JPH02202564A - 回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物 - Google Patents
回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フレキシブルプリント基板の回路の被覆に用
いるカバーレーインキに関し、特に印刷性、接着性、可
撓性、耐熱性を向上させたカバーレーインヤ樹脂組成物
および該組成物を有効成分とするカバーレーインキを提
供することを目的とするものである。
いるカバーレーインキに関し、特に印刷性、接着性、可
撓性、耐熱性を向上させたカバーレーインヤ樹脂組成物
および該組成物を有効成分とするカバーレーインキを提
供することを目的とするものである。
(従来の技術及び問題点〕
従来、印刷回路用の被覆基材としてカバーフィルムが用
いられてきた。このものはポリイミド又はポリエステル
フィルムの片面に接着剤を塗布したものを、端子接続の
部分のみパンチング等の方法で穴を開け、これを手作業
により回路基板上で位置合わせをした後、熱板プレスに
より高温、高圧下で接着するものである。
いられてきた。このものはポリイミド又はポリエステル
フィルムの片面に接着剤を塗布したものを、端子接続の
部分のみパンチング等の方法で穴を開け、これを手作業
により回路基板上で位置合わせをした後、熱板プレスに
より高温、高圧下で接着するものである。
この方法は、可撓性にすぐれ、回路保護の面からは有利
であるが、問題点もある。例えば、配線板の端子をリー
ドした時には予めカバーフィルムを打ち抜き、小穴を開
ける必要がある。したがって回路が複雑になると、配線
板との位置合せが難しくなる。また、熱板プレスの設備
費が高い。さらに接着剤使用により、打ち抜き加工の時
にスミアが発生しやすく、コストが高くなり、プレス時
に接着剤の滲み出しの恐れがある。
であるが、問題点もある。例えば、配線板の端子をリー
ドした時には予めカバーフィルムを打ち抜き、小穴を開
ける必要がある。したがって回路が複雑になると、配線
板との位置合せが難しくなる。また、熱板プレスの設備
費が高い。さらに接着剤使用により、打ち抜き加工の時
にスミアが発生しやすく、コストが高くなり、プレス時
に接着剤の滲み出しの恐れがある。
またフィルム自体の物性が良くても、接着剤の使用によ
り、該物性の低下の恐れがある。接着剤の性能自体にも
まだ問題があり、ポリイミドフィルムなどのカバーフィ
ルムとプリント配線面の両方に十分接着し、耐熱性、電
気特性に優れたものが見い出されていないのが現状であ
る。
り、該物性の低下の恐れがある。接着剤の性能自体にも
まだ問題があり、ポリイミドフィルムなどのカバーフィ
ルムとプリント配線面の両方に十分接着し、耐熱性、電
気特性に優れたものが見い出されていないのが現状であ
る。
これに対して、印刷法によりプリント配綜基板上に絶縁
保護皮膜を形成する方法(カバーレーインキ)が開発さ
れている。しかし現在使用されているカバーレーインキ
剤は、従来リジッド基板に使用されてきたソルダーレジ
ストを応用したものであり、可撓性に乏しく、また耐熱
性、電気特性に劣る等といった欠陥がある。
保護皮膜を形成する方法(カバーレーインキ)が開発さ
れている。しかし現在使用されているカバーレーインキ
剤は、従来リジッド基板に使用されてきたソルダーレジ
ストを応用したものであり、可撓性に乏しく、また耐熱
性、電気特性に劣る等といった欠陥がある。
特開昭55−145717号公報にはエポキシアクリレ
ート樹脂とメラミン樹脂から成る組成物があるが、可撓
性に乏しいという欠点がある。
ート樹脂とメラミン樹脂から成る組成物があるが、可撓
性に乏しいという欠点がある。
さらに、特公昭50−4395号公報や特公昭53−1
0fi36号公報にはスルホメチレンアクソレート、リ
ン酸エチレンアクリレート等のアクリル系樹脂組成物が
提案されているが、これらはいずれも可撓性は比較的良
好であるが、耐熱性が著しく劣っている。
0fi36号公報にはスルホメチレンアクソレート、リ
ン酸エチレンアクリレート等のアクリル系樹脂組成物が
提案されているが、これらはいずれも可撓性は比較的良
好であるが、耐熱性が著しく劣っている。
また、従来ポリイミドやポリアミド酸溶液をスクリーン
印刷用インキとして用いるためには横変性を持たせるた
めに横変剤が使用されてきた。しかし、従来用いられて
きた横変剤ではポリアミド酸や、樹脂を溶解させる溶媒
の極性のために、十分な性能が発揮されず、十分な横変
性発現のためには多量の横変剤の添加が必要であり、こ
のために被膜としての物性が低下することが多い、また
、横変剤の添加により被膜の基材に対する密着性が低下
するなどの好ましくない現象もあワた。
印刷用インキとして用いるためには横変性を持たせるた
めに横変剤が使用されてきた。しかし、従来用いられて
きた横変剤ではポリアミド酸や、樹脂を溶解させる溶媒
の極性のために、十分な性能が発揮されず、十分な横変
性発現のためには多量の横変剤の添加が必要であり、こ
のために被膜としての物性が低下することが多い、また
、横変剤の添加により被膜の基材に対する密着性が低下
するなどの好ましくない現象もあワた。
例えば、特公昭62−37071号公報や特開昭83−
22!172号公報では横変剤として微粉末シリカが用
いられているが、溶媒及び樹脂の極性のために多量の添
加が必要であり、このために可撓性及び、基材との密着
性が劣るという欠点がある。
22!172号公報では横変剤として微粉末シリカが用
いられているが、溶媒及び樹脂の極性のために多量の添
加が必要であり、このために可撓性及び、基材との密着
性が劣るという欠点がある。
また、特開昭57−179242号公報、特開昭58−
189260号公報、特開昭59−108088号公報
では、横変剤としてポリイミド粉末が用いられているが
、多量の添加が必要であるため、可撓性が劣り、また表
面平滑性も悪く、さらに硬化時の収縮が大きくなる欠点
がある。
189260号公報、特開昭59−108088号公報
では、横変剤としてポリイミド粉末が用いられているが
、多量の添加が必要であるため、可撓性が劣り、また表
面平滑性も悪く、さらに硬化時の収縮が大きくなる欠点
がある。
さらに特開昭60−260550号公報ではベンジリデ
ンソルビトール類が横変剤として用いられているが、多
量の添加が必要であるため、耐熱性及び吸水性の点で問
題があった。
ンソルビトール類が横変剤として用いられているが、多
量の添加が必要であるため、耐熱性及び吸水性の点で問
題があった。
本発明者等は多項目にわたる要求性能を全て満足する被
覆用カバーレーインキ樹脂組成物を種々検討した結果、
ポリイミド又はポリアミド酸溶液を主成分とした組成物
が耐熱性、可撓性、電気特性、印刷特性に優れているこ
とを見出した。更に印刷助剤として、表面をジメチルシ
リコンオイルで処理した微粉末シリカを用いることによ
り、高極性溶媒中でも高い横変性を持たせることに成功
し、横変剤量を減らすことが可能であると同時に、印刷
特性が優れたカバーレーインキ、特に厚膜印刷に通した
カバーレーインキの調整が可能であることを見出した。
覆用カバーレーインキ樹脂組成物を種々検討した結果、
ポリイミド又はポリアミド酸溶液を主成分とした組成物
が耐熱性、可撓性、電気特性、印刷特性に優れているこ
とを見出した。更に印刷助剤として、表面をジメチルシ
リコンオイルで処理した微粉末シリカを用いることによ
り、高極性溶媒中でも高い横変性を持たせることに成功
し、横変剤量を減らすことが可能であると同時に、印刷
特性が優れたカバーレーインキ、特に厚膜印刷に通した
カバーレーインキの調整が可能であることを見出した。
更に横変剤として粉末アルミナを複合的に用いることに
より、基材に対して高い接着性を持たせることが可能で
あることを見出した。なお、横変剤に微粉末アルミナを
用いる例は特公昭62−37073号公報等にも見られ
るが、これらの場合はインキ組成物の構成樹脂が基本的
に異り、基材との密着性を向上させる目的で用いられた
ものではない。
より、基材に対して高い接着性を持たせることが可能で
あることを見出した。なお、横変剤に微粉末アルミナを
用いる例は特公昭62−37073号公報等にも見られ
るが、これらの場合はインキ組成物の構成樹脂が基本的
に異り、基材との密着性を向上させる目的で用いられた
ものではない。
前記の組成物にさらに印刷助剤として、消泡剤を添加す
るとフレキシブルプリント回路基板被覆用カバーレーイ
ンキ樹脂組成物として効果があることを見出した。
るとフレキシブルプリント回路基板被覆用カバーレーイ
ンキ樹脂組成物として効果があることを見出した。
本発明は、下記(1)および(2)の構成を有する。
(1)ポリイミド又はポリアミド酸溶液に表面処理され
た微粉末シリカならびに微粉末アルミナを配合してなる
回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物。
た微粉末シリカならびに微粉末アルミナを配合してなる
回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物。
(2)ポリイミド又はポリアミド酸溶液に表面処理され
た微粉末アルミナを配合してなる樹脂組成物を有効成分
とする回路基板被覆用カバーレーインキ。
た微粉末アルミナを配合してなる樹脂組成物を有効成分
とする回路基板被覆用カバーレーインキ。
本発明の構成と効果につき以下に、詳述する。
本発明の組成物に用いられるポリアミド酸は有機テトラ
カルボン酸二無水物と有機ジアミンとを有機溶媒中で反
応させることにより得られる。即ち、通常O〜100℃
、好ましくは5〜40℃の温度で両成分を有機溶媒中で
攪拌反応させることによりポリアミド酸溶液が生成する
0反応条件は組成、目的とする分子量に応じて任意に変
更することができる。ポリイミド樹脂溶液は、前記のポ
リアミド酸溶液に触媒の添加又は添加なしで、100℃
〜200℃で加熱することによりイミド化を進行させて
得られる。
カルボン酸二無水物と有機ジアミンとを有機溶媒中で反
応させることにより得られる。即ち、通常O〜100℃
、好ましくは5〜40℃の温度で両成分を有機溶媒中で
攪拌反応させることによりポリアミド酸溶液が生成する
0反応条件は組成、目的とする分子量に応じて任意に変
更することができる。ポリイミド樹脂溶液は、前記のポ
リアミド酸溶液に触媒の添加又は添加なしで、100℃
〜200℃で加熱することによりイミド化を進行させて
得られる。
また、本発明の組成物に用いられるポリイミドは下記の
構造式〔rコ で表わされる繰り返し単位を有するものであり、で表わ
される構造式を有するものである1両式中、Rは四価の
有機基、Roは二価の有機基である。テトラカルボン酸
二無水物としては、−数式[II+ ] で示される。Rは4価の有機基であり、具体的には例え
ばピロメリト酸二無水物、 3.3’、4.4°−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’。
構造式〔rコ で表わされる繰り返し単位を有するものであり、で表わ
される構造式を有するものである1両式中、Rは四価の
有機基、Roは二価の有機基である。テトラカルボン酸
二無水物としては、−数式[II+ ] で示される。Rは4価の有機基であり、具体的には例え
ばピロメリト酸二無水物、 3.3’、4.4°−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3.3’。
4.4−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、23.
3°、4°−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2
.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2.2°−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ブロ
バンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシジフェニル
)スルホンニ無水物、 3,4,9.10−ペリレンテ
トラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)エタン二無水物、2.2−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)ブロバンニ無水物、1.1−ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ベ
ンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−無水物、
2.L6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物
、1,2,7.8−フェナントレンテトラカルボン酸二
無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、ヘキサンテトラカルボン酸二
無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ビ
シクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒド
ロフランテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、2.3.5−トリカルボキシシ
クロペンチル酢酸二無水物、等が挙げられる。これらは
単独又は2種類以上の組み合わせで用いられる。
3°、4°−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2
.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2.2°−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ブロ
バンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシジフェニル
)スルホンニ無水物、 3,4,9.10−ペリレンテ
トラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)エタン二無水物、2.2−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)ブロバンニ無水物、1.1−ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ベ
ンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−無水物、
2.L6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物
、1,2,7.8−フェナントレンテトラカルボン酸二
無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、ヘキサンテトラカルボン酸二
無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ビ
シクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒド
ロフランテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、2.3.5−トリカルボキシシ
クロペンチル酢酸二無水物、等が挙げられる。これらは
単独又は2種類以上の組み合わせで用いられる。
本発明に用いられる芳香族ジアミンとしては、パラフェ
ニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、4.4°−
ジアミノジフェニルメタン、 4.4’−ジアミノジフ
ェニルエタン、4.4゛−ジアミノジフェニルプロパン
、ベンジジン、4,4−ジアミノジフェニルスルフィド
、4,4°−ジアミノシフらニルスルホン、4.4’ジ
アミノジフエニルエーテル、!、4−ジアミノナフタI
/ン、1.5−ジアミノナフタレン、3.3−ジメチル
−4,4−ジアミノビフェニル、3.4′−ジアミノベ
ンズアニリド、3.4°−ジアミノジフェニルエーテル
、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン、
2.3−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノトルエン
、3,4−ジアミノトルエン、2.6−ジアミノトルエ
ン、3.5−ジアミノトルエン、2.5−ジアミノトル
エン、2.4−ジアミノアニソール、3.4−ジアミノ
アニソール、2.5−ジアミノアニソール、2.3−ジ
アミノピリジン、2.5−ジアミノピリジン、2.6−
ジアミノピリジン、3.4−ジアミノピリジン、4,5
〜ジアミノピリジン、4.4’−ジアミノスチルベン、
2.2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、 3.
3’−ジアミノジフェニルスホン、ジアミノジュレン、
ベンジジン−3,3°−ジカルボン酸、3.3゛−ジメ
トキシベンジシン、ジアミノシロキサン類等がある。こ
れらは単独でも、2種以上組み合わせても用いられる。
ニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、4.4°−
ジアミノジフェニルメタン、 4.4’−ジアミノジフ
ェニルエタン、4.4゛−ジアミノジフェニルプロパン
、ベンジジン、4,4−ジアミノジフェニルスルフィド
、4,4°−ジアミノシフらニルスルホン、4.4’ジ
アミノジフエニルエーテル、!、4−ジアミノナフタI
/ン、1.5−ジアミノナフタレン、3.3−ジメチル
−4,4−ジアミノビフェニル、3.4′−ジアミノベ
ンズアニリド、3.4°−ジアミノジフェニルエーテル
、メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミン、
2.3−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノトルエン
、3,4−ジアミノトルエン、2.6−ジアミノトルエ
ン、3.5−ジアミノトルエン、2.5−ジアミノトル
エン、2.4−ジアミノアニソール、3.4−ジアミノ
アニソール、2.5−ジアミノアニソール、2.3−ジ
アミノピリジン、2.5−ジアミノピリジン、2.6−
ジアミノピリジン、3.4−ジアミノピリジン、4,5
〜ジアミノピリジン、4.4’−ジアミノスチルベン、
2.2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、 3.
3’−ジアミノジフェニルスホン、ジアミノジュレン、
ベンジジン−3,3°−ジカルボン酸、3.3゛−ジメ
トキシベンジシン、ジアミノシロキサン類等がある。こ
れらは単独でも、2種以上組み合わせても用いられる。
本発明におけるテトラカルボン酸二無水物と芳香族ジア
ミンとの反応は前記のように通常有機溶媒中で行われる
。
ミンとの反応は前記のように通常有機溶媒中で行われる
。
ポリアミド酸を作る反応は発熱反応であり、必要に応じ
て冷却を行いながら反応を制御することが望ましい、ま
た、テトラカルボン酸二無水物、ジアミンのどちらか一
方を有機溶剤中に懸濁又は溶解させておき、これにもう
一方を徐々に添加しつつ反応させる方法も好ましい0画
成分のモル比は当モルとなるのが望ましいが、lo:9
〜9:10の範囲内で同成分のどちらか一方を過剰量用
いても何ら問題はない。
て冷却を行いながら反応を制御することが望ましい、ま
た、テトラカルボン酸二無水物、ジアミンのどちらか一
方を有機溶剤中に懸濁又は溶解させておき、これにもう
一方を徐々に添加しつつ反応させる方法も好ましい0画
成分のモル比は当モルとなるのが望ましいが、lo:9
〜9:10の範囲内で同成分のどちらか一方を過剰量用
いても何ら問題はない。
上記反応で用いられる溶媒としては、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N−メ
チル−2−ピロリドン、 N、N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホアミド、テトラメチレンスルホン
、テトラメチル尿素、γ−ブチロラクトン、N−アセチ
ル−2−ピロリドン、フェノール、クレゾール類、ニト
ロ化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶
媒、セロソルブ類、カルピトール類等が挙げられる。ま
た、場合によりこれらの溶媒にベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの汎用溶媒を添加することもできる。有機溶
媒の使用量は、反応系の固形分濃度が5〜50重量%と
なるのが良く、また500〜500.000センチボイ
ズの粘度に調節するのが良い。
ホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N−メ
チル−2−ピロリドン、 N、N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホアミド、テトラメチレンスルホン
、テトラメチル尿素、γ−ブチロラクトン、N−アセチ
ル−2−ピロリドン、フェノール、クレゾール類、ニト
ロ化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶
媒、セロソルブ類、カルピトール類等が挙げられる。ま
た、場合によりこれらの溶媒にベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの汎用溶媒を添加することもできる。有機溶
媒の使用量は、反応系の固形分濃度が5〜50重量%と
なるのが良く、また500〜500.000センチボイ
ズの粘度に調節するのが良い。
本発明に用いられるポリイミドとしてイミド化を十分に
進めたものを得たい場合、例えば比較的沸点の高い溶媒
を選び、所望のイミド化を行った後、反応液を貧溶媒中
へ再沈殿させて乾燥して得たポリイミド粉末を他の低沸
点i媒に再溶解して使用することにより得られる。
進めたものを得たい場合、例えば比較的沸点の高い溶媒
を選び、所望のイミド化を行った後、反応液を貧溶媒中
へ再沈殿させて乾燥して得たポリイミド粉末を他の低沸
点i媒に再溶解して使用することにより得られる。
前述のポリアミド酸から、ポリイミドを合成する反応に
おいてイミド化促進剤を用いることができる。これらの
促進剤としては化学的脱水剤として、無水酢酸等の酸無
水物、触媒としてトリエチルアミン、トリブチルアミン
、ピリジン、N、N−ジエチルアニリン、ピコリン、キ
ノリン、イソキノリン等のアミン類、イミダソール類等
が挙げられる。これらのイミド化促進剤はポリアミド酸
合成反応が終了してから添加され、100〜200℃で
加熱攪拌を行うことによりイミド化が行われる。
おいてイミド化促進剤を用いることができる。これらの
促進剤としては化学的脱水剤として、無水酢酸等の酸無
水物、触媒としてトリエチルアミン、トリブチルアミン
、ピリジン、N、N−ジエチルアニリン、ピコリン、キ
ノリン、イソキノリン等のアミン類、イミダソール類等
が挙げられる。これらのイミド化促進剤はポリアミド酸
合成反応が終了してから添加され、100〜200℃で
加熱攪拌を行うことによりイミド化が行われる。
これらのイミド化促進剤は単独でも2種類以上組み合わ
せることによフても使用される。イミド化促進剤として
化学的脱水剤を用いない場合は、系内にトルエン、ベン
ゼン等の水と共沸して除去できる溶媒を添加して積極的
に水を除去することが好ましい、これらのイミド化促進
剤の添加量は、化学的脱水剤ではアミド基1モルに対し
て1モル以上、また触媒ではアミド基1モルに対して0
.001モル以上、好ましくは0.01モル以上である
。
せることによフても使用される。イミド化促進剤として
化学的脱水剤を用いない場合は、系内にトルエン、ベン
ゼン等の水と共沸して除去できる溶媒を添加して積極的
に水を除去することが好ましい、これらのイミド化促進
剤の添加量は、化学的脱水剤ではアミド基1モルに対し
て1モル以上、また触媒ではアミド基1モルに対して0
.001モル以上、好ましくは0.01モル以上である
。
本発明に用いられる横変剤としては、シリカ、アルミナ
の微粉末状品が好ましい。用いられる横変剤としてより
具体的には、微粉末シリカとして例えば日本アエロジル
社製の商品名アエロジル130、アエロジル200.ア
エロジル200V、 アエロジル2QOCF 、 ア
エロジル300、 アエロジル3006F、アエロジル
380等の表面処理されていない標準品、アエロジルR
972,アエロジルR974、アエロジルItY200
、アエロジルR202、アエロジルR805、アエロ
ジル8812等の表面処理された疎水性品等が挙げられ
、また、微粉末アルミナとしてはアルミニウムオキサイ
ドC等が挙げられる0以上の疎水作品の中ではジメチル
シリコンオイルで表面処理されたアエロジルRY200
、アエロジルR202が好ましい。拙変剤は、疎水性品
(1)/標準品(2)/アルミナ(3)の重量比が(1
) / (2)/ (3+・10/ 210.5〜10
/32/8であることが好ましく、さらに好ましくは1
015.371.3〜10/18.7/4.7である。
の微粉末状品が好ましい。用いられる横変剤としてより
具体的には、微粉末シリカとして例えば日本アエロジル
社製の商品名アエロジル130、アエロジル200.ア
エロジル200V、 アエロジル2QOCF 、 ア
エロジル300、 アエロジル3006F、アエロジル
380等の表面処理されていない標準品、アエロジルR
972,アエロジルR974、アエロジルItY200
、アエロジルR202、アエロジルR805、アエロ
ジル8812等の表面処理された疎水性品等が挙げられ
、また、微粉末アルミナとしてはアルミニウムオキサイ
ドC等が挙げられる0以上の疎水作品の中ではジメチル
シリコンオイルで表面処理されたアエロジルRY200
、アエロジルR202が好ましい。拙変剤は、疎水性品
(1)/標準品(2)/アルミナ(3)の重量比が(1
) / (2)/ (3+・10/ 210.5〜10
/32/8であることが好ましく、さらに好ましくは1
015.371.3〜10/18.7/4.7である。
また標準品の全量をアルミナで置換することは何ら問題
はなく、その場合の組成比は疎水性品(1)/アルミナ
(3)の重量比が(1)/(3)・10/2.5〜10
/40であることが好ましく、さらに好ましくは10/
7〜10/ 24である。疎水性品の配合割合が前記範
囲を超えて犬となると、基板への密着性が不良となる可
能性があり、アルミナの配合割合が前記範囲を超えて大
となると、横変性が低下し、印刷性不良となる可能性が
ある。
はなく、その場合の組成比は疎水性品(1)/アルミナ
(3)の重量比が(1)/(3)・10/2.5〜10
/40であることが好ましく、さらに好ましくは10/
7〜10/ 24である。疎水性品の配合割合が前記範
囲を超えて犬となると、基板への密着性が不良となる可
能性があり、アルミナの配合割合が前記範囲を超えて大
となると、横変性が低下し、印刷性不良となる可能性が
ある。
前記ポリアミド酸溶液に対する横変剤の配合比は、ポリ
アミド酸溶液10orL量部に対して15〜5重量部添
加するのが好ましいが、樹脂組成物の粘度に応じて実用
の粘度、横変剤比となるようにその使用量を調節するの
がよい。
アミド酸溶液10orL量部に対して15〜5重量部添
加するのが好ましいが、樹脂組成物の粘度に応じて実用
の粘度、横変剤比となるようにその使用量を調節するの
がよい。
本発明に用いられる消泡剤としてはシリコン系消泡剤が
好ましい、前記ポリアミド酸溶液に対する配合比は、組
成物100瓜量部に対して0.5〜5重量mi加するの
が好ましいが、樹脂組成物の必要な消泡性に応じて実用
可能となるようにその使用量を調節するのがよい、消泡
剤が0.51i量部未満の場合、印刷時に多大の泡が発
生する。その泡はそのまま消えない状態と放置時間と共
に泡が消えていく状態とがある。しかし、放置時間が長
い場合は作業能率が著しく低下し、かつ乾燥硬化後表面
にピンホール、膜厚の不均一を生じやすい。
好ましい、前記ポリアミド酸溶液に対する配合比は、組
成物100瓜量部に対して0.5〜5重量mi加するの
が好ましいが、樹脂組成物の必要な消泡性に応じて実用
可能となるようにその使用量を調節するのがよい、消泡
剤が0.51i量部未満の場合、印刷時に多大の泡が発
生する。その泡はそのまま消えない状態と放置時間と共
に泡が消えていく状態とがある。しかし、放置時間が長
い場合は作業能率が著しく低下し、かつ乾燥硬化後表面
にピンホール、膜厚の不均一を生じやすい。
本発明のスクリーン印刷用樹脂組成物を利用したフレキ
シブル回路基板用カバーレーインキ樹脂組成物は、上記
必須成分から成る混合物を三本ロール等のインキミルを
用いて常法によりインキ化されたものであり、保存安定
性の良好な1製型インキ組成物である。
シブル回路基板用カバーレーインキ樹脂組成物は、上記
必須成分から成る混合物を三本ロール等のインキミルを
用いて常法によりインキ化されたものであり、保存安定
性の良好な1製型インキ組成物である。
本発明に係るカバーレーインキの使用法は、まずカバー
レーインキ組成物をスクリーン印刷又はマスク印刷によ
り基板を塗布する。次いで塗布膜を熱風乾燥炉で1f1
0〜140tで10分〜30分乾燥させ、さらに200
〜300℃で10〜30分加熱硬化させて被覆層を持ち
、カールのない回路基板が得られる。
レーインキ組成物をスクリーン印刷又はマスク印刷によ
り基板を塗布する。次いで塗布膜を熱風乾燥炉で1f1
0〜140tで10分〜30分乾燥させ、さらに200
〜300℃で10〜30分加熱硬化させて被覆層を持ち
、カールのない回路基板が得られる。
得られた被?[について、特性を調べたところ、以下の
ような特性が得られた。半田耐熱性は、 300℃、6
0秒以上の浸漬後も何ら変化は認められなかった。可撓
性は、MIT耐折試験において、曲率半径0.38m1
11、折り曲げ角度左右で片側135℃で往復270℃
を1回とし、速度175/分、荷重500g条件の耐折
性で50回以上を示し、フレキシブルプリント配線板用
カバーレーインキとして十分利用できるものである。
ような特性が得られた。半田耐熱性は、 300℃、6
0秒以上の浸漬後も何ら変化は認められなかった。可撓
性は、MIT耐折試験において、曲率半径0.38m1
11、折り曲げ角度左右で片側135℃で往復270℃
を1回とし、速度175/分、荷重500g条件の耐折
性で50回以上を示し、フレキシブルプリント配線板用
カバーレーインキとして十分利用できるものである。
以下、本発明を実施例により説明する。
調整例1[ポリアミド酸の合成]
攪拌機、温度計及び窒素買換装置を付した2aの4つロ
セバラブルフラスコを水浴上に固定化した。減圧蒸留し
たN−メチル−2−ピロリドン1300mlを窒素気流
下加えた。ざらにp−フェニレンジアミン44.71g
4413.5ミリモル)、4.4−ジアミノジフェニル
エーテル20.70g(103,4ミリモルンを仕込み
、懸濁させた0次いで3,3°、4.4−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物152.07g (Si2.a
ミリモル)を徐々に添加した0反応系を30℃以下にな
るように保持しながら透明粘稠液体となるまで攪拌した
。
セバラブルフラスコを水浴上に固定化した。減圧蒸留し
たN−メチル−2−ピロリドン1300mlを窒素気流
下加えた。ざらにp−フェニレンジアミン44.71g
4413.5ミリモル)、4.4−ジアミノジフェニル
エーテル20.70g(103,4ミリモルンを仕込み
、懸濁させた0次いで3,3°、4.4−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物152.07g (Si2.a
ミリモル)を徐々に添加した0反応系を30℃以下にな
るように保持しながら透明粘稠液体となるまで攪拌した
。
このようにして得られたポリアミド酸溶液(A)は、そ
の固有粘度が1.6で固形分濃度14.51ii%で、
E型粘度計:ローター3°XRI4(以下同様)の条件
で0.5rpmで測定した粘度は80.000センチボ
イズであフた。
の固有粘度が1.6で固形分濃度14.51ii%で、
E型粘度計:ローター3°XRI4(以下同様)の条件
で0.5rpmで測定した粘度は80.000センチボ
イズであフた。
実施例1〜4、比較例1.2
調整例1のポリアミド酸溶液(A)100部とアエロジ
ルRY200 (日本アエロジル株式会社製)、アエロ
ジル200(日本アエロジル株式会社製)、アルミニウ
ムオキサイドC(日本アエロジル株式会社製)、レベリ
ング剤(東洋インキ株式会社製505添加剤)を3木ロ
ールミルで3回混練してペースト状のフレキシブル回路
基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物(B)〜(G)
が得られた。その配る例を第1表に示す。
ルRY200 (日本アエロジル株式会社製)、アエロ
ジル200(日本アエロジル株式会社製)、アルミニウ
ムオキサイドC(日本アエロジル株式会社製)、レベリ
ング剤(東洋インキ株式会社製505添加剤)を3木ロ
ールミルで3回混練してペースト状のフレキシブル回路
基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物(B)〜(G)
が得られた。その配る例を第1表に示す。
得られた組成物の粘度を、5 rpmと0.5rpmで
測定した。これらの値と、0.5rpmでの粘度を5
rpmでの粘度で割った横変比を第2表に示す。
測定した。これらの値と、0.5rpmでの粘度を5
rpmでの粘度で割った横変比を第2表に示す。
このようにして得た組成物(B)〜(G)をスクリーン
印刷法でBOメツシュのスクリーンを用いてフレキシブ
ル銅張板(ポリイミドベース厚み60μm)状に印刷を
行フた。その後100℃でlO分間熱IA埋を行った、
さらにその上に重ね刷りを行い、100℃で10分、次
いで300℃で10分熱処理を行った。得られた皮膜の
パターンのダレ幅とパターン精度、表面平滑性、カール
、皮脂厚、作業性を第3表に示す。
印刷法でBOメツシュのスクリーンを用いてフレキシブ
ル銅張板(ポリイミドベース厚み60μm)状に印刷を
行フた。その後100℃でlO分間熱IA埋を行った、
さらにその上に重ね刷りを行い、100℃で10分、次
いで300℃で10分熱処理を行った。得られた皮膜の
パターンのダレ幅とパターン精度、表面平滑性、カール
、皮脂厚、作業性を第3表に示す。
この表における作業性良好とは、印刷時における泡、ハ
ジキ、滲み、かすれ、インキの糸引きが発生しない状態
をいう。
ジキ、滲み、かすれ、インキの糸引きが発生しない状態
をいう。
さらに、得られたカバーレー皮膜付きプリント配線板の
特性結果、特に可撓性、耐熱性、電気特性について第4
表に示した。
特性結果、特に可撓性、耐熱性、電気特性について第4
表に示した。
この表で、可撓性は、樋IT式屈曲試験橋を用い、屈曲
速さ180回/分、張力500gf、曲率半径0、Hm
mの条件でカバーレー皮膜に白化、クランクが生じるま
での屈曲回数として示した。測定は、エツチングにより
導体幅1.5Inm、間1!i1.ommで1往復の導
体を形成したものについて行った。
速さ180回/分、張力500gf、曲率半径0、Hm
mの条件でカバーレー皮膜に白化、クランクが生じるま
での屈曲回数として示した。測定は、エツチングにより
導体幅1.5Inm、間1!i1.ommで1往復の導
体を形成したものについて行った。
耐熱性は300℃の半田洛中に60秒フロートさせた時
の皮膜のへガレ、フクロ、変色を目視により判定し、試
験前後でその変化が認められないものを良好とした。
の皮膜のへガレ、フクロ、変色を目視により判定し、試
験前後でその変化が認められないものを良好とした。
密着性は、JISK5400に基き、(財)日本塗装技
術協会の判定基準により評価を行った。即ち、1cm四
方の区画を縦横1m+a間隔の線で区切り、この線に沿
ワて1+nm四方の区画が100個できるようにカッタ
ーナイフ等の刃でカバーレー皮膜のみが切断され、基材
が切れないように切り込みを入れた。次に切り込みを入
れた皮膜にセロハンテープを張り、90度の角度に引っ
張り上げ、その時にin++n四方の区画が何個剥がれ
るかにより評価を行った。1個の剥離もなく、またそれ
ぞれの区画に欠損のないものを、10点満点の評価とし
た。
術協会の判定基準により評価を行った。即ち、1cm四
方の区画を縦横1m+a間隔の線で区切り、この線に沿
ワて1+nm四方の区画が100個できるようにカッタ
ーナイフ等の刃でカバーレー皮膜のみが切断され、基材
が切れないように切り込みを入れた。次に切り込みを入
れた皮膜にセロハンテープを張り、90度の角度に引っ
張り上げ、その時にin++n四方の区画が何個剥がれ
るかにより評価を行った。1個の剥離もなく、またそれ
ぞれの区画に欠損のないものを、10点満点の評価とし
た。
電気特性はJIS C8481に基き線間1.Omm総
延長80mmの平行パターンをエツチングにより形成し
たものについて、DC100V印加後1分経過時の線間
絶縁抵抗を示した。
延長80mmの平行パターンをエツチングにより形成し
たものについて、DC100V印加後1分経過時の線間
絶縁抵抗を示した。
上記の実施例、比較例より、実施例はいずれの物性も優
れた値を示すが、比較例1は基板に対する密着性が劣り
、比較例2は印刷性が劣った。
れた値を示すが、比較例1は基板に対する密着性が劣り
、比較例2は印刷性が劣った。
以上の説明から明白になったように、本発明に係るフレ
キシブルプリント基板用カバーコート皮膜は、耐熱性、
密着性、可撓性、電気特性に優れたものであり、フレキ
シブルプリント基板上にスフレーン印刷により塗布する
ことにより、容易にイ3頼性の高いカバーコート皮膜を
形成することができる。このためカバーフィルムの貼り
合せの様な複雑な作業が不要となるため生産効率が向上
し、また印刷して熱乾燥するだけの手法のため、ロール
プレスのような高価な設備は不要である。
キシブルプリント基板用カバーコート皮膜は、耐熱性、
密着性、可撓性、電気特性に優れたものであり、フレキ
シブルプリント基板上にスフレーン印刷により塗布する
ことにより、容易にイ3頼性の高いカバーコート皮膜を
形成することができる。このためカバーフィルムの貼り
合せの様な複雑な作業が不要となるため生産効率が向上
し、また印刷して熱乾燥するだけの手法のため、ロール
プレスのような高価な設備は不要である。
以上
手続補正書
Claims (2)
- (1)ポリイミド又はポリアミド酸溶液に表面処理され
た微粉末シリカならびに微粉末アルミナを配合してなる
回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物。 - (2)ポリイミド又はポリアミド酸溶液に表面処理され
た微粉末アルミナを配合してなる樹脂組成物を有効成分
とする回路基板被覆用カバーレーインキ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1021779A JPH02202564A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1021779A JPH02202564A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02202564A true JPH02202564A (ja) | 1990-08-10 |
Family
ID=12064548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1021779A Pending JPH02202564A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 回路基板被覆用カバーレーインキ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02202564A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006036913A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂ペーストの製造方法及び樹脂ペースト |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1021779A patent/JPH02202564A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006036913A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂ペーストの製造方法及び樹脂ペースト |
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