JPH02192121A - 半導体ウェハの製造方法及び装置 - Google Patents

半導体ウェハの製造方法及び装置

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JPH02192121A
JPH02192121A JP983389A JP983389A JPH02192121A JP H02192121 A JPH02192121 A JP H02192121A JP 983389 A JP983389 A JP 983389A JP 983389 A JP983389 A JP 983389A JP H02192121 A JPH02192121 A JP H02192121A
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JP
Japan
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semiconductor wafer
gear
wafer
etching
semiconductor wafers
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Application number
JP983389A
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English (en)
Inventor
Masahiro Nakayama
雅博 中山
Noboru Kubo
昇 久保
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体ウェハの製造方法及び装置に関し、詳し
くは半導体ウェハのエツチング方法及びそのための装置
に関するものである。
[従来の技術] 半導体ウェハのエツチング法の1つとして溶液を用いた
ウェットエツチングが良く知られている。
これは複数個のウェハをカセット(ウェハホルダ)等に
保持してエツチング液中に浸漬し、電気化学的な反応に
よりエツチングする方法であり、エツチングを均一にす
るためにエツチング液中でウェハを回転させたり、ウェ
ハに揺動を与えたりすることが、−膜内に行われている
[発明が解決しようとする課題] 従来のこの種の装置は、回転のための駆動系と揺動のた
めの駆動系が独立に装備されている。この回転のための
駆動系は高価であり、その機構上ベルト等の付帯部品も
必要で、その機構が複雑となり、故障が多く、メンテナ
ンスにコストがかかるという欠点もあった。
本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、
回転用駆動系なしに、エツチング液中のウェハに揺動と
回転を与え得る改良された半導体ウェハの製造方法及び
装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段及び作用]本発明は半導体
ウェハをウェハ保持具に保持してウェットエツチングす
るにあたり、該半導体ウェハを上下揺動させることによ
り該半導体ウェハを回転させることを特徴とする半導体
ウェハの製造方法に関する。
また本発明は上記の方法を実現する手段としてエツチン
グ液を収納したエツチング槽と該槽内に半導体ウェハを
保持するウェハカセット及び該ウェハカセットとエツチ
ング液とを相対的に運動させる揺動手段とを有してなる
半導体ウェハの製造装置において、さらに該エツチング
槽内には、少なくともその一端に歯車を連結したシャフ
トが半導体ウェハに一部接触するように、ウェハカセッ
トに取り付けた軸受けで保持され、また該歯車と噛み合
うガイドレールが設けられており、揺動により該歯車が
ガイドレールに沿って回転し、この回転運動に連動する
該シャフトの回転により該半導体ウェハを回転できるよ
うにしたことを特徴とする半導体ウェハの製造装置を提
供する。
以下、図面を参照して本発明を具体的に説明する。第1
図は本発明の一具体例を示す説明図であって、同図中1
の半導体ウェハはウェハカセット2に複数枚収納されて
、エツチング槽3内のエツチング液4中に浸漬されてい
る。また、ウェハカセット2の少なくとも一端に固定さ
れた軸受け9には歯車5が回転可能に設けてあり、該歯
車5はエツチング槽3の天井部及び底部に支持具6で固
定したガイドレール7及び押えガイド7′と噛みあって
回転しつつ上下動可能である。また、歯車5の軸に連結
されたシャフト8が、ウェハカセット2に保持された半
導体ウェハlと一部で接触するように設けられている。
また、図示は省略した揺動用駆動系により半導体ウェハ
1は揺動されるようになっている。第2図はガイドレー
ル部分の説明図である。
第1図の構成によりつ5−バカセット2に上下揺動を与
えると、この動きに対応して軸受け9も上下動し、この
時歯車5はガイドレール7に沿って回転しつつ上下する
。この歯車5の回転によりシャフト8が回転し、該シャ
フト8に接触する半導体ウェハ1を回転させることがで
きる。つまり回転のための駆動系なしで、半導体ウェハ
に回転を与えることができる。
歯車5、ガイドレール7の材質は格別に限定されるとこ
ろはないが、シャフト8の材質は例えばゴム製等のよう
に半導体ウェハlを損傷しないように考慮して選択すべ
きである。
以上の説明ではウェハカセットの上下揺動により歯車を
上下方向のガイドレールに沿っテ回転すせる例を示した
が、ウェハカセットを水平方向く左右方向)に揺動させ
水平方向に設置したガイドレールに沿って歯車を回転さ
せる方式としても同様の効果を奏することは、言うまで
もない。
[実施例] 実施例1 2インチ円形ガリウムヒ素アズスライスの半導体ウェハ
25枚を第1図のような本発明装置のウェハカセットに
保持して、アンモニア系エツチング液を用いてエツチン
グした。揺動は30回/分、これによる半導体ウェハの
回転は90回/分であった。同様に10カセツトについ
て行い、計250枚の半導体ウェハをエツチングした。
エツチング後の半導体ウコハの表面を2000〜300
0ルクスの蛍光灯下で目視検査した結果、ムラ、シミ等
の異常は1枚も認められなかった。
実施例2 2インチ円形インジウム燐アズスライスの半導体ウェハ
について、エツチング峨として王水を用いた以外は、実
施例1と同様にして計250枚エツチングした。
エツチング後の半導体ウェハを実施例1と同様に検査し
たところ、やはリムラ、シミ等の異常は1枚も認められ
なかった。
[発明の効果] 以上説明したように、従来の方法では揺動と回転のため
の駆動系が独立に装備されており、また回転のための付
帯部品も必要であったが、本発明では回転のための駆動
系が不必要になり、その結実装置構成は単純になり、メ
ンテナンス等も軽減できて、コスト低減の効果が大きい
。しかも中に揺動をあたえるのみでウェハが回転するの
で、手動操作も可能であり、オフラインでも有効に利用
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施態様を説明する概略図であり、第
2図は第1図の部分説明図である。 lは半導体ウェハ 2はウェハカセット、3はエツチン
グ槽、4はエツチング液、5は歯車、6は支持具、7は
ガイドレール、7′は押えガイド、8はシャフト、9は
軸受けである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体ウェハをウェハ保持具に保持してウェット
    エッチングするにあたり、該半導体ウェハを揺動させる
    ことにより該半導体ウェハを回転させることを特徴とす
    る半導体ウェハの製造方法。
  2. (2)エッチング液を収納したエッチング槽と該槽内に
    半導体ウェハを保持するウェハカセット及び該ウェハカ
    セットとエッチング液とを相対的に運動させる揺動手段
    とを有してなる半導体ウェハの製造装置において、さら
    に該エッチング槽内には、少なくともその一端に歯車を
    連結したシャフトが半導体ウェハに一部接触するように
    、ウェハカセットに取り付けた軸受けで保持され、また
    該歯車と噛み合うガイドレールが設けられており、揺動
    により該歯車がガイドレールに沿って回転し、この回転
    運動に連動する該シャフトの回転により該半導体ウェハ
    を回転できるようにしたことを特徴とする半導体ウェハ
    の製造装置。
JP983389A 1989-01-20 1989-01-20 半導体ウェハの製造方法及び装置 Pending JPH02192121A (ja)

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