。こ
れらのフィルターの波長は当然ながら水分、炭酸ガスの
特性吸収をほとんど示さない波長として選ばれる。これ
によって、第1のフィルタ8及び第2のフィルタ14を
透過した光はエチレンガスの吸収によって強度の低下し
た1、818JLmまたは 1.8257pmを中心と
する光となり、また、第3のフィルタ15を透過した光
は、エチレンガスでの吸収には無関係な1.580pm
を中心とする波長分布がガウス分布形の光となる。これ
らの光は、それぞれアバランシェフォトダイオード(A
PD)やフォトダイオード(PD) (例えばGe半導
体、PbS検出器)などで構成された第1.第2゜第3
の光検出器18.17.18に送られ、電気信号に変換
され増幅器19,20.21にて増幅されたのち、マイ
7 クロコンピユータ−などから構成された信号処理装置2
2に送られる。信号処理装置22においては、第1の光
検出器1Bで検出された電気信号と、第3の光検出器1
8で検出された電気信号とが比較され、波長1.818
1Lmでのエチレンガスの吸光比Aがめられ、予め標準
エチレンガスでめた吸光比とエチレンガス濃度との関係
を用いて演算処理が行なわれ、測定セル内に存在する気
体中のエチレンガスの 1.818graでの測定濃度
がめられる。これと同時に、第2の光検出器17で検出
された電気信号と第3の光検出器18で検出された電気
信号とが比較され、波長1.625gmでのエチレンガ
スの吸光比A゛がめられ同様にして 1.825p膳で
の測定濃度がめられる。
の干渉作用を利用した干渉フィルタであり、多層膜干渉
フィルタなどが好適に用いられ、中心波長での透過率が
できるだけ高く、半値幅が2〜56 nmと狭いものが望ましい。そして1例えば、第1のフ
ィルタ8の中心波長は1.618JLmとされ、第2の
フィルタ14の中心波長は1.825ILmとされるか
、あるいはこの逆の組み合わせとされる。また、第3の
フィルタ15の中心波長はエチレンガスの特性吸収波長
以外の波長、例えば1.580 pLmが選ばれる。こ
れらのフィルターの波長は当然ながら水分、炭酸ガスの
特性吸収をほとんど示さない波長として選ばれる。これ
によって、第1のフィルタ8及び第2のフィルタ14を
透過した光はエチレンガスの吸収によって強度の低下し
た1、818JLmまたは 1.8257pmを中心と
する光となり、また、第3のフィルタ15を透過した光
は、エチレンガスでの吸収には無関係な1.580pm
を中心とする波長分布がガウス分布形の光となる。これ
らの光は、それぞれアバランシェフォトダイオード(A
PD)やフォトダイオード(PD) (例えばGe半導
体、PbS検出器)などで構成された第1.第2゜第3
の光検出器18.17.18に送られ、電気信号に変換
され増幅器19,20.21にて増幅されたのち、マイ
7 クロコンピユータ−などから構成された信号処理装置2
2に送られる。信号処理装置22においては、第1の光
検出器1Bで検出された電気信号と、第3の光検出器1
8で検出された電気信号とが比較され、波長1.818
1Lmでのエチレンガスの吸光比Aがめられ、予め標準
エチレンガスでめた吸光比とエチレンガス濃度との関係
を用いて演算処理が行なわれ、測定セル内に存在する気
体中のエチレンガスの 1.818graでの測定濃度
がめられる。これと同時に、第2の光検出器17で検出
された電気信号と第3の光検出器18で検出された電気
信号とが比較され、波長1.625gmでのエチレンガ
スの吸光比A゛がめられ同様にして 1.825p膳で
の測定濃度がめられる。
そして、これら2つの測定濃度は、さらに相互に比較さ
れ両者が誤差範囲内で同一の場合はその結果が測定セル
4内の気体のエチレンガス濃度として表示器23に表示
される。また、両者の間に所定値以上の偏差のある場合
には、測定セル4内の気体にはエチレンガス以外の不測
のガス、例8 えば炭化水素系ガスが含まれていて、そのガスの特性吸
収波長とエチレンのそれとが重なるために生じた結果で
あるか、あるいは測定装置の光結合器6以降の部分:ビ
ームスプリツタ7.1+、帯域透過フィルタ 9.+4
.15.光検出器If(,17,+8.増幅器IJ20
.21に異常を生じたことを意味するので、その旨の表
示が表示器23に示される。なお、光結合器6と941
のビームスプリッタ7との間にテスト用発光源を設け、
」1記異常時に光結合器6からの光を遮断し、」1記テ
スト用光源を発光させて測定装置自体の異常を判断でき
るようにすれば、装置の信頼性があがる。
れ両者が誤差範囲内で同一の場合はその結果が測定セル
4内の気体のエチレンガス濃度として表示器23に表示
される。また、両者の間に所定値以上の偏差のある場合
には、測定セル4内の気体にはエチレンガス以外の不測
のガス、例8 えば炭化水素系ガスが含まれていて、そのガスの特性吸
収波長とエチレンのそれとが重なるために生じた結果で
あるか、あるいは測定装置の光結合器6以降の部分:ビ
ームスプリツタ7.1+、帯域透過フィルタ 9.+4
.15.光検出器If(,17,+8.増幅器IJ20
.21に異常を生じたことを意味するので、その旨の表
示が表示器23に示される。なお、光結合器6と941
のビームスプリッタ7との間にテスト用発光源を設け、
」1記異常時に光結合器6からの光を遮断し、」1記テ
スト用光源を発光させて測定装置自体の異常を判断でき
るようにすれば、装置の信頼性があがる。
第9図は、この発明の測定装置の他の例を示すものであ
る。この例では、測定セル4を出た光はたとえば石英系
光ファイバーのような低損失の光ファイバー5を通り、
光分岐路24によって3つの光束に分けられ、それぞれ
光結合器25.2B、2?からチョッパ28を経て、第
1のフィルタ8、第2のフィルタ14、第3のフィルタ
15に送り込まれる点と、第1の光検出器16と第3の
光検出器18とから9 の電気信号が増幅器28に送られ、第2の光検出器17
と第3の光検出器1日とからの電気信号が増幅器30に
送られる点が前例と異なるところである。この例ではチ
ョッパ28によって光検出器16.17.18からの電
気信号が交流となり、増幅等が容易である利点がある。
る。この例では、測定セル4を出た光はたとえば石英系
光ファイバーのような低損失の光ファイバー5を通り、
光分岐路24によって3つの光束に分けられ、それぞれ
光結合器25.2B、2?からチョッパ28を経て、第
1のフィルタ8、第2のフィルタ14、第3のフィルタ
15に送り込まれる点と、第1の光検出器16と第3の
光検出器18とから9 の電気信号が増幅器28に送られ、第2の光検出器17
と第3の光検出器1日とからの電気信号が増幅器30に
送られる点が前例と異なるところである。この例ではチ
ョッパ28によって光検出器16.17.18からの電
気信号が交流となり、増幅等が容易である利点がある。
なお、上記例に限られず、光源1からの光を光分岐路で
複数の光に分割し、これら光を別々の石英系光ファイバ
ー3で複数の測定セル4・・・・・・に送り込み、複数
の地点でのエチレンガスを同時に測定するよう構成する
こともできる。
複数の光に分割し、これら光を別々の石英系光ファイバ
ー3で複数の測定セル4・・・・・・に送り込み、複数
の地点でのエチレンガスを同時に測定するよう構成する
こともできる。
第1O図は本発明の測定装置の第3の実施例を示す図で
ある。LEDよりなる光源1をパルス発光させるために
、マイクロコンピュータ−からなる信号処理装置22か
ら信号が送られる。もっともこの信号を送らないで光源
lを連続発光として使用してもよい。測定セル4を通過
した光は光ファイバー5によって伝送されて光結合器6
へ送られる。ここで、(帯域透過)フィルターJI4.
15を有する回転セクター31によって、順次参照波長
、0 測定波長の光が光検出器16ヘパルス信号として送られ
る。このパルス信号がどの波長の光であるかは回転セク
ターに別途設けられたフォトダイオード等の受光器とラ
ンプからなる同期信号発生器32.33.34の信号が
信号処理装置22へ送られることによって知られる。信
号処理については前述した内容と同じである。
ある。LEDよりなる光源1をパルス発光させるために
、マイクロコンピュータ−からなる信号処理装置22か
ら信号が送られる。もっともこの信号を送らないで光源
lを連続発光として使用してもよい。測定セル4を通過
した光は光ファイバー5によって伝送されて光結合器6
へ送られる。ここで、(帯域透過)フィルターJI4.
15を有する回転セクター31によって、順次参照波長
、0 測定波長の光が光検出器16ヘパルス信号として送られ
る。このパルス信号がどの波長の光であるかは回転セク
ターに別途設けられたフォトダイオード等の受光器とラ
ンプからなる同期信号発生器32.33.34の信号が
信号処理装置22へ送られることによって知られる。信
号処理については前述した内容と同じである。
本実施例では光検出器、増幅器が各々1ケで済ませられ
るなどメリットが大きい。また、最近のマイクロコンピ
ュータ−の普及のめざましいこと、廉価化が進んでいる
ことを考えれば、実用上非常に有効な装置である。
るなどメリットが大きい。また、最近のマイクロコンピ
ュータ−の普及のめざましいこと、廉価化が進んでいる
ことを考えれば、実用上非常に有効な装置である。
第11図は、本発明の測定装置の第4の例を示す図であ
る。この例では、発光源としてLDを用いたもので、例
えばエチレンガスの特性吸収波長帯内の波長である1、
8245 p、 rsを発光の中心波長(測定波長)と
する第1の発光源1aと前記の特性吸収波長以外の波長
である1、580gmを発光の中心波長(参照波長)と
する第2の発光源1bとの2つの発光源を用いている点
と多層膜干渉フィルタ等の1 帯域透過フィルタ(分光器)を使用していない点で他の
例と異なっている。これらLDは参照波長用、測定波長
用各々において、1つ以上用いてもよいことはLEDを
発光源とした説明と同様である。
る。この例では、発光源としてLDを用いたもので、例
えばエチレンガスの特性吸収波長帯内の波長である1、
8245 p、 rsを発光の中心波長(測定波長)と
する第1の発光源1aと前記の特性吸収波長以外の波長
である1、580gmを発光の中心波長(参照波長)と
する第2の発光源1bとの2つの発光源を用いている点
と多層膜干渉フィルタ等の1 帯域透過フィルタ(分光器)を使用していない点で他の
例と異なっている。これらLDは参照波長用、測定波長
用各々において、1つ以上用いてもよいことはLEDを
発光源とした説明と同様である。
なお、LEDを発光源とした場合でも干渉フィルタを使
わないで済む点について述べる。Ll)に比してLED
の発光波長はブロードであるが、その幅(半値幅)は約
0.1pLmである。したがって、本発明のエチレンガ
スの場合1.85 p、 rnを中心波長とする発光ダ
イオードと中心波長が1.557Lmを中心とする発光
ダイオードを各々測定用、参照用として用いれば、LD
の場合と同様の測定が可能となる。この場合、測定のた
めの光量は大となるが波長が選択的でないため、他の混
在ガスの影響がやや大きくなり測定精度、信頼性にやや
欠けることが推測される。
わないで済む点について述べる。Ll)に比してLED
の発光波長はブロードであるが、その幅(半値幅)は約
0.1pLmである。したがって、本発明のエチレンガ
スの場合1.85 p、 rnを中心波長とする発光ダ
イオードと中心波長が1.557Lmを中心とする発光
ダイオードを各々測定用、参照用として用いれば、LD
の場合と同様の測定が可能となる。この場合、測定のた
めの光量は大となるが波長が選択的でないため、他の混
在ガスの影響がやや大きくなり測定精度、信頼性にやや
欠けることが推測される。
この第11図の例では第1の発光源と第2の発光源とか
らの光はチョッパ28によって交互に送られ、光ファイ
バー3a、3b、光合波器35.他の光ファ2 イバ−30にて伝送されて測定セル4に送られる。
らの光はチョッパ28によって交互に送られ、光ファイ
バー3a、3b、光合波器35.他の光ファ2 イバ−30にて伝送されて測定セル4に送られる。
更に、測定セル4を通った光は、光ファイバー5により
伝送されて光検出器16にて検出される。光検出器16
よりの出力電気信号は増幅器19にて増幅され信号処理
装置22に於て演算等が行なわれ、表示器23にて濃度
が表示される。尚、32はランプとフォトダイオード等
の受光器からなり、第1の発光源か第2の発光源かを判
別する同期信号発生器で、この発生器32からの信号に
もとづいて検出器16からの電気信号を判別する。
伝送されて光検出器16にて検出される。光検出器16
よりの出力電気信号は増幅器19にて増幅され信号処理
装置22に於て演算等が行なわれ、表示器23にて濃度
が表示される。尚、32はランプとフォトダイオード等
の受光器からなり、第1の発光源か第2の発光源かを判
別する同期信号発生器で、この発生器32からの信号に
もとづいて検出器16からの電気信号を判別する。
光ファイバーを用いて遠隔ガス検知する場合、光ファイ
バーを往復用に別々、光伝送路として使用するよりもな
るべく1本の光ファイバー(例えLflkm)を用いて
往復光路とした方が価格上有利である点を考慮した装置
について述べる。
バーを往復用に別々、光伝送路として使用するよりもな
るべく1本の光ファイバー(例えLflkm)を用いて
往復光路とした方が価格上有利である点を考慮した装置
について述べる。
第12図(a)(b)は光分波器36と光合波器37を
用いて、光フγイノ<−3を光の往復用の長距膠ファイ
バーとして用いたものである。(a)は光が測定セル4
の一方から入射し、測定セル4の他方へ伝送する形式を
示し、(b)は測定セル4内で反射ミ3 ラー38によって光が入射側に戻される形式を示しであ
る。いずれにおいても、遠隔地まで光を伝送するファイ
バーは往路用、復路用を兼ねる1本の光ファイバー3で
あって、第二の光ファイバー5はほんの一部しか使われ
ないため光ファイバーのコストが半分になる。なお、光
分波器38は1本の光ファイバーから複数本の光ファイ
バーへ伝送光を分波し、また光合波器37は複数本の光
ファイバーから1本の光ファイバーへ伝送光を合波する
ために用いられている。
用いて、光フγイノ<−3を光の往復用の長距膠ファイ
バーとして用いたものである。(a)は光が測定セル4
の一方から入射し、測定セル4の他方へ伝送する形式を
示し、(b)は測定セル4内で反射ミ3 ラー38によって光が入射側に戻される形式を示しであ
る。いずれにおいても、遠隔地まで光を伝送するファイ
バーは往路用、復路用を兼ねる1本の光ファイバー3で
あって、第二の光ファイバー5はほんの一部しか使われ
ないため光ファイバーのコストが半分になる。なお、光
分波器38は1本の光ファイバーから複数本の光ファイ
バーへ伝送光を分波し、また光合波器37は複数本の光
ファイバーから1本の光ファイバーへ伝送光を合波する
ために用いられている。
回路のその他の詳細は前述した例と同様である。
以上説明した様に本発明のエチレンガス濃度の測定方法
によれば、エチレンガスの特性吸収波長帯で、光ファイ
バーの最も低損失な波長領域でしかもC02,H2Oの
吸収帯がほとんど存在しない狭い波長帯を選択してエチ
レンガス濃度を測定するものであるから、極めて遠隔な
地点より002゜820等の影響をほとんど受けること
なく高精度の測定が可能である。又、本発明の装置によ
れば、4 発光源としてLDや安定性のよいLEDを、また光伝送
路として低伝送損失の石英系光ファイバーを、波長選択
に安価な帯域透過フィルターを用いたものであるから、
遠隔地点における測定を電磁誘導を受けたり、ケーブル
断線時の短絡事故を生ずることなしに行なえ、しかも広
い地域にわたって配置された複数の測定セルでの測定を
集中監視する場合などに好適である。また、吸光光度法
を利用しての測定であるので、実時間測定が可能であり
、エチレンガス濃度の変動に対して迅速な対応が可能で
あって、実用性の高い、高信頼性、高精度の装置が提供
できる。
によれば、エチレンガスの特性吸収波長帯で、光ファイ
バーの最も低損失な波長領域でしかもC02,H2Oの
吸収帯がほとんど存在しない狭い波長帯を選択してエチ
レンガス濃度を測定するものであるから、極めて遠隔な
地点より002゜820等の影響をほとんど受けること
なく高精度の測定が可能である。又、本発明の装置によ
れば、4 発光源としてLDや安定性のよいLEDを、また光伝送
路として低伝送損失の石英系光ファイバーを、波長選択
に安価な帯域透過フィルターを用いたものであるから、
遠隔地点における測定を電磁誘導を受けたり、ケーブル
断線時の短絡事故を生ずることなしに行なえ、しかも広
い地域にわたって配置された複数の測定セルでの測定を
集中監視する場合などに好適である。また、吸光光度法
を利用しての測定であるので、実時間測定が可能であり
、エチレンガス濃度の変動に対して迅速な対応が可能で
あって、実用性の高い、高信頼性、高精度の装置が提供
できる。
第1図は石芙系光ファイバーの0,6〜1,8ルmの波
長域における伝送損失を示すグラフである。 第2〜5図はエチレンガスの特性吸収を示す図であり第
6図はH2Oの特性吸収を示す図である。 第7図は帯域透過フィルター透過後の光の強度分布を模
式的に示した図である。 第8図は本発明にかかるエチレンガス濃度測定5 装置の一実施例を示すものであり、1−光源。 2−光結合器、3−光ファイバー、4−測定セル。 4a−円筒状体、4b、4b″−光結合器、5−光ファ
イバー、6−光結合器、?、I+−ビームスプリッター
18、+0.12.13−光束、 9,14.15−帯
域透過フィルター、18.17.18−光検出器、18
,20.21−増幅器。 22−信号処理装置、23−表示器である。 第9図は本発明の他の実施例であって 1〜23は第8
図と同じ、 24−光分岐器、25.26.2?−光結
合器、28−チョッパ、 29.30−増幅器である。 第1O図は本発明の第3の実施例であって1〜30は第
9図と同じ、 31一回転セクター。 32.33.34−同期信号発生器である。 第11図は本発明の第4の実施例で Ia、lb−発光
源、3a、3b、3c−光7フィバ−,1−34は第1
0図と同じ、 35−光合波器、36−光分波器、37
−光合波器である。 第12図は本発明の実施例中、光の往復用の長距離ファ
イバー3を用いたもので1〜35は第11図と同じ、3
6.3?−先位相差器、38−反射ミラーで6 ある。 27 壁親蒙ボ≦ 1.615 1.620 1618 波長刃m 第8図 番 受光系へ 番 受光系へ 第12図
長域における伝送損失を示すグラフである。 第2〜5図はエチレンガスの特性吸収を示す図であり第
6図はH2Oの特性吸収を示す図である。 第7図は帯域透過フィルター透過後の光の強度分布を模
式的に示した図である。 第8図は本発明にかかるエチレンガス濃度測定5 装置の一実施例を示すものであり、1−光源。 2−光結合器、3−光ファイバー、4−測定セル。 4a−円筒状体、4b、4b″−光結合器、5−光ファ
イバー、6−光結合器、?、I+−ビームスプリッター
18、+0.12.13−光束、 9,14.15−帯
域透過フィルター、18.17.18−光検出器、18
,20.21−増幅器。 22−信号処理装置、23−表示器である。 第9図は本発明の他の実施例であって 1〜23は第8
図と同じ、 24−光分岐器、25.26.2?−光結
合器、28−チョッパ、 29.30−増幅器である。 第1O図は本発明の第3の実施例であって1〜30は第
9図と同じ、 31一回転セクター。 32.33.34−同期信号発生器である。 第11図は本発明の第4の実施例で Ia、lb−発光
源、3a、3b、3c−光7フィバ−,1−34は第1
0図と同じ、 35−光合波器、36−光分波器、37
−光合波器である。 第12図は本発明の実施例中、光の往復用の長距離ファ
イバー3を用いたもので1〜35は第11図と同じ、3
6.3?−先位相差器、38−反射ミラーで6 ある。 27 壁親蒙ボ≦ 1.615 1.620 1618 波長刃m 第8図 番 受光系へ 番 受光系へ 第12図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (+) 連続光またはパルス光を発する発光源からの光
を伝送損失の小さい光ファイバーを通して、雰囲気ガス
の流出入する測定セルへ伝送し、該測定セルを通った後
、他の光ファイバーを通して伝送するか、あるいは他の
光ファイバーから光合波器と光分波器とによって前記光
フアイバー中を逆行させるがごとくして伝送して、光検
出器にて検出して吸光光度法にてガス濃度を検出する方
法で、エチレンガスの特性吸収波長帯である1、Eil
O〜1.7051Lmの波長帯内の少なくとも1つの波
長を中心波長とした光を測定光とし、前記特性吸収波長
帯以外の波長帯において、少なくとも1つの波長を中心
波長とした光を参照光とし、前記測定光と前記参照光を
検出器にて検出して、その比をめることによって濃度を
測定することを特徴とするエチレンガス濃度の測定方法
。 (2) エチレンガスの特性吸収波長帯である1、81
0〜1.705 p、tgの波長領域内の波長を少なく
とも含んでいる波長領域の光を連続的あるいはパルス的
に発する発光源と雰囲気ガスの流出入する測定セルと、
前記発光源の光を前記測定セルへ伝送するために用いら
れる前記波長領域での伝送損失の少ない第1の光ファイ
バーと、前記測定セルからの光を光検出器へ伝送するた
めに用いられる前記波長領域での伝送損失の少ない第2
の光ファイバーと、前記測定セルからの光を前記特性吸
収波長帯内の少なくとも1つの波長を中心波長とする光
(測定光)と、特性吸収波長帯外の波長帯において、少
なくとも1つの波長を中心波長とした光(参照光)とに
分光する分光器と、前記分光器にて分光された測定光と
参照光の光を検出する検出器と、前記検出器で検出され
た両者の光の強さにもとづいて濃度をめるための演算処
理装置とを備えたエチレンガス濃度測定装置。 (3) 第2の光ファイバーの一部は、第1の光ファイ
バーに光合波器と光分波器を用いることによって省略さ
れ、測定セルを通った後の光は第2の光ファイバーの一
部と第1の光ファイバーにて伝送され、光検出器へ達す
るように構成された第(2)項記載の測定装置。 (4) エチレンガスの特性吸収波長帯である1、61
0〜1.705pmの波長帯内の少なくとも1つの波長
を中心波長とする光を発するレーザーダイオードと 前
記特性吸収帯外の波長帯において、少なくとも1つの波
長を中心波長とする光を発するレーザーダイオードとを
含む少なくとも2ヶ以上のレーザーダイオードから成る
発光源と、雰囲気ガスの流出入する測定セルと、前記発
光源からの光を前記測定セルへ伝送するための伝送損失
の少ない光ファイバーと、前記測定セルを通った後の光
を検出器へ伝送する伝送損失の少ない第2の光ファイバ
ーと、該光ファイバーにより伝送された光を検出する光
検出器とを備え、前記特性吸収帯内の波長の光(測定光
)と、それ以外の波長帯の波長の光(参照光)の強度を
検出し1両者の強度比をめることによって、カス濃度を
測定することを特徴とするエチレンガス濃度測定装置。 (5) 第2の光ファイバーの一部は、第1の光ファイ
バーに光合波器と光分波器を用いることによって省略さ
れ、測定セルを通った後の光は第2の光ファイバーの一
部と第1の光ファイバーにて伝送され、光検1]j器へ
達するように構成された第(4)項記載の測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58206923A JPS60100034A (ja) | 1983-11-05 | 1983-11-05 | エチレンガス濃度測定法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58206923A JPS60100034A (ja) | 1983-11-05 | 1983-11-05 | エチレンガス濃度測定法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60100034A true JPS60100034A (ja) | 1985-06-03 |
JPH0220936B2 JPH0220936B2 (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=16531314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58206923A Granted JPS60100034A (ja) | 1983-11-05 | 1983-11-05 | エチレンガス濃度測定法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60100034A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0550537A1 (en) * | 1990-09-26 | 1993-07-14 | Futrex Inc | METHOD AND MEANS FOR PRODUCING SYNTHETIC SPECTRUMS PROVIDING QUANTITATIVE MEASUREMENTS IN NEAR INFRARED MEASUREMENT INSTRUMENTS. |
JP2006215013A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Shibata Kagaku Kk | 透過光量測定装置及び相対吸光度測定装置、並びにこれらの測定方法 |
JP2007212145A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 過渡吸収測定装置 |
US20130091928A1 (en) * | 2011-10-18 | 2013-04-18 | Tateh Wu | Airborne impurities detection |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001235421A (ja) * | 2000-12-27 | 2001-08-31 | Idec Izumi Corp | 光電スイッチ |
-
1983
- 1983-11-05 JP JP58206923A patent/JPS60100034A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0550537A1 (en) * | 1990-09-26 | 1993-07-14 | Futrex Inc | METHOD AND MEANS FOR PRODUCING SYNTHETIC SPECTRUMS PROVIDING QUANTITATIVE MEASUREMENTS IN NEAR INFRARED MEASUREMENT INSTRUMENTS. |
JP2006215013A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Shibata Kagaku Kk | 透過光量測定装置及び相対吸光度測定装置、並びにこれらの測定方法 |
JP2007212145A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 過渡吸収測定装置 |
US20130091928A1 (en) * | 2011-10-18 | 2013-04-18 | Tateh Wu | Airborne impurities detection |
US8899097B2 (en) * | 2011-10-18 | 2014-12-02 | The Boeing Company | Airborne impurities detection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0220936B2 (ja) | 1990-05-11 |
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