JPH0220704B2

JPH0220704B2 -

Info

Publication number: JPH0220704B2
Application number: JP61299900A
Authority: JP
Inventors: Osamu Tabata; Saburo Kimura; Hiromi Sumimura
Original assignee: Agency of Industrial Science and Technology
Current assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 1986-12-18
Filing date: 1986-12-18
Publication date: 1990-05-10
Also published as: JPS63157874A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は直管型管材の内面に薄膜をコートする
方法とその装置に関し、より詳細には、直管型素
材ガラス管の内面にレーザ・ビームを用いて、た
とえば蛍光灯瞬間点灯膜をコートする方法とその
装置に関する。

〔従来技術〕

瞬間点灯を目的として、蛍光灯内面にコートさ
れる導電膜としては、１耐熱・耐プラズマ性が高いこと、２低抵抗膜であること、（数KΩ／sq以下）３均一性が良好であること、４灯管の両端部に着膜しないことが望まれる。

現在、１），２）については、SnO₂膜を使用
し、実用上の要求は満されている。しかし、蛍光
灯にとつて、一層重要なのは、３），４）である。

すなわち、蛍光灯の管軸方向の膜抵抗分布が不
均一であると、照明ムラや点灯が不安定になる。
また、素材ガラス管の両端まで、SnO₂膜を着膜
すると、正常に起動電圧がかかりにくくなり、点
灯が遅跌する。その上、SnO₂膜で覆われた管端
への電極ソケツトの溶着が困難となる。従つて、
理想的な管内点灯膜コーテイングは、管の両端か
ら、数cmは入つた所までに留めたものとなる。そ
こで、管端部に着膜することなく、発光部全体に
亘つて均一な導電膜をコーテイングすることが、
生産上是非共必要となる。

ところで、現在の生産工程の主流は、スプレー
法による連続方法である。すなわち、素材ガラス
管は、コンベヤーで運ばれ、トンネル炉で数百度
に加熱され、速やかにコーテイング位置に達す
る。ここには、原料ガス噴射ノズルと排気用吸引
管から成る一組のスプレー装置が備えてある。従
つて、順次原料ガスを、この高温のガラス管内
に、0.5秒程度噴射して、量産効果をあげている。

しかしながら、この形式の連続生産工程による
限り、内面コーテイング膜の膜厚・組成・抵抗値
の不均一分布は必ず発生する。それは、吹き込ま
れた原料ガスは、進行するに従つて、濃度が下
り、反応生成粒子や廃ガスが増加して行くためで
ある。また、原料ガスは、必ず管端を通過しなけ
ればならないので、管端着膜は避けられない。

また、素材ガラス管の連続加熱のため、大きな
床面積と、長い加熱時間と数十KWを超える大電
力を要する。また、原料ガスは腐蝕・有害性が強
く、装置・施設の蝕損や、人体障害を起す怖れが
ある。

そこで、化学的に除去するエツチング法、コー
テイングに先立つて、TiO₂粉末を管端に塗布・
剥離するマスキング法、原料薬液を入れた長いボ
ートを、毎回挿入し、必要区間に気化・蒸着する
ボート法、或いは、ノズルと排気管を管の両端か
ら、所要長さ差し込む挿入法等、相継いで考案さ
れたが、生産速度が伴わないため実用されない。

〔発明の目的〕

本発明は蛍光灯内面に導電膜をコートする方法
の主流となつている上記従来の連続スプレー法の
欠点を抜本的に改善することを目的とし、レーザ
光を用いることによりコーテイング膜の均一化、
管端着膜の防止と併せて、工程の小規模化、高速
化、省エネルギー化、無公害化を達成せんとする
ものである。

〔発明の構成〕

上記目的を達成する本発明の直管型管材の内面
に薄膜をコートする方法は、直管型管材の内面に
向けてレーザ・ビームと薄膜形成用原料ガスを導
入して該管材の内面に薄膜をコートする方法にお
いて、前記レーザ・ビームの照射部と前記薄膜形
成用原料ガスの噴射部を前記管材内を往復移動さ
せると共に、前記レーザ・ビーム照射部が前記直
管型管材内に侵入するとき、および前記レーザ・
ビーム照射部が前記直管型管材内より脱出すると
きに該レーザ・ビームの照射よりも遅れて前記薄
膜形成用原料ガスを噴射させることを特徴とする
ものである。

また本発明の直管型管材の内面に薄膜をコート
する装置は、先端にレーザ・ビーム照射孔を有す
る中空ビーム管と、先端に原料ガス噴射孔を有
し、該ビーム管に沿つて取りつけた複数の薄膜形
成用原料ガス噴射管とからなるレーザ・コーテイ
ング・アームを有し、該アームは直管型管材内を
往復移動可能であり、該原料ガス噴射孔が前記レ
ーザ・ビーム噴射孔よりも先行する位置および遅
れた位置にそれぞれ位置することを特徴とするも
のである。

まず本発明の薄膜コート装置を図面に示した実
施例により説明する。第１図Ａはこの装置におけ
るレーザ・コーテイング・アームの構造概要図で
ある。

このコーテイング・アーム２は、１本の中空
管、たとえば金属製の中空ビーム管４とその両側
に２本の細い原料ガス噴射管１０を第１図Ｂ、第
１図Ｃの如く密着して取付け、管材、たとえば蛍
光灯ガラス管１２への出入を容易にしたものであ
る。

先ず、CO₂レーザ発振装置１の光ビーム噴出部
に、このビーム管４を取付ける。ビーム管４の全
長は、コーテイングを施す蛍光灯ガラス管１２よ
り、常に長くなければならない。また、ビーム管
２は強度の許す限り、出来るだけ細くする必要が
ある。しかし、使用するビーム光の太さを下廻る
ことは好ましくなく、従つて、少なくとも直径10
mm以上であることが好ましい。更に、ビーム管の
内面は、直進ビームの消失を防止するため、鏡面
に仕上げ、金膜コーテイングを施こすことが好ま
しい。

また、このビーム管の先端部側壁には、照射孔
９が開けられており、中には、45゜の傾斜姿勢で
照射ミラー８、好ましくは金メツキをした照射ミ
ラーが取付けられている。従つて、ビーム管４の
中を直進して来たレーザ光は、直角又はそれに近
い角度で反射され、矢印Ｌの方向に照射孔９から
飛び出し、ガラス管１２の内面を直射・加熱す
る。なお、CO₂レーザ発振装置１との接続部には
シヤツター室３を設け、ビームシヤツター５、ビ
ーム・レンズ６、パージ・ガス端子７が取付けら
れている。このパージ・ガスは、Ar，N₂或はHe
等で、ビーム管内の汚染を防止し、照射ミラー８
を冷却するため、常時先端へ向けて適量流すのが
好ましい。

一方、ビーム管２の両側に取りつけた２本の原
料ガス噴射管１０，１０の先端部側壁には原料ガ
ス噴射孔Ｐ，Ｑが設けられ、この噴射孔Ｐ，Ｑ
は、一方のＰは照射孔９の位置より、僅かに長
く、他方のＱは逆かに短かくする。これはレーザ
照射とガラス面の温度上昇との間に若干（0.5秒
以下）の時間遅れがあるためである。また、どち
らの噴射孔Ｐ，Ｑも、レーザ・ビームが描く加熱
線上にガスを送るべく、第１図Ｂ、第１図Ｃの如
く、内方へ傾けられている。

この２本の原料ガス噴射管１０，１０は、シヤ
ツター室３の近くで、単管に繋がり、原料ガス源
に至る。原料ガス源としては、原料蒸気発生器、
反応ガス及びキヤリア・ガス・ボンベからなる通
常のCVDガス系を用いる。

次に上記した薄膜コート装置を用いての薄膜コ
ート方法について説明する。このコート方法は水
平型コート方法ａと垂直型コート方法ｂと二分さ
れる。

ａ水平型コート方法第２図に管材としてガラス管を用いる場合の水
平型コーテイング工程の全体を示す。レーザ・ビ
ーム・コーテイング・アーム２と素材ガラス管走
行系１５，１６を、コンベヤー１８を挟んで、相
対して、水平に配置し、その周辺及び空間に、素
材ガラス管ストツカー１７、ドラフト・ユニツト
１９、原料ガス系１３，１４を配置する。従つ
て、工程全体が極めて、小規模化、簡易化され
る。

コーテイングを行なうには、レーザ・ビームと
原料ガスを発生し、ストツカー１７の素材ガラス
管を走行台１５に乗せ、これを駆動装置１６によ
り、矢印Ｍで示すようにコーテイング・アーム２
を呑込み、吐出す如く、水平に往復運動をさせ
る。この際、コーテイング・アーム２からの原料
ガスの噴射は、原則として、レーザ・ビームが先
行する如く行なう。すなわち、コーテイング・ア
ーム２が、ガラス管１２内に侵入する時は、第１
図Ｂの噴射孔Ｑから、また、脱出に際しては噴射
孔Ｐから噴射する。すると、ガラス管１２の内面
では、レーザ・ビームによる表面加熱と膜蒸着と
が同時に起り、コーテイングが遂行される。走行
台１５の水平駆動には、空気圧或いは電動等の方
式による。若し、素材ガラス管に回転或いは定振
幅振動等を与えれば、一様な連続膜や螺線・波形
膜をコートすることが出来る。

走行台１５の速度、すなわち、コーテイング速
度は、コーテイングしようとする膜厚、レーザ・
ビームの強度、原料ガスの濃度と深い関係があ
る。発明者等の実験によると、一定原料ガス濃度
の下で、一定厚さの膜をコーテイングする場合、
走行速度はレーザ・ビーム出力に比例した。例え
ば、後述の実施例と類似の原料ガス濃度で、厚さ
1500ÅのSnO₂導電膜をコートしたが、レーザ出
力を100，200，500，1KWと増加することによ
り、走行台速度を24cm／秒から73，160，290cm／
秒と増加することが出来た。

従つて高出力のレーザを使用すれば、１ｍを超
える長尺の蛍光灯管を、秒単位、或いはそれ以下
の速さでコーテイングすることが可能である。し
かも、何等の補助加熱をも必要としない。すなわ
ち、最少限の熱エネルギーで、高速度のコーテイ
ングを実施することが出来るのである。

この時、レーザ・ビーム強度を電気的に、微細
に制御・変調すれば、管内部の任意の区間に、所
望の厚さに変調コーテイングすることも可能であ
る。また、走行台上の素材ガラス管に、適宜回転
或いは一定周期の振動を与えれば、螺線とかジグ
ザグ膜をコートすることも可能である。すなわ
ち、自動化による高機能性を発揮させることが出
来るのである。

因に、走行台１５が疾走中、鋭いレーザ・ビー
ム照射による高温スポツト（推定1000℃以上）
が、素材ガラス管の内面を切り裂くように走る。
この為、ガラス管の破裂が懸念される。しかし、
この熱破裂力は、瞬時に、ガラス管の周囲を廻つ
て、相殺応力となり、破壊を阻止する。すなわ
ち、ガラス管の、かかる好都合な力学条件が、レ
ーザ光による点灯膜の高速度コーテイングを可能
ならしめるのである。

ｂ垂直型コート法上記、水平走行型法で、長尺ガラス管（１ｍ以
上とする）をコートするには、コーテイング・ア
ームに附属するビーム管もガラス管に対応して、
長尺になり、撓みを生じやすい。その結果、稀
に、往復運動中に、素材ガラス管と衝突したり、
差し違えたりすることが起る。

かかる事態を完全に解消するには、第３図の垂
直走行方式が有効である。すなわち、レーザ発振
装置１からのレーザ・ビームを反射ミラー５で、
垂直に、下向きに転向し、同じく垂直に保持した
レーザ・ビーム・コーテイング・アーム２に対
し、走行台１５を垂直に上下駆動する。かくし
て、長尺管の内面コーテイングに対して万全を期
すことが出来る。

本発明での使用レーザは、原料ガスに対して、
光分解及び熱分解を誘発するものであれば、自由
に利用出来る。それ等の代表的なものとして、各
種エキシマ・レーザ（波長193−300nm），N₂
（337nm），He−Cd（441325nm），Ar（514−
368nm），Kr（647−356nm），Cu⁺（578nm）、ルビ
（694347nm），YAG（1.06μm），CO₂（10.6μm）レ
ーザ等が挙げられる。

また、光・熱分解の対称とされる原料物質は、
金属のハロゲン化物（MCln、但しＭは金属原
子）、水素化物（HMn）、アルキル化合物
（（CnH₂n_-1）Ｍ）、カルボニル化合物（（CO）
nM）、カルボン酸塩（（COO）nM）、アミン化合
物（（HN）nM）、イソニトリル化合物（（Ｎ≡
Ｏ）Ｍ）、及びO₂，N₂O，CO₂，H₂O₂，NH₃，
H₂，Ｆ等の軽原素ガス等、通常的に、豊富に存
在する。

更に、コーテイングされる直管型管材として
は、一般金属材料、半導体、セラミツクス、ガラ
ス、等特別に制限を受けるものはない。

〔発明の効果〕

本発明によれば下記の効果を奏することができ
る。

(イ) すなわち本発明の方法および装置（以下本発
明）は、レーザ・ビーム先行、原料ガスの遅延
噴射によるものである。

レーザ・ビームで管材内面を照射すると、照
射部の温度が原料ガスの反応温度（通常では
500℃以上）に達するまでに５秒程度かかる。

この場合、管内に原料ガスが多量に存在する
と、この時間遅れは一層大きくなり、１〜数秒
程度になる。

この原因は、レーザ・ビームよりも早期に噴
射された原料ガスの冷却作用によります。

そこで本発明では、原料ガス噴射孔をレー
ザ・ビーム噴射孔よりも先行する位置および遅
れた位置にそれぞれ設け、レーザ・ビーム照射
部が直管型管材内に侵入するとき、およびレー
ザ・ビーム照射部が直管型管材内より脱出する
ときにレーザ・ビームの照射よりも遅れて薄膜
形成用原料ガスを噴射させる、すなわち原料ガ
スを遅延噴射させるようにした。

つまり、レーザ・ビームによつて管材内面が
まず加熱され、次いでこの加熱された管材内面
に薄膜形成用原料ガスが噴射される。

また、原料ガスは単に導入するのではなく、
先行加熱された管材内面に噴射される。

すなわち、加熱された管材内面を衝撃するこ
とができる。

かくして、原料ガス噴射と膜形成を同時に起
こすことが可能になり、この遅延噴射によつて
下記の効果を奏することができる。

イ膜形成の高速化、生産性の向上を達成する
ことができる。

先行するレーザ・ビーム照射によつて既に反応
温度に達した管材内面に原料ガスを噴射するの
で、膜形成は瞬時に行われ、最大値に達する。

すなわち、膜形成速度は数千Å／秒になり、従
来のようにレーザ・ビームと原料ガスの照射と噴
射を同時に行う方法（膜形成速度、通常数十Å／
秒）では到底不可能な高度の膜形成が可能とな
る。

このように膜形成が高速化されれば管材の供給
搬送法も高速化され、結局、薄膜がコートされた
管材の生産性を大幅に向上させることができる。

例えば、蛍光灯の管内導電性膜コーテイングの
場合、従来のスプレー法によるコーテイング速度
が数秒／管であるのに対して、本発明によれば、
50管／25秒＝0.5秒／管と高速化させることがで
きる。

ロ電力エネルギーを削減することができる。

上記のように、膜形成が高速化されるので、管
材内面のコーテイングを必要最小限の熱エネルギ
ーで遂行できる。

そのうえ、コーテイングされる管材は予備加熱
も補助加熱も必要としないので、管材内面コーテ
イングのための電力消費量を従来のスプレー法に
比較して数十KWから数KWへと格段に削減する
ことができ、エネルギー化をはかることができ
る。

ハ装置のコンパクト化、小規模化をはかるこ
とができる。

従来のスプレー法では、大きな予熱炉を必要と
したが、本発明では加熱と膜形成を管材内でその
場で実施するので、装置のコンパクト化、小規模
化をはかることができる。

ニ膜質の高品質化が可能である。

上記のように本発明では、まずレーザ・ビーム
が原料ガスに噴射に先行して照射され、原料ガス
に触れることなく管材内面を加熱することができ
る。

すなわち、レーザ・ビームが原料ガスに触れる
ことによるエネルギー喪失が防止され、レーザ・
ビームが有するエネルギーをそのまま管材内面の
加熱に利用することができ、原料ガスは常にレー
ザ加熱によつて十分に反応温度に達した管材内面
に、レーザ・ビームに触れることなく噴射され
る。

従つて、原料ガスからの副生成物や低級生成物
の発生を防止することができる。

従つて、高品質膜のコーテイングを行うことが
できる。しかもこの状態を継続して維持すること
ができるので、均一性の高い、高品質の膜質を得
ることができる。

また、原料ガスを噴射することも、上記原料ガ
スからの副生成物発生の防止に有効である。

ホ原料ガスの削減が可能である。

本発明では、原料ガスを噴射するので、供給原
料ガスを有効に利用することができ、膜形成のた
めに必要な最小必要限の原料ガスで十分である。

従つて原料ガスの消費量を従来のスプレー法に
比較して数分の一〜10分の一に削減することがで
きる。

従つて、原料の利用効率は更に一段と向上す
る。

また、原料ガスの削減に伴つて排ガス量も従来
のスプレー法に比較して格段に低下し、無公害性
の高い製造環境を確保することができる。

ヘ種々の応用が可能である。

蛍光灯に限らず、太陽熱吸収管、熱交換パイ
プ、流体輸送管等の各種管材の内壁および底付容
器の内面に対する耐熱、耐摩耗、耐食膜のコーテ
イングに広く利用することができる。

以下、本発明の実施例を述べる。

〔実施例〕

実施例１先ず、第１図Ａに示すレーザ・コーテイング・
アーム２を作製し、出力500WのCO₂レーザ発振
装置１のレーザ・ビーム射出孔に取付けた。取付
部のシヤツター室３には、電子式ビーム・シヤツ
ター５とビーム収束用のZnSeレンズ６を収納し
た。また、その室壁には、パージ・ガス導入ポー
ト７を用意した。ビーム管４は、外径14mm、内径
12mm、長さ900mmのSUS管で、管軸に沿つて、２
分轄可能である。因みに、この分轄面を幅約６mm
の鰭フランジ１１とし、ビーム管４に片持ち保持
力を持たせた。ビーム管４の内面は、鏡面金メツ
キ仕上げである。また、先端から30mmのところ
に、直径11mmの金メツキ照射ミラー８を45℃傾斜
した上向き姿勢で固定し、その直上に、直径８mm
のビーム照射孔９を介設した。更に、ビーム管４
の両側には直径４mmの原料ガス噴射管１０，１０
を溶着し、第１図Ｂの如く、各々原料ガスの噴射
孔Ｐ，Ｑの位置を照射孔９の前後に約30mmずらせ
た。噴射孔の孔径は１mmである。この２本の原料
ガス噴射孔１０，１０は、シヤツター室３の近く
で、１本の管にまとめて、第２図の如く、原料ガ
ス源１３に繋いだ。原料ガス源１３は
（CH₃）₂SnCl₂蒸気発生器、O₂ガスボンベ及びそ
れ等を搬送するArキヤリヤ・ガスボンベで構成
した。パージ・ガス導入口７も、同様に、N₂ボ
ンベ１４に接続した。

一方、エヤシリンダ装置１６をレーザ・コーテ
イング・アーム２と対向して、水平に設置し、そ
のシリンダ・シヤフトの先端部に、蛍光灯ガラス
管（外径32mm、長さ600mm）を担走する走行台１
５を取付けた。また、走行台１５が往復駆走する
距離を１ｍに設定した。

更に、走行台１５の上方には、素材ガラス管を
収容するストツカー１７を設け、必要に応じて最
高300℃まで予備加熱する機能を付与した。同じ
く、コーテイング・アーム２の上方には、ドラフ
ト・ユニツト１９を懸吊し、発生する廃ガスを速
やかに排除した。

かくして、レーザ発振装置１を始動し、シヤツ
ター室３内のZnSeレンズ６で、レーザ・ビーム
を直径４mmに絞つた。同時に、N₂パージ・ガス
と原料ガスを、それぞれ2.5／min（３Kg／cm²）
及び2.0／min（２Kg／cm²）の割合で送つた。ま
た、これに呼応して、素材ガラス管を50本充填し
たストツカー１７から、予熱することなく、１本
づつ走行台１５に送り、レーザ・コーテイング・
アーム２に対して、順次往復運動を繰返えし、全
数コートを終了した。所要時間は約2.5分間（約
3.1秒／本）であつた。但し、レーザー照射と原
料噴射は、自動装置により、走行台１５の往路の
みに行なつた。尚、原料には、導電性附与のた
め、２〜３％のSbCl₃を添加した。

この結果、素材ガラス管の全長に亘つて、色相
黄色、線幅5.0±0.3mm、厚さ2000±80Å、全抵抗
22−24KΩの高精度なSnO₂線状膜を、極めて再現
性よく被覆した。第４図に、この段階に於ける膜
厚Ｂ、線幅Ａ、電気抵抗率Ｃについての分布の一
様性を例示した。

更に、レーザ出力及び原料ガス流量を倍増する
ことにより、膜厚は3800Åに増加すると共に、所
要時間を２分の１近くに短縮することが出来た。
また、コーテイングを往復して繰返したところ、
膜厚導電率は回数に比例して増加したが、線幅は
次第に肥大し、輪郭は不鮮明になつた。線幅肥大
率は凡そ0.7mm／回であつた。

次に、原料ガス噴射量を、1.8／minに一定
に保ち、素材ガラス管の移動に対し、レーザ・ビ
ームの強度をプログラム制御することにより、第
５図、曲線Ｄの如き、周期的抵抗分布を持つ線状
膜を作製した。線幅は約５mmで、膜厚は凡そ700
〜3000Åの間で変化した。そこで、膜厚を一定に
し、膜抵抗率のみを変調するため、噴射原料ガス
へ、SbCl₃蒸気を変調添加した。この時は、素材
ガラス管の走行速度を1/10以下に減じなければな
らなかつた。曲線Ｅは瞬間点灯蛍光灯に要求され
る最適抵抗分布を実現した例である。すなわち、
両管端部には、膜の付着がなく、生地が露出して
おり、管内部へ向つて、放電安定化の高抵抗勾配
域Ｇが形成されている。この分布Ｇは、管端部が
コーテイング・アーム２の先端を通過する際、レ
ーザ・ビームの強度を迅速・精密に自動制御する
ことによつて形成した。走行台１５の速度は約１
ｍ／sec、ビーム強度は60〜360Wの間で自動的に
変調した。

尚、本実施例から、以下の事が明らかとなつ
た。レーザ・ビーム・コーテイングに必要な原料
ガス流量は、数／min以下で、従来型スプレー
法が、20−70／minの流速で噴射されるのに較
べ、原料消費は、凡そ数分の１乃至10の１に節減
される。また、室温の素材ガス管に対し、直接コ
ーテイングを行なつたが、約10％の破損が生じ
た。しかし、ストツカー１７で200℃の予備加熱
を行なつたところ、２−３％に減少した。

実施例２第３図の如く、垂直走行型コーテイング工程を
構成した。水平に伝送したCO₂レーザ・ビーム
を、反射ミラー２１により垂直に転向した。該ミ
ラーの寸法は、直径25mm、厚さ10mm、曲率半径10
ｍで、SUS研磨面に金メツキを施し、45゜下向き
に取付けた。垂直コーテイング・アーム２０の全
長は1600mmで、その断面構造は、実施例１同一と
した。

かくして、長さ1200mm、直径32mmの40W型蛍光
灯ガラス管260本に対し、連続コーテイングを行
つたが、当該長尺ガラス管と即尺の垂直コーテイ
ング・アーム２０との相対運動は完全に円滑化さ
れ、１回の衝突・差違えも生じなかつた。また、
処理速度、膜性能等も、実施例１と同等の結果を
得た。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａは、本発明におけるレーザ・コーテイ
ング・アームの実施例を示す構造概要図、第１図
Ｂおよび第１図Ｃはその要部説明図、第２図は、
水平走行型コーテイング方法の説明図、第３図
は、垂直走行型コーテイング方法の説明図、第４
図は、ガラス管内面コーテイング膜の膜厚、線
幅、膜抵抗値の均一性を示す図、第５図は、ガラ
ス管内面に変調して形成した抵抗値分布曲線を示
す図である。２……レーザ・コーテイング・アーム、４……
中空管、９……レーザ照射孔、１０……原料ガス
噴射管、１２……直管型管材、Ｐ，Ｑ……原料ガ
ス噴射孔。

Claims

【特許請求の範囲】１直管型管材の内面に向けてレーザ・ビームと
薄膜形成用原料ガスを導入して該管材の内面に薄
膜をコートする方法において、前記レーザ・ビー
ムの照射部と前記薄膜形成用原料ガスの噴射部を
前記管材内を往復移動させると共に、前記レー
ザ・ビーム照射部が前記直管型管材内に侵入する
とき、および前記レーザ・ビーム照射部が前記直
管型管材内より脱出するときに該レーザ・ビーム
の照射よりも遅れて前記薄膜形成用原料ガスを噴
射させることを特徴とする直管型管材の内面に薄
膜をコートする方法。２先端にレーザ・ビーム照射孔を有する中空ビ
ーム管と、先端に原料ガス噴射孔を有し、該ビー
ム管に沿つて取りつけた複数の薄膜形成用原料ガ
ス噴射管とからなるレーザ・コーテイング・アー
ムを有し、該アームは直管型管材内を往復移動可
能であり、該原料ガス噴射孔が前記レーザ・ビー
ム噴射孔よりも先行する位置および遅れた位置に
それぞれ位置することを特徴とする直管型管材の
内面に薄膜をコートする装置。