JPH02195593A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH02195593A
JPH02195593A JP1013818A JP1381889A JPH02195593A JP H02195593 A JPH02195593 A JP H02195593A JP 1013818 A JP1013818 A JP 1013818A JP 1381889 A JP1381889 A JP 1381889A JP H02195593 A JPH02195593 A JP H02195593A
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寛範 赤松
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体記憶装置に関するものである。
従来の技術 現在、ダイナミックRAM(以下DRAM)は、最も記
憶容潰の大きな半導体記憶装置として用いられており、
さらに高集積化が要求されている。ORAMは、その主
要部分であるメモリセルの構造上の問題によって、リフ
レッシュ動作を行なわなければ、記憶しているデータを
失なう事になり、またDRAMの高集積化に伴なってリ
フレッシュを行なう時間が長くなってきており、リフレ
ッシュ時間の短縮が重要な課題となっている。
DRAMのリフレッシュ動作を第11図、第12図を用
いて簡単に説明する。第11図はDRAMのリフレッシ
ュ動作のタイミングチャート図で、第12図はDRAM
のメモリセルとその周辺の回路図である。MAはメモリ
セル、SAはセンスアンプ、載より一ド線、b、bはビ
ット線対、PLCはセンスアンプ制御回路、PLCLは
センスアンプ制御回路制御信号線である。第11図に示
す様にワード線讐が立ち上がってメモリセルMAのデー
タがビット線対す、bに読み出されるとセンスアンプS
Aが活性化され、ビット線対す、b上に読み出されたデ
ータが増幅される。その増幅されたデータがメモリセル
MAに再びRき込まれてDRAMのリフレッシュが終了
する。以上に示した様にリフレッシュはワード縁りに接
続されているメモリセルMA毎に行われている為、ワー
ド線の本数が少なくなればその分リフレッシュ時間は短
くなる。
従来の半導体記憶装置を第13図、第14図、第15図
、第16図を用いて説明する。第13図は従来の技術に
よるDNAHのブロック図、第14図は従来の技術によ
るDRAMのメモリブロック内の回路図、第15図は従
来の技術によるDRAMの記t!容雇によるリフレッシ
ュ時間の割合を比較した図、第16図は従来の技術によ
る画像メモリの書き込み・読み出しとリフレッシュを行
なうタイミングを画像メモリの記憶容量の大きさによっ
て比較した図である。
110は入出力回路、D、Dはデータ線対、Me^〜D
はメモリブロック、ROCはロウデコーダ制御回路、C
OCはコラ11デコーダ制御回路、RAはロウデコーダ
制御信号線、CAはコラムデコーダ制御信号線、PLC
Lはセンスアンプ電源制御回路制御信号線、coはコラ
ムデコーダ、RO−はロウデコーダ、PLCはセンスア
ンプ電源制御回路、SA+〜。はセンスアンプ、SW+
”−nはスイッチ素子、SすC1〜nはスイッチ素子制
御線、h1〜。、b1〜1.はビット線対、PL+は第
1のセンスアンプ電源線、PL2は第2のセンス7ンブ
電源線である。
第13図、第14図に示したDRAMにおいてリフレッ
シュは、ワード線11111に接続されているメモリセ
ルMAからワード線unに接続されているメモリセルM
Aまで順次行なっており、これを単位時間内に行なう事
によってメモリセルのデータを保持し続けている。しか
し、第15図に示す様に記憶容量が大きくなるとリフト
・ソシュを行なう時間が長くなり、実際にデータを読み
書きを行なう時間が短くなってしまう。すなわち、第1
5図において(1,従来例)の4倍の記憶容量を持つ(
2,従来1I14)はリフレッシュ時間も4倍必要にな
りその分、読み書きを行なう時間が短くなっている。特
に口RA阿の特殊なタイプである画像メモリなどの様に
メモリセルのデータをすべて順次、書き込み・読み出し
を行なうメモリは必ずすべてのメモリセルの書き込み・
読み出しを行なう為、記憶容量が小さい場合は第16図
の(1,従来例)に示す様に特にリフレッシュを行なう
時間を設ける必要はないが、記憶容量が大きくなると(
2,従来例)に示す様にメモリセルがデータを保持する
事ができる時園内にすべてのメモリセルをアクセスする
事ができなくなる為、特にリフレッシュを行なう時1到
を設ける必要が出てきている。
発明が解決しようとする課題 以上に述べてきた様にDRAMの高集積化が進むにつれ
てメモリセルの数が増加する為に、外部から見て無駄な
リフレッシュ時間が長くなってきている。これを緩和す
る為、高集積化が進むにつれてリフレッシュの回数を少
なくしているがこれは、メモリセルの性能を向上させる
すなわち、メモリセルのデータの保持時間を長くする事
によって実現されている。しかし高S積化が大幅に進ん
だ現在、これ以上メモリセルの性能を向上させる事は不
可能になってきておりそこで、リフレッシュ時間を短か
くする工夫が求められている。特に画像メモリなどの様
にメモリセルのデータをすべて順次アクセスするメモリ
については、記憶容量が小さいならば、メモリセルがデ
ータを保持していられる時園内にすべてのメモリセルを
アクセスできたのだが、記憶容量が大きくなってくると
、メモリセルがデータを保持していられる時間内にすべ
てのメモリアルをアクセスする事が不可能になる為、リ
フレッシュを行う必要がでてきている。
本発明の目的は、記憶容量が大きくなってもリフレッシ
ュを行う必要のない画像メモリ等の半導体記憶装置を提
供する事であり、記憶容量が大きくなってもリフレッシ
ュ時間が短かいDRAM等の半導体記憶装置を提供する
事である。
課題を解決するための手段 本発明は上述の課題を解決するため、マトリックス状に
複数のメモリセルが配置され、前記複数のメモリセルの
コラムアドレスを選択する複数のビット線対と前記複数
のメモリセルのロウアドレスを選択する複数のワード線
を配置したメモリアレイ部と前記メモリアレイ部の外側
に配置されたセンスアンプ回路とを有するブロックを複
数個設け、前記各ブロックのワード線の制御を共通で行
ない、複数の前記ブロックの一部のブロックは書き込み
・読み出しを行なうブロックとし、残りのブロックはリ
フレッシュを行なうブロックとするという構成を備えた
ものである。
またもう一つの発明は、複数の前記ブロックを全ブロッ
ク同時にリフレッシュを行なうという構成を備えたもの
である。
作用 本発明は上述の構成によって、特に画像メモリなどの様
にメモリセルな順次アクセスするメモリについては、リ
フレッシュを行なう時間を設ける事なく大容徹のものを
実現する事が可能になる。
またもう一つの本発明は上述の構成によって、複数のブ
ロックにおいて同時にリフレッシュを行なう事が可能に
なる為、リフレッシュの回数を少なくする事なしにリフ
レッシュ時間を短かくする事が可能になり、DRAMの
より一層の高集積化が可能になる。
実施例 本発明による第1の実施例を第1図、第2図、第3図、
第4図、第5図を用いて説明する。第1図は本発明の第
1の実施例における半導体記憶装置のブロック図、第2
図は本発明の第1の実施例における半導体記憶装置のメ
モリブロック内の回路図、第3図はセンスアンプ電源制
御回路の回路図、第4図はセンスアンプ回路の回路図、
第5図は本発明と従来例とのタイミングの比較図である
Iloは入出力回路、D、Dはデータ線対、MBO〜口
はメモリブロック、ROCはロウデコーダ制御回路、C
OCはコラムデコーダ制御回路、RAはロウデコーダ開
運信号線、CAはコラムデコーダル制御信号線、PLC
Lはセンスアンプ電源制御回路制御信号線、COはコラ
ムデコーダ、ROWはロウデコーダ、PLCはセンスア
ンプ電源制御回路、SA+〜。はセンスアンプ、SW+
〜。はスイッチ素子、SνC1〜nはスイッチ素子制御
線、b1〜。、b+〜。はビット線対、Pl、1は第1
のセンスアンプ電源線、Pl2は第2のセンスアンプ電
源線、讐1〜Ilはワード線、門^はメモリセル、MP
+〜4はP形MO5)ランジスタ、MN+〜4はN形M
O5)ランジスタ、vCCは第1の電源、VSSは第2
の電源、11はインバータである。
第1図において各メモリブロック−〇11〜0は、それ
ぞれコラムアドレスバスCAの信号線が1本ずつ接続さ
れかつ、各ブロックとも共通の信号であるロウアドレス
バスRAの信号線がm本とセンスアンプ制御信号線PL
CLが接続されている。コラムアドレスバスCAの18
号線は全部で41本あり、またコラムアドレスバスC^
の信号はコラムデコーダ制御回路C0Cの出力、ロウア
ドレスバスRAの信号はロウデコーダ制御回路ROCの
出力である。また、各メモリブロックMaII−oは、
それぞれデータ線対り、Dを介して入出力回路110と
接続されている。
各メモリブロックNBA%Dは第2図に示す様な構成に
なっている。第2図においてビット線対す、〜。、b1
〜nはワード縁り1〜nと直交配置され、その交点には
メモリセル門^が配置されている。ワード線W+〜nは
ロウデコーダRO−により制御され、%I11〜l、の
中から■木が選択される。ビット線対b1〜n、b+〜
。はセンスアンプSA+〜。の人力となり、センスアン
プSAの出力はコラムデコーダCOの出力SWC+〜n
によって制御されるスイッチ素子Slj+〜nを介して
データ線対0,0に接続される。またセンスアンプSA
+〜。の第1、第2の電源線PL+ 、Pl2は、セン
スアンプ電源制御回路PLCによって制御されており、
このPl、、l、Pl2の制御を行なう事によってセン
スアンプの制御を行なっている。
次に第1の実施例における半導体記憶装置の動作につい
て説明する。本実施例の半導体記憶装置を画像メモリの
様にメモリセルのデータを順次書き込み・読み出しを行
なうメモリとし、第1図においてたとえば、メモリブロ
ックMBc+を書き込み・読み出しを行なうブロック、
残りのメモリブロックMBe=oをリフレッシュを行な
うブロックとすると、第1図に示すように各メモリブロ
ックMB^〜Dのワード線とセンスアンプは共通に制御
されている為、第5図の(39本発明)に示す様にメモ
リブロックMBoの書き込み・読み出しを行なっている
1mに、残りのメモリブロックMBe〜口は自動的にリ
フレッシュされるので記憶容量が4倍になっても(2、
従来例)の様に特にリフレッシュを行なう時間を設ける
事なく、メモリセルのデータを保持する事が可能になる
。すなわち、各メモリブロックMBo−Dは第2図に示
す様にロウアドレスバスl?Aの信号とセンスアンプ電
源制御回路制御信号線PLCLが共通である為、各メモ
リブロックMan−o内のロウデコーダROMと電源制
御回路PLCが共通で制御される事になり、共通のアド
レスを持つあるワード線W、が選択され、センスアンプ
SA+−nが活性化される。センスアンプSA+〜。が
活性化される事により各メモリブロックMBn−oにお
いてビット線対b1〜。、b1〜nに読み出されたデー
タは、センスし増幅される。増幅されたデータはメモリ
ブロックMBAのみ、スイッチ素子S讐1〜。を通して
データ線対り、Dに転送され、残りのメモリブロックM
BR〜DはメモリセルMAに再書き込みされる為、リフ
レッシュが自動的に行われる事になる。ここでセンスア
ンプ電源制御回路PLCは、第3図に示す様な構成にな
っており、センスアンプYf;、R制御回路制御信号線
円、CLが旧状態になったときにMOS)ランジスタM
P3 。
MN3がONL/て、電源線PL+ 、Pl2に電力が
供給される。また、センスアンプSA+〜。は第4図に
示す構成になっており、電源線PL+ 、Pl2に電力
が供給されると活性化されビット線対bn、bnに読み
出されたデータをセンスし増幅を行なう。
なお、本実施例は記憶容量が4倍の時を説明したが、記
憶容量が増加してメモリブロック数がいくら増えようと
もリフレッシュを行なう時間を特に設ける必要はない。
実施例2 第6図は本発明をDRAMに用いた場合の書き込み・読
み出し時間とリフレッシュ時間の割合を本発明の第2の
実施例と従来例において比較した図である。第1図と第
2図に示す構成をとるDRAMにおいて、メモリブロッ
クMBo〜0を全部リフレッシュを行なうブロックとす
ると、ワード線4本分をまとめてリフレッシュする事と
なり、ワード線の本数が見かけ上1/4に減ったのと同
様であるので第6図の(30本発明)に示す様にメモリ
容量を4倍にしても第6図の(2,従来例)の様にリフ
レッシュ時間は増加せず、単位時間内において署き込み
・読み出しを行なう時間が減少する事はなく、リフレッ
シ:Lの回数を少なくする必要がなくなる為、メモリセ
ルの保持時間などの条件を緩和できる。
つまり、以下の式が成り立つ事になり、ブロック数を増
やせば、リフレッシュ時間が減少する事がわかる。
ブロック数 ×(ワード線1本当たりのリフレッシュに必要な時間) 実施例3 本発明による第3の実施例を第7図、第8図、第9図、
第1O図を用いて説明する。第7図は本発明の第3の実
施例における半導体記憶装置のブロック図で本発明の第
1の実施例における半導体記憶装置に改良を加えたもの
、第8図は本発明の第3の実施例における半導体記憶装
置のメモリブロック内の回路図で本発明の第1の実施例
における半導体記憶装置のメモリブロックに改良を加え
たもの、第9図は本発明の第3の実施例における半導体
記憶装置のセンスアンプ電源制御回路の回路図、第1O
図は従来例と本発明の第1の実施例における半導体記憶
装置と本発明の第3の実施例における半導体記憶装置の
消m電流の比較図である。
Pl、CLa−oはセンスアンプ電源制御回路制御信号
線、RPLCL^〜Dはリフレッシュ用センスアンプ電
源制御回路制御信号線、12.13はインバータ、MP
4 、MPsはP形MO5)ランジスタ、MN4.MN
5はN形MOSトランジスタ、PLCAはRき込み−読
み出し用センスアンプ電源制御回路、PLCBはリフレ
ッシュ用センスアンプ電源制御回路である。
第1の実施例における半導体記憶装置の構成においては
4つのメモリブロックを同時に活性化する為すなわち、
ワード線が立ち上がフでセンスアンプが活性化される為
に第10図に示す様に消費電流が従来に比べると4倍に
なってしまう。消費電流の増加はそれ自体問題であるが
、電源配線における電圧降下による談動作、動作マージ
ンの劣化の原因ともなると共に、ダウンコンバータなと
の電源回路の設計にも悪影響を与える為避けなければな
らない問題である。そこで、第9図に示す様に第3図に
示す第1の実施例のセンスアンプ電源制御回路PLCを
改良する。即ち、センスアンプ電源制御回路PLCを書
き込み・読み出し用とリフレッシュ用の2系統設け、書
き込み・読み出し用を行なうメモリブロックにおいては
書き込み・読み出し用センスアンプ電源制御回路P L
CAを使用し、リフレッシュを行なうメモリブロックに
おいてはリフレッシュ用センスアンプ電源制御回路PL
CI)を使用する。第9図においてインバータ12、P
形MOSトランジスタMP4、N形MO9)ランジスタ
MNaが書き込み・読み出し用センスアンプ電源制御回
路P LCAであり、インバータ13、P形MO5)ラ
ンジスタMPs、N形MO5)ランジスタMNsがリフ
レッシュ用センスアンプ電源制御回路PLCBである。
ここでMP5 、MN5はMh 、MNaと比べてサイ
ズが小さくなっており、リフレッシュを行なう時に消費
電流を小さく抑える様にしている。なお、書き込み・読
み出し用のセンスアンプ電源制御回路PLCAはセンス
アンプSA+〜。の後に接続されているデータ線対り、
Dなどの負荷容量を単位時間内にセンスアンプSA+−
1が充電する必要があるのである程度大きなサイズが必
要となる。画像メモリなどの様にメモリセルのデータを
順次アクセスしていく様なメモリにおいてたとえば、第
7図においてメモリブロックM84をアクセスするブロ
ック、残りのメモリブロックMBe〜l11をリフレッ
シュを行なうブロックとすると、Menにおいては書き
込み・読み出し用センスアンプ電源制御回路PLCA、
門B8〜Dにおいては、リフレッシュ用のセンスアンプ
電源制御回路PLCBを使用する。1本のワード線には
第8図に示す様に多数のメモリセルMAが接続されてお
り、メモリブロックM8111においては1本のワード
線讐。に接続されているメモリセル晶を順次アクセスし
ていく為、1本のワード線讐。に接続されているメモリ
セル晶をすべてアクセスするのに充分な時間が必要にな
る。一方リフレッシュは一本のワード線V。に接続され
ているメモリセルMAを同時に行なう為、メモリブロッ
クMBe〜nにおいてはメモリブロックMBnにおいて
順次メモリセル混をアクセスしている間にゆっくりとリ
フレッシュを行なう事が可能である。
よって、消費電流の増加をさける為にサイズの小さいセ
ンスアンプ電源制御回路を使用する事が可能であり、第
10図に示す様に消費電流を低減する事が可(iEにな
る。
以上に示した様に書き込み・読み出し用のセンスアンプ
?tgi v1m回路とリフレッシュ用のセンスアンプ
制御回路を設ける事により、複数のメモリブロックのリ
フレッシュを同時に行なっても消費電力を低く抑える事
が可能になる。
発明の効果 以上の様に本発明によれば、順次アクセスするメモリに
おいて記憶容量が増加した場合でも、特にリフレッシュ
を行なう時間を設ける必要がない為メモリの設計が簡単
になると共に、このメモリを使用する機器の設計も簡単
になるという効果がある。
またもう一つの本発明によれば、メモリーセルアレイを
分割した複数のブロックにおいて、同時にリフレッシュ
を行なう事が可能となる為リフレッシュ時間を短縮する
事が可能となり、リフレッシュの回数を少なくする必要
がなくなるという効果があり、メモリーセルの保持時間
などの条件を緩和できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1.2の実施例における半導体記憶
装置のブロック図、第2図は本発明の第1.2の実施例
における半導体記憶装置のメモリブaツク内の回路図、
第3図は半導体記憶装置のセンスアンプ電源制御回路の
回路図、第4図は半導体記憶装置のセンスアンプの回路
図、第5図は本発明の第1の実施例と従来例とのタイミ
ングの比較図、第6図は本発明をDRAMに用いた場合
の書き込み・読み出し時間とリフレッシュ時間の割合を
本発明の第2の実施例と従来例において比較した図、第
7図は本発明の第3の実施例における半導体記憶装置の
ブロック図、第8図は本発明の第3の実施例における半
導体記憶装置のメモリブロック内の回路図、第9図は本
発明の第3の実施例における半導体記憶装置のセンスア
ンプ電源ルJ@回路の回路図、第1θ図は従来例の半導
体記憶装置と本発明の第1の実施例における半導体記憶
装置と本発明の第3の実施例における半導体記憶装置の
消費電流の比較を行なった図、第11図はDRAMのリ
フレッシュ動作のタイミングチャート図、第12図はO
RAMのメモリセルとその周辺の回路図、第13図は従
来の技術によるDRAMのブロック図、第14図は従来
の技術によるDRAMのメモリブロック内の回路図、第
15図は従来の技術によるDRAMの記憶容量によるリ
フレッシュ時間の割合を比較した図、第16図は従来の
技術による画像メモリの書き込み・読み出しとリフレッ
シュを行なうタイミングを画像メモリの記憶容量の大き
さによって比較した図である。 代理人の氏名 弁理士 粟野重厚 はか1名第2図 LCL 第 図 第 図 ε; d〕 第 図 1?PLcL〜 第 図 第11文 嘉12図 第 3図 第14図 /’LCL

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)マトリックス状に複数のメモリセルが配置され、
    前記複数のメモリセルのコラムアドレスを選択する複数
    のビット線対と前記複数のメモリセルのロウアドレスを
    選択する複数のワード線を配置したメモリアレイ部と前
    記メモリアレイ部の外側に配置されたセンスアンプ回路
    とを有するブロックを複数個設け、前記各ブロックのワ
    ード線の制御を共通で行ない、複数の前記ブロックの一
    部のブロックは書き込み・読み出しを行なうブロックと
    し、残りのブロックはリフレッシュを行なうブロックと
    することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. (2)複数のブロックを全ブロック同時にリフレッシュ
    を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    半導体記憶装置。
  3. (3)各ブロックにおいて、それぞれセンスアンプ制御
    回路を書き込み・読み出し用とリフレッシュ用の2系統
    設け、書き込み・読み出しを行なうブロックには前記書
    き込み・読み出し用のセンスアンプ制御回路を使用し、
    リフレッシュを行なうブロックには前記リフレッシュ用
    のセンスアンプ制御回路を使用することを特徴とする特
    許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体記憶装置
JP1013818A 1989-01-23 1989-01-23 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JP2574444B2 (ja)

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