JPH02200769A - Al基制振材料の製造方法 - Google Patents

Al基制振材料の製造方法

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JPH02200769A
JPH02200769A JP2027389A JP2027389A JPH02200769A JP H02200769 A JPH02200769 A JP H02200769A JP 2027389 A JP2027389 A JP 2027389A JP 2027389 A JP2027389 A JP 2027389A JP H02200769 A JPH02200769 A JP H02200769A
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JP
Japan
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layer
thickness
alloy
cooling
vibration damping
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Pending
Application number
JP2027389A
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English (en)
Inventor
Satoru Shoji
了 東海林
Atsuo Takabayashi
高林 篤夫
Ken Matsuoka
松岡 建
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Furukawa Aluminum Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Aluminum Co Ltd
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  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は優れた振動減衰特性を有し、音響機器、精密機
器、自動車などの振動を嫌う構造部材として使用される
Al基制振材料の製造方法に関するものである。
〔従来の技術と発明が解決j7ようとする課題〕従来、
音響機器、精密機器、自動車などの振動を嫌う構造部材
用の金属材料、いわゆる制振材料としては、Fe−Cr
系、Mn−Cu系、Zn−Al系、Nt−Ti系等の合
金が知られている。これ等の合金は振動減衰性が大きい
が、比重が大きいという共通の欠点を有し、機器の軽量
化をはかろうとする場合には不適当である。
またMgやM g −Z r系の鋳造材も制振材料とし
て知られており、大きい振動減衰性を示し、しかも比重
が小さいという長所を有するが、冷間加工がまったくで
きないという欠点がある。
制振材料はその振動減衰メカニズムにより、転位型、複
合型、強磁性型、双晶型に分類されるが、AlまたはA
l合金は通常これらのメカニズムが働かないか、効果が
小さいため、制振材料としては使用できないものであっ
た。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はかかる状況に鑑み種々検討の結果、Al又はA
l合金の表層に厚さ10μm以上のZnとAlの合金層
を形成させることによって優れた振動減衰性を付与しう
ろことを知見し、更に検討の結果、Alをベースとする
ため比重が小さく、しかも冷間加工が容易なAA’基制
振材料の製造方法を開発したものである。
即ち本発明は、A、l又はAl合金の表面にZnメッキ
を施した後、275〜420℃の温度で拡散加熱処理を
施し、で冷却することにより、表層に厚さ10μm以上
のZnとAlの合金層を形成することを特徴とするもの
である。
〔作  用〕
このようにして表層に形成したZnとAlの合金層は微
細な共析組織を有しており、結晶粒界の粘性流動により
振動を吸収する効果が大きく、制振材料として十分な機
能を有する。また一般に振動の横波は表面において最大
の振幅となるので、表層のZnとAlの合金層の振動減
衰効果が効率よく発揮される。しかして該合金層の厚さ
が10μm未満では振動減衰効果が充分でなく、望まし
くは20ttm以上のできるだけ厚い合金層を形成する
方が大きい振動減衰効果が得られる。
本発明におけるAl又はAl合金としては、例えば月S
に規定された1000〜7000系列のすべての展伸用
合金及びAC,ADC系列のすべての鋳物、ダイカスト
用合金が好適に適用fiJ能であり、用途に応じて適宜
使い分ければよい。また形状は板、棒、形材、鍛造品、
鋳物など、特に制約はない。
Znメッキは電気メッキ又は溶融メッキの何れかの方法
により施し2、電気メッキの場合はAl又はA、1合金
の表面を清浄化したのち、メッキの付着性を高めるため
の下地処理としてジンケート処理を施し、続いて酸性Z
nメッキ浴(硫酸亜鉛、塩化亜鉛、ホウフッ化亜鉛等)
やアルカリ亜鉛浴(青化炬鉛−青化ソーダー苛性ソーダ
の混合液)などの浴中で電流密度1〜15A/dnfで
行なう。メッキ層の厚さは5 u m以上とすることが
望ましい。これは5μm未満では後述の拡散加熱処理に
よって10μm以」二の厚さのZn−Al合金層を形成
させるのが困難であるためである。また溶融メッキの場
合は430〜461) ℃に加熱した溶融メッキ槽に、
フラックス層をくぐらせたAt又はAl合金を浸漬して
メッキを施す。この場合も5μm以上のメッキ層を形成
させるのが良い。
尚これらのZnメッキを施したあとで、後処理としてし
ばしば行われているクロメート処理を施すことにより、
耐食性と光輝性を向上させることができ、用途によって
はこのような処理を施しても良い。
このようにしてZnメッキ層を設けたAl又はAl合金
に、拡散加熱処理を施して冷却し、表層に微細な共析組
織を形成させる。この拡散加熱処理によりZnとAlの
界面において、Zn原子はAlマトリックス中に、Al
原子はZnメッキ層中にそれぞれ相互拡散し、Zn−A
l合金層(拡散m>を形成する。このZn−Al合金層
を10μm以上の厚さになるように形成する。しかして
加熱温度が275℃未満では拡散が不充分で、厚さ10
μm以上の拡散層を得るのが困難であり、逆に420℃
を越えると、Znの融点を越えるため、Znが溶融して
流れ落ちてしまうため不適当である。最も好ましい温度
範囲は3H〜400℃である。尚合金層(拡散層)の厚
さは拡散加熱処理時間が長くなるほど厚くなる。上記1
0μm以上の厚さを得るには、例えば加熱温度が30[
1’Cの場合は200時間程、400 ’Cの場合には
1時間程度を要する。いずれにせよ10μm以上の厚さ
になるように温度と保持時間を設定すれば良い。
このように拡散加熱処理を施した後、冷却す゛ることに
より、ZnとAtの微細な共析組織が、表層に形成され
、このような合金層の存在のため、前述のように良好な
振動減衰性を有するAa基制振材料が得られる。尚冷却
の方法であるが、炉冷、空冷、水冷の何れの方法でも可
であるが本発明前らの実験によれば、水冷の場合若干高
い振動減衰性が得られた。これは急激な冷却により、よ
り微細な共析合金層が得られるためと推定される。
このようにして得られた表層に厚さIQ71rn以上の
ZnとAlの合金層を形したAl又はAl合金は優れた
振動減衰性を有するほか、A、lをベースとしているた
め、比重が小さく加工性が良好であり、特に軽量化を要
する用途に適し、でいる。
以下本発明の実施例について説明する。
〔実施例〕
厚さ21111IN巾200m、長さ500 trrm
lの月55052At’合金板を脱脂した後、ジンケー
ト処理を施して厚さ0.03μmの薄いZn析出ド地処
理を施した。即ち浴組織を337M−8252に規定さ
れた苛性ソーダー酸化亜鉛−塩化第2鉄−ロッシェル塩
の混合水溶液に、25℃で30秒間浸漬し、てZn析出
下地処理を行なった。
次に硫酸亜鉛410g、塩化アルミニウム211g。
硫酸ソーダ75g1水1.1に溶かし5た25℃の水溶
液中で、純Zn板を対極として電流密度2A/drdで
電気メッキ処理を施し、第1表に示す厚さのZnメッキ
を行なった。これに第1表に示す各種条件の拡散加熱処
理を施した後、冷却した。
これより厚さ2閣、巾10+am、長さ250 mの試
験片を切り出し、その断面をX線マイクロアナライザー
により分析し、ZnとAlの合金層の厚さを測定すると
共に、試験片を片持振動法により、振動減衰性(損失係
数η)を測定した。
これ等の結果を第1表に併記した。
振動減衰性は試験片の一端をチャッキングして発振器に
より強制的に振動を与え、共振周波数frでの損失係数
ηを(1)式により求めて比較した。
η −一Δf−,,,,,,,,,,,,−、(+、)
r 但し△fは3dB値幅 第1表から明らかなよう、Znメッキを施さないUS 
5f152からなる従来法l!1111によるものは損
失係数が0.[101と小さいのに対し、Znメッキ後
275〜420℃の拡散加熱処理により、厚さ10μm
以上のZn−Al合金層を形成した本発明法?Jal〜
5によるものは、0.1)12以上の損失係数を示し、
優れた振動減衰性を有することが判る。
これに対しZnメッキを施すも拡散加熱処理を行なわな
い比較法隘6及び拡散加熱処理を行なうも処理条件が外
れる比較法7〜9は何れもZn−AA’合金層の厚さが
薄く、損失係数も0.0O6以Fと小さいことが判る。
特に420℃を越える温度で拡散加熱処理したものはZ
nが溶融して流れ落ち、厚いZn−Al合金層を形成す
ることができない。
〔発明の効果〕
このように本発明によれば優れた振動減衰特性を有し、
かつAlをベースとするため軽量で加工性に優れた制振
材料を得ることができる等工業上顕著な効果を奏するも
のである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Al又はAl合金の表面にZnメッキを施した後、27
    5〜420℃の温度で拡散加熱処理を施して冷却するこ
    とにより、表層に厚さ10μm以上のZnとAlの合金
    層を形成することを特徴とするAl基制振材料の製造方
    法。
JP2027389A 1989-01-30 1989-01-30 Al基制振材料の製造方法 Pending JPH02200769A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52110228A (en) * 1976-03-12 1977-09-16 Sumitomo Light Metal Ind Method of fabricating zinc diffused aluminum material
JPS6135262A (ja) * 1984-07-27 1986-02-19 Brother Ind Ltd ドツトプリンタ
JPS61204361A (ja) * 1985-03-08 1986-09-10 Nippon Steel Corp プレス成形性の優れた制振鋼板

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52110228A (en) * 1976-03-12 1977-09-16 Sumitomo Light Metal Ind Method of fabricating zinc diffused aluminum material
JPS6135262A (ja) * 1984-07-27 1986-02-19 Brother Ind Ltd ドツトプリンタ
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