JPH02203912A - フィルタのパルス洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はガス集塵装置におけるフィルタのパルス洗浄方
法および洗浄装置に関する。

（従来技術） ガス集塵装置の一形式として、ハウジング内に供給され
た被処理ガスをフィルタの一側がら他側へ透過して清浄
化し清浄ガスを同ハウジングから外部へ流出させるガス
集塵装置があり、上記フィルタとしてはセラミックフィ
ルタ、バグフィルタが使用され、特に２５０°Ｃ〜ｔｏ
ｏｏ℃といった高温ガスの集塵にはセラミックフィルタ
が使用される。

しかして、この種形式のガス集塵装置においては、運転
中フィルタの一側に被処理ガス中のダストが漸次付着し
てフィルタの圧力損失を増大させて濾過効率を低下させ
ることから、洗浄用ガスをフィルタの他側へ供給して同
フィルタの一側に付着するダストを離脱させてハウジン
グの底部に開口するダストホッパに収容する洗浄方法が
採られている。この−例として、繰返し高圧の洗浄用ガ
スを短時間間欠的にフィルタの他側へ供給する洗浄方法
があり、かかる方法を一般にパルス洗浄方法と称してい
る。

（発明が解決しようとする課題） ところで、上記したパルス洗浄方法においては、フィル
タの一側から離脱したダストの多くはハウジング内の被
処理ガスの供給側に浮遊し、浮遊するダストは連続して
順次供給される被処理ガスの流れに乗りダストホッパに
落下することなく再度フィルタの一側に付着する。この
ため、洗浄効果が低く濾過効率の向上が図れない。かか
る現象は被処理ガス中のダストが細かい場合、軽い場合
、ダストの濃度が高い場合、濾過流速が速い場合等に顕
著に認められる。

従って、本発明の目的は、運転を中断することなくパル
ス洗浄が可能なガス集塵装置において上記したパルス洗
浄の洗浄効果を高めて濾過効率の向上を図ることにある
。

（課題を解決するための手段） 本発明は、ハウジング内に供給された被処理ガスを同ハ
ウジングの複数に区画した各区画室にそれぞれ配設され
たフィルタの一側から他側へ透過して清浄化し、清浄ガ
スを前記ハウジングから外部へ流出させるガス集塵装置
におけるフィルタのパルス洗浄方法であり、洗浄用ガス
を前記各フィルタの他側へ間欠的に供給して同フィルタ
の一側に付着するダストを離脱させるパルス洗浄方法に
おいて、洗浄用ガスの前記各フィルタへの供給を前記各
区画室毎に選択的に行うとともに、洗浄用ガスが供給さ
れている区画室に対しては被処理ガスの供給を実質的に
停止させることを特徴とするものである。

また、本発明は上記した記載のガス集塵装置におけるフ
ィルタのパルス洗浄装置であり、前記ハウジングの各区
画室にそれぞれ配設したフィルタの他側へ洗浄用ガスを
供給する複数の洗浄用ガス供給手段と、同ガス供給手段
からのガス供給を断続する洗浄用ガス断続手段と、前記
各区画室に設けた清浄ガス流出孔の開放を洗浄用ガス供
給手段の断続動作に応答して断続する清浄ガス断続手段
を備えていることを特徴とものである。

（発明の作用・効果） 本発明のパルス洗浄方法によれば、ハウジング内の各区
画室毎に選択的にパルス洗浄が行われるため被処理ガス
の清浄化を行っている区画室が常に存在し、ガス集塵装
置の運転効率を高めることができる。また、パルス洗浄
中の区画室においては、被処理ガスの供給が実質的に停
止されているため同区画室からダストホッパへ向うガス
流が生じ、フィルタの一側から離脱したダストはかかる
ガス流に乗ってダストホッパ内に落下する。このため、
フィルタの一側から離脱したダストが区画室にて被処理
ガスの供給側に浮遊する量は少なく、かつ再度フィルタ
の一側に付着するダストの量が少なく洗浄効果が高く、
濾過効率の著しい向上が図れる。

また、本発明のパルス洗浄装置によれば、ハウジング内
の所定の区画室への洗浄用ガスの供給に応答して同区画
室の清浄ガス流出孔が閉鎖されるため、同区画室におけ
る被処理ガス供給孔側から上記流出孔側へのガス流は生
じず、実質的に同区画室への被処理ガスの供給が停止さ
れた状態となる。従って、かかる洗浄装置により本発明
のパルス洗浄方法を実施することができる。

（実施例１） 第１図は本発明のパルス洗浄装置を備えたガス集塵装置
を示している。当該ガス集塵装置１０においては、ハウ
ジング１１内が隔壁１２ａ、１２ｂにて２つの区画室Ｒ
１、Ｒ２に区画されており、各区画室Ｒ１、Ｒ２にそれ
ぞれセラミックフィルタ１３ａ、１３ｂが配設されてい
る。セラミック一 フィルタ１．３　ａ、１３ｂは高温ガス用のもので、区
画室Ｒ１、Ｒ２にてアッパプレート１４にて吊下状に支
持され、かつロアブレー１・］５にて支承されている。

アッパプレート１４は区画室Ｒ１、Ｒ２を上下に気密的
に区画しており、またロアプレート１５は網目状の無数
の貫通孔を有するもので被処理ガスおよびダスト、ダス
トの集合体の流通を許容する。

当該ガス集塵装置］０においては、ハウジング１１、の
底部であるダストホッパｌｌａの側部に被処理ガス供給
孔１１．　ｂを備えるとともに、各区画室Ｒ１、Ｒ２の
頂部に清浄ガス流出孔１−１０を備え、供給孔１１．　
ｂから流入した被処理ガスは各区画室Ｒ，、Ｒ２に至り
、フィルタ１．３　ａ、１３ｂの外周側から内周側へ透
過する。この間、被処理ガスは清浄化され清浄ガスとし
て各流出孔１１ｃから流出する。

しかして、パルス洗浄装置の洗浄用ガス供給手段は各区
画室Ｒ，、Ｒ２に配設されており、同供給手段を構成す
る洗浄用ガスの供給管２１−はハウジンク１１の挿通孔
ｌｉｄを気密的に挿通されて組付けられ、各フィルタ１
３ａ、１３　ｂの上端開口部に臨んでいる。かかる供給
管２１は空気圧源に接続されているとともに第１電磁開
閉弁２２ａ、２２ｂを備えていて、同開閉弁２２ａ、２
２ｂの数秒という短時間の開放を繰返し行うことにより
高圧の洗浄用空気をフィルタ１３ａ、１３ｂの内周側に
間欠的に供給する。一方、各清浄ガス流出孔１１ｃには
同流出孔］、ＩＣを開閉する第２電磁開閉弁２３ａ、２
３ｂが配設されている。各第２開閉弁２３ａ、２３ｂは
各第１開閉弁２２ａ、２２ｂの開閉動作に連動して開閉
動作するもので、第１開閉弁２２ａ、２２ｂは常態では
閉鎖していてこれが開放されると、常態で開放している
第２開閉弁２３ａ、２３ｂは閉鎖する。

かかる構成のパルス洗浄装置を備えたガス集塵装置にお
いては、同装置の運転中に各フィルタ１３ａ、１３ｂの
洗浄が各区画室Ｒ，、Ｒ２毎に順次数分間隔で繰返し行
われる。かかる洗浄装置において、第１開閉弁２２ａが
開放されると第１区画室Ｒ３のフィルタ１３ａの内周側
に高圧の洗浄用空気が所定時間供給され、この間第２開
閉弁２３ａか閉鎖されて被処理ガスの第１区画室Ｒ１へ
の供給が実質的に停止する。このため、フィルタ１３ａ
の外周側に付着したダストは同フィルタ１３ａから離脱
するとともに、下降するガス流に乗ってダストホッパ部
１１ａに落下する。

従って、フィルタ１３ａから離脱したダストの第１区画
室Ｒ１内ての浮遊量は少なくて被処理ガスに乗って再度
フィルタ１３ａの外周側に付着することも少なく、洗浄
効果が高くて効率の著しい向上を図ることができる。パ
ルス洗浄は次いで第２区画室Ｒ２のフィルタ１３ｂ、第
１区画室Ｒ１のフィルタ１３ａ、第２区画室Ｒ２のフィ
ルタ１３ｂと順次行われ、上記と同様の作用効果を奏す
る。この間、パルス洗浄が行われていない区画室におい
ては被処理ガスの清浄化処理が支障なく行われるため、
ガス集塵装置の運転効率を高めることができる。

なお、上記ガス集塵装置においては各区画室Ｒ１、Ｒ２
に複数本のフィルタを配設してもよく、またハウジング
１］内を３以上の複数の区画室い区画してもよい。

（実施例２） 第１図に示すガス集塵装置を使用するとともに、被処理
ガスとして平均粒子径０．２μｍの軽くて微細なカーボ
ンブラックを３０ｇ／Ｎｍ３含む空気を調整し、同被処
理ガスを１００°Ｃの高温状態にして濾過実験（Ｎｏ、
１）を行った。また、比較のため上記集塵装置を使用し
て各第２開閉弁を開放した常態で各区画室毎に（Ｎｏ、
２）　、および各区画室同時に（Ｎｏ、３）それぞれ濾
過実験を行った。これらの濾過実験におけるセラミック
フィルタの洗浄条件は下記の通りであり、濾過実験５０
時間後の同フィルタの圧力損失を別表に示すとともに圧
力損失の経時的変化を第２図のクラ７に示す。

洗浄条件 洗浄用ガス・空気 洗浄用ガスの供給量：　　６ｍ３／ｍ２　・ｍｉｎ洗浄
頻度：１５回／ｈｒ ＝　１０ 洗浄時間： ０．４ｓｅｃ ７回 以下余白） 第２図のグラフおよび上記衣から明らかなように、本発
明の実施例である実験Ｎｏｌは比較例である実験Ｎｏ２
およびＮｏ３に比較して圧力損失の経時的増加が低く、
かつ実験時間５０時間で圧力損失は略一定になる。これ
に対して、比較例では５０時間後においても圧力損失は
増加する傾向にある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る洗浄装置を備えたガス集塵装置の
一例を示す縦断面図、第２図はフィルタの圧力損失の経
時的変化を示すグラフである。 符　　号　　の　　説　　明 １１・・・フィルタ、１３ａ、１３ｂ・・・フィルタ、
２１・・・洗浄用ガス供給管、２２ａ、２２ｂ・・・開
閉弁、２３ａ、２３ｂ・・・第２開閉弁、Ｒ１、Ｒ２・
・・区画室。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ハウジング内に供給された被処理ガスを同ハウジ
   ングの複数に区画した各区画室にそれぞれ配設されたフ
   ィルタの一側から他側へ透過して清浄化し、清浄ガスを
   前記ハウジングから外部へ流出させるガス集塵装置にお
   けるフィルタのパルス洗浄方法であり、洗浄用ガスを前
   記各フィルタの他側へ間欠的に供給して同フィルタの一
   側に付着するダストを離脱させるパルス洗浄方法におい
   て、洗浄用ガスの前記各フィルタへの供給を前記各区画
   室毎に選択的に行うとともに、洗浄用ガスが供給されて
   いる区画室に対しては被処理ガスの供給を実質的に停止
   させることを特徴とするフィルタのパルス洗浄方法。
2. （２）ハウジング内に供給された被処理ガスをフィルタ
   の一側から他側へ透過して清浄化し清浄ガスを同ハウジ
   ングから外部へ流出させるガス集塵装置におけるフィル
   タのパルス洗浄装置であり、前記ハウジングの各区画室
   にそれぞれ配設したフィルタの他側へ洗浄用ガスを供給
   する複数の洗浄用ガス供給手段と、同ガス供給手段から
   のガス供給を断続する洗浄用ガス断続手段と、前記各区
   画室に設けた清浄ガス流出孔の開放を洗浄用ガス供給手
   段の断続動作に応答して断続する清浄ガス断続手段を備
   えていることを特徴とするフィルタのパルス洗浄装置。