JPH02206673A - フッ素系希釈剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は塗料、離型剤、撥水撥油剤等の各種化学剤の希
釈剤として有用な含水素塩化弗化プロパン類からなるフ
ッ素系希釈剤に関するものである。

［従来の技術］ 塗料等を物品に処理する場合には、塗膜を形成する成分
とともに、塗膜成分を分散又は溶解し、塗装後揮発する
希釈剤成分は必須である。

従来、このような希釈剤として、不燃性、非曝性で毒性
が低（安定性も高いことから１．１．２−トリクロロ−
１，２，２−トリフルオロエタン（以下Ｒ１１３という
）が広く使われている。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべ（Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の性能を有するフッ素系希釈剤を提供することを
目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素を有効成分と
して含有するフッ素系希釈剤を提供するものである。

本発明の一紋穴ＣＨ，Ｃ１ｂＦｃＣＦ、ＣＨ，Ｃ１，Ｆ
、　（式中、ａ＋Ｍｃ＝３、ｘ＋ｙ＋ｚ＝３．　　ａ＋
ｘ≧ｉ、　　ｌ）＋ｙ≧１１０≦Ｌ　ｂ＊　Ｃ＋　Ｌ　
Ｌ　Ｚ≦３）で表される含水素塩化弗化プロパン類とし
ては ＣＣＱＦ、ＣＦ、ＣＨＣＱ２　（Ｒ２２４ｃａ）ＣＣＱ
、ＦＣＦ＊ＣＨＣＱＦ（Ｒ２２４ｃｂ）ＣＦｓＣＦ−Ｃ
ＨＣ（２ｇ　（Ｒ２２５ｅａ）ＣＣＱＦ、ＣＦ、ＣＨＣ
ＱＦ（Ｒ２２５Ｃｂ）ＣＣＱＦｓＣＦ、ＣＨ，ＣＱ　（
Ｒ２３４ｃｃ）ＣＨＦｇＣＦｔＣＨＣＩ２Ｆ（Ｒ２３５
ｃａ）ＣＨｓＣＦ＊ＣＣＱＩＦ（Ｒ２４３ｃｃ）ＣＨＦ
２ＣＦ＊ＣＨＣＱｘ　（Ｒ２４４ｃａ）Ｃ１，Ｃｆ２Ｃ
Ｆ、ＣＨ，ＣＱ（Ｒ２５２ｃａ）ＣＨＣＱ＊ＣＦ＊ＣＨ
ｓ　（Ｒ２５２ｃｂ）ＣＨ，ＣＦ、Ｃ）１．Ｃ１ｌ）（
Ｒ２６２ｃａ）Ｃ）ＩＦｇＣＣｌｌ）（Ｒ２６２ｃａ）
Ｃ）ＩＦ：、ＨＣＱＦＣＦ、ＣＨＣＱＦ（Ｒ２３４ｃａ
）ＣＨＦ２ＣＦ＊ＣＨＣＱｘ　（Ｒ２３４ｃｂ）ＣＨ＊
ＦＣＦｓＣＣＱ、Ｆ（Ｒ２３４Ｃｄ）ＣＦｓＣ：ＦＩＣ
ＨＩ（：ｉ２　（Ｒ２３５ｃｂ）ＣＣＱＦ＊ＣＦｚＣＨ
ａＦ（Ｒ２３５ｃｃ）ＣＨｚＣＱＣＦ、ＣＨＣＱＦ（Ｒ
２４３ｃａ）ＣＨａＦＣＦｓＣＨＣ２＊　（Ｒ２４３ｃ
ｂ）Ｃ！（、ＦＣＦ、ＣＨＣＱＦ（Ｒ２４４ｃｂ）ＣＣ
ＱＦＩＣＦａＣＨｌ　（Ｒ２４４ｃｃ）ＣＨ２ＦＣＦｚ
ＣＨｍＣＱ（Ｒ２５３ｃａ）ＣＨｓＣＦ＊ＣＨＣＱＦ（
Ｒ２５３ｃｂ）ＣＦ、ＣＦａＣＨＣＱＦ（Ｒ２２６ｃａ
）ＣＣＱＦｓＣＦ、ＣＨＦＲ（Ｒ２２６ｃｂ）ＣＣＱ、
ＣＦ＊ＣＨＣＱ２　（Ｒ２２２ｃ）ＣＣ１２ｉＦＣＦ＊
ＣＨＣｌ２ｇ　（Ｒ２２３ｃａ）ＣＣ１２，ＣＦ、ＣＨ
Ｃｌ２Ｆ（Ｒ２２３Ｃｂ）ＣＣＱｓＣＦ＊ＣＨＦ＊　（
Ｒ２２４ｃｃ）ＣＨＣＱ、ＣＦ、ＣＨＣｔ２．（Ｒ２３
２ｃａｌＣＣＱｓＣＦＲＣＨ＊ＣＱ（Ｒ２３２ｃｂ）Ｃ
Ｃ（２１ＦＣＦＩＣＨ，ＣＱ（８２３３Ｃｂ）ＣＨＣＱ
ｓＣＦ＊ＣＨＣＱＦ（Ｒ２３３ｃａ）ＣＣｉ２ＳＣＦ２
ＣＨ，Ｆ（Ｒ２３３ＣＣ）ＣＣＱ−ＣＦ＊ＣＨ−（Ｒ２
４２ｃｂ）ＣＨＣ（！ａｃＦ＊ｃＨ＊ｃＱ（Ｒ２４２ｃ
ａ）から選ばれる１種又は２種以上の混合物である。

本発明のフッ素系希釈剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶解
力を高めるためにあるいは揮発速度を調節するために、
炭化水素類、アルコール類、ケトン類、塩素化炭化水素
類又はエステル類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも
１種を含有させることができる。これらの有機溶剤のフ
ッ素系希釈剤中の含有割合は、０〜５０重量％、好まし
くは１０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重
量％である０本発明のフッ素系希釈剤に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく５ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２，２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
、３．３−　トリメチルペンタン、２，３．４−）ジメ
チルペンタン、２．２．３−　トリメチルペンタン、イ
ソオクタン、ノナン、２，２．５−１−ジメチルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、ｌ−ヘキセン、１−オクテン、ｌ−ノネン、ｌ−デセ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へ
ブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、ｌ−オクタノール％２
−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ｌ−
ノナノール、３．５．５−　トリメチル−１−ヘキサノ
ール、ｌ−デカノール、１−ウンデカノール、ｌ−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、ｌ−メチ
ルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール
。

３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アビニチノール、２．
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。

、ロ ケトン類としては、Ｒ−ＣＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯ，Ｒ−ＧＯ
−Ｒ’−炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）の
いずれかの−紋穴で示されるものが好ましく、アセトン
、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノ
ン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチ
ルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジ
イソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキ
シド、ホロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチ
ルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４−ベンタ
ンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フ
エンチョン等から選ばれるものである。より好ましくは
アセトン、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン５四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１，１．１−トリクロルエタン、１，１．２−
）−ジクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロルエ
タン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタク
ロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、■、２−ジク
ロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メ
チレン、１．１．１−１−ジクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。

エステル類としては、次の一般式で示されるＲ富 瞥 ものが好ましく、Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，、Ｒ，−Ｃ−Ｒ，
−ＣＯＯ−Ｒ４゜履 Ｃ０ＯＲ。

（ここでＲ１，Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，は１１又
はＯＨ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合を
有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸インペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｅ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、アビ
エチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキシ
ル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シェラ酸ジ
ブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレ
イン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジプ
チル、酒石酸ジプチル、クエン酸トリブチル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、フ
タル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル
、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオク
チル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メチ
ル、酢酸エチル等である。

本発明のフッ素系希釈剤には、オゾン破壊に対する影響
の少ない本発明以外の水素含有塩素化フッ素化炭化水素
類をさらに添加混合し、でもよい。

本発明のフッ素系希釈剤により希釈し得る化学剤として
は、塗料、離型剤、撥水撥油剤、防湿コート剤、防水剤
、艶出し剤、帯電防止剤、等の各種化学剤を挙げること
ができる。

［実施例］ 実施例１〜５１ 下記第１〜３表に示すフッ素系希釈剤を用いて、ポリフ
ルオロアルキル基含有重合体からなる防湿コート剤を希
釈し、得られた希釈組成物をプリント回路板表面に塗布
し、希釈剤を風乾することにより、プリント回路板表面
に防湿コート膜を形成した。この防湿コートの乾燥状態
を肉眼で観察した。結果を第１〜３表に示す。

第１表 第２表 （）内は混合比［重量％Ｊ Ｏ；良好な塗膜であった　　　　○；はぼ良好６８部分
的にムラが観察された ×：かなりムラが観察された （　）内は混合比［重量％］ ０；良好な塗膜であった　　　　○；はぼ良好６２部分
的にムラが観察された ×；かなりムラが観察された 第 表 ）内は混合比〔重量％Ｊ Ｏ；良好な塗膜であった △；部分的にムラが観察された ×；かなりムラが観察された Ｏ；はぼ良好 ［発明の効果］ 本発明のフッ素系希釈剤は実施例から明らかなように希
釈性に優れたものであり、塗膜のムラ等は観察されない
。又、従来使用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解
力を持つことから、金属、プラスチック及びエラストマ
ー等から成る複合部品に悪影響を与えることな（処理す
ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式ＣＨ＿ａＣｌ＿ｂＦ＿ｃＣＦ＿２ＣＨ＿ｘ
   Ｃｌ＿ｙＦ＿ｚ（式中、ａ＋ｂ＋ｃ＝３、ｘ＋ｙ＋ｚ＝
   ３、ａ＋ｘ≧１、ｂ＋ｙ≧１、０≦ａ、ｂ、ｃ、ｘ、ｙ
   、ｚ≦３）で表される含水素塩化弗化プロパン類からな
   るフッ素系希釈剤。