JPH02184693A - 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法 - Google Patents

弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法

Info

Publication number
JPH02184693A
JPH02184693A JP1022467A JP2246789A JPH02184693A JP H02184693 A JPH02184693 A JP H02184693A JP 1022467 A JP1022467 A JP 1022467A JP 2246789 A JP2246789 A JP 2246789A JP H02184693 A JPH02184693 A JP H02184693A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction product
group
general formula
represented
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1022467A
Other languages
English (en)
Inventor
Donald J Burton
ドナルド・ジェイ・バートン
Ramil Guneratne
ラミル・グネラトネ
Wenbiao Cen
ウェンビアオ・セン
Robert L Kirchmeier
ロバート・エル・カークマイアー
Anil S Modak
アニル・エス・モダク
William Anthony Sanderson
ウィリアム・アンソニー・サンダーソン
Jean Ne M Shreeve
ジャンネ・エム・シュリーヴ
Debao Su
デバエオ・ス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GTI Energy
Original Assignee
Gas Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gas Research Institute filed Critical Gas Research Institute
Publication of JPH02184693A publication Critical patent/JPH02184693A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4003Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4006Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/4012Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl substituted by B, Si, P or a metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
    • C07F9/3804Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se) not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
    • C07F9/40Esters thereof
    • C07F9/4003Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4006Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 L業上食村朋分団 本発明は少なくとも1個のホスホノ置換基及び少なくと
も1個のスルホ置換基を有する弗素化有機化合物に関す
る。これらの化合物は炭化水素/空気燃料電池中の電解
質として有用であり、またそのような燃料電池中の燐酸
電解質に対する添加剤として有用である。
従来肢歪 −つの酸基がスルホン酸からなり、だの酸基がホスホン
酸からなる多官能性酸は、有用なエステル化反応触媒と
して知られている(米国特許第2,776.985号明
細書参照)、この米国特許明細書に記載された酸のすべ
てにおいて、スルホン酸部分及びホスホン酸部分はアリ
ール基へ共有結合されている。さらには、上記米国特許
明細書においてこれらの化合物が弗素化誘導体として意
図させていることを示す記載は見当らない。
下記の一般式を有する多官能性酸は、PCT/1ls8
7100885出願明細書において、四価金属イオンと
の反応により固体酸触媒を作るのに有用であることが開
示されている。
(()10)□P) RR(SO3H) z及び ((+10) tP−0) llR(SO311)。
(式中Rは有機基であり、nは1または2であり、2は
1である。) −・  の  ・  び 本発明は、1個またはそれ以上の弗素原子、スルホ基及
びホスホノ基を含み、かつそれらの基の各々が同一また
は相異なる炭素原子に結合されており、ただし少なくと
も1個のスルホ基及び少なくとも1個のホスホノ基がそ
のような炭素原子に対して、それぞれ硫黄原子及び燐原
子を介して結合されている化合物を提供することを一目
的としている。これらの化合物は、好ましくは非高分子
(すなわち約5000以下の分子量を有する)である。
これらの化合物は下記の一般式で表わされる一群の化合
物から選択される化合物によって代表されうる: ((R”0)zP(0))y(SOPR’)X上記式に
おいて、Rは少なくとも1個の共有炭素弗素結合を有す
る有機基であり、R1はアルカリ金属、カドミウム、亜
鉛及び水素からなる群より選択され、l?2は20個ま
での炭素原子を有する炭化水素基(例えば低級アルキル
基)、または水素であり、rは2または3であり、yは
1〜3の整数であり、そしてXは1〜3の整数であり、
但し燐及び硫黄はある1個の炭素原子に共有結合されて
おり、そしてXが1であるときには、カドミウム及び亜
鉛は1八である。
髪肌勿圧菫 上記の弗素化ホスホノスルホ化合物は、−a式(R4O
)ffPで表わされる第1反応体と一般式R3Xzで表
わされる第2反応体とを反応させて、一般式(R4O)
zP(0)R’X、−+で表わされる第1生成物を作る
・ことにより製造できる。これらの一般式において、R
4は6個までの炭素原子を有する低級アルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピルまたは1−プロピル基
であってよく、好ましくはiプロピルまたはエチル基で
あり、R3は少なくとも1個の共有弗素結合を有する有
機基であり、Xは臭素または沃素であり、2は2または
3の整数である。かかる第1生成物は、密閉容器中で第
1反応体と第2反応体とを、−50’C〜200°C1
例えばO〜120″C1都合よくは0〜25°Cの温度
で一緒に合せるだけで高収率で合成できる0反応時間は
1〜100時間の間で変り、例えば48時間でありうる
もちろん、反応温度を上昇させることにより、反応時間
を2〜10時間、例えば約3時間に短縮できる。
反応は、反応体のみで、あるいは不活性溶媒の存在下で
実施できる。好都合には、エーテル溶媒を使用する。殊
にジエチルエーテルはこの反応のための溶媒として有用
である。
この第1反応生成物は、公知方法、例えば減圧蒸留によ
り、回収される。
この第1反応生成物を(R’) zszo4(R’は、
アルカリ金属イオン、例えばナトリウムイオン)と反応
させて、一般式 %式%) で表わされる第2反応生成物を作ることができる(ここ
にpは1または2の整数である)、この反応は、第1反
応生成物と上記ジチオナイトとを、助溶媒としてアセト
ニトリル等を含む塩基性水溶液中で一緒に合せることに
より都合よ〈実施できる。この反応は50〜100°C
1例えば約80°Cの高温及び1〜20時間、例えば2
〜12時間の反応時間で実施できる。第2反応生成物は
、過剰溶媒を蒸発させることにより回収することができ
、アセトニトリル等の溶媒で抽出処理することにより精
製できる。
上記反応式のために適当な弗素化有機基(R3)として
は、アルキレン基(環式及び非環式のもの;これは窒素
、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有していて
もよい)、アルケニレン基(環式及び非環式おちの;こ
れは窒素、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有
していてもよい)、及びアリーレン基、例えばヘテロア
リール基(例:硫黄や酸素を含むヘテロアリーレン基、
モノ及びポリアリーレン基、例えば2〜5個のアリール
環を含む縮合アリーレン基、ビフェニル基等がある。
上記弗素化有機基は1〜100個の炭素原子、例えば1
〜約20個の炭素原子、好ましくは1〜約10個の炭素
原子を含むものであってよい。そのような基は1個また
はそれ以上の共有結合弗素を有し、そして過弗素化され
ていてもよい(すなわち硫黄または燐結合以外の炭素結
合きすべてが弗素で満たされていてもよい)。
上記弗素化有機基は、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、
オキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオ基等のよ
うな不活性置換基で置換されていてもよい、好ましくは
、弗素化有機基は、ハロゲンで置換されているか置換さ
れていないものである。
すなわち上記一般式で必要とされるフルオロ、スルホま
たはホスホノ基への結合以外のすべての炭素結合が水素
またはハロゲン(フルオロ基以外)で満たされているの
が好ましい。
適当な弗素化有機基の例としては、1〜6個の炭素原子
を含む塩素または臭素置換または未置換のアルキレン基
、及び6〜10個の炭素原子を含む塩素または臭素置換
または未置換のアリーレン基がある。
適当な弗素化有機基の別の例は、そのアルキレン部分が
2〜4個の炭素原子を有するアルキレンオキシアルキレ
ン基である。
殊に好ましいものは、低級アルキレン基であり、例えば
メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、メチレン
オキシメチレン、エチレンオキシエチレン、ブチレンオ
キシブチレン基等である。
特定的には、R3は、 ”; Ch、  > CF、 
 > CIIF。
> CFBr、 fcFi) aO(CFz’)T等で
ありうる。
第2反応生成物は、酸化条件下で酸化剤として接触させ
ることにより、酸化して、下記一般式で表わされる第3
反応生成物とすることができる。
(R4O)tP(0)R”Xg−+−p(SO3R’)
p例えば、R20オまたは同様な酸化剤を、モル過剰で
、第2反応生成物に対して直接に、またはその水溶液に
対して接触させることができる。例えば、3゜χのH!
0!水溶液の充分な量を、第2反応生成物を一緒に合せ
て、第2反応生成物1モル当り1.1〜5−1− ルノ
11.0.を含む水溶液(0〜25°C)とし、その水
溶液を1〜lO時間(例えば4〜5時間)反応させる。
第3反応生成物は、過剰の溶媒を蒸発させることにより
、都合よく回収できる。
上記の方法により: (R4O)tP(0)CFt(S(hR5)を反応さセ
テ(R4O)雪P(0)CFt(S03R’)として、
(R4O)zP(0)CFBr(SOJ’)を反応させ
て(R4O)zP(0)CFBr(SOsR’)とし、
そして(R4O)iP(0)CHF(SOJ’)を反応
させて(R4O)zP(0)CHF(SOJ’)とする
本発明の新規な弗素化ホスホノスルホ化合物の別法の合
成経路においては、(R4O) iP (0)CFBr
(SOJ’)を、適当な不活性溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン中で還元剤、例えば金属亜鉛によって還元して
(R40)2P(0)C)IF(OJ’) とすること
ができる、この反応は、高温、例えば約60℃及び約1
〜約2(例えば約1.1)のzn:臭素化合物モル比で
、実施することができ、還元生成物は水での抽出により
回収できる。
第3反応生成物は反応(例えば加水分解)により、対応
するホスホン酸とすることができる0例えば第3反応生
成物を強酸(例えば濃塩酸)の水溶液中で加水分解する
ことができる。この加水分解反応は、過剰の強酸の存在
下(例えばR4当量当り約1.1〜10モル、例えば3
モルき強酸の存在下)で、昇温(例えば還流温度)で実
施される。この場合も、この加水分解生成物、すなわら
第4反応生成物は過剰溶媒の1発除去により回収できる
第4反応生成物は、R5を水素に置換するために反応さ
せることができる。殊に、第4反応生成物は、イオン交
換カラム、例えば「アンバーライトIR−120Jのよ
うな酸性スルホン化ポリスチレン樹脂の如き強酸のカラ
ム、に通過させて、アルカリイオンの代りに水素イオン
を入れることができる。
RSがCdまたはZn(下記式ではhで示される)であ
る本発明の化合物は下記反応式によって製造できる。
(1)   (R4O)iP+R’X−→(R4O)t
P(0)Rコχm−1(2) (R4O)zP(0)R
3Xz−1+M−+(R4O)zP(0)R3MX。
(3) (R4O)zP(0)R謝X、−++5(h−
[(R4O)zP(0)R″SOzlzM(4) [(
R4O)zP(0)R’SO]J+IIzOz−+[(
R4O)zP(0)R’SO3]zM(5) [(R4
O)zP(0)R’SO+]zM+Na011→[(R
4O)zP(0)R’5OJal工程(1)は前述のよ
うに実施される。
工程(2)は、非酸化性条件(例えばN2雰囲気)下で
無水溶媒、例えばジメチルホルムアミドCDMP)中に
両反応体を溶解し、撹拌して反応を生じさせることによ
り実施できる。この反応生成物に対して2SOlを添加
することができ、このようにして工程(3)は実施され
る。過剰SO!及び溶媒を除去した後に、残留反応生成
物は水で洗浄し、ろ過することにより回収できる。熱イ
ソパノールから再結晶させることにより工程(3)の生
成物が得られる。工程(4)も前述のように実施するこ
とができる。最後に、工程(4)で得られた反応生成物
を、例えばNa011水溶液のような適当なアルカリ水
溶液と反応させることによりアルカリ塩とすることがで
き、その金属門は不溶性水酸化物M(OH)zとして除
去される。
水素イオン交換した反応生成物、すなわち(HO)!P
(0)R3Xzl−9(So!II)Pをさらに精製す
ることが必要であるならば、サルフェートイオン汚染源
は、その反応生成物の水溶液を過剰のバリウムイオンと
反応させて硫酸バリウムを沈澱させることにより、除去
することができる。酸置換された反応生成物とナトリウ
ム及びバリウムイオンを含むろ液は、次いで酸型のイオ
ン交換カラムに通過させて、それらのナトリウムおよび
バリウムイオンを除去し、その酸交換された反応生成物
の高純度溶液を回収する。さらには、上記の精製操作を
充分に高いpH値、例えば11またはそれ以上で実施す
るときには、ホスフェート汚染源も不溶性物質の形で除
去できる。
最後に、酸交換された反応生成物は、充分な量のPc1
Sと反応させることにより対応するホスホニルスルホニ
ルクロリドに変えることができ、このものは蒸留により
回収できる。酸交換された反応生成物のスルホン酸部分
とホスホン酸部分との一部または全部は、それらの酸部
分の1個ないし全部に相当する量のPiSと反応させる
ことにより対応する酸クロリドに変えることができる。
酸交換された反応生成物のそのような転化反応が、精製
生成物の回収のためになされるときには、酸部分のすべ
てを酸ハライドに変えるのに充分な量のPCj!sを用
い、得られる酸ハライドを蒸留により回収し、そして加
水分解して精製度の高い弗素化ホスホン・スルホン酸を
得る。
上記の反応ではモノホスホノ反応体を用いていることに
注目すべきである。ポリホスホノ官能性が望まれる場合
、本発明の範囲内の化合物は(例えばyが2または3で
ある化合物は)、上記モル量の(R4O) 3PとR3
Xg(zは3〜6である)とを反応させて、上記の反応
式により処理することにより製造できる。
本発明の弗素化ホスホノスルホ化合物のうちのあるもの
を製造するための別法は、−II式IR’SO,Pの第
1反応体を、一般式(R4O)zPOP(OR’)zの
第2反応体と、過酸化物及び溶媒(CFlCl1CFC
I!、t’)の存在下で反応させて、一般式 %式% の第1反応生成物を作り;この第1反応生成物を一般式
Rz’5tO4の第3反応体と反応させて、一般式 %式% の第2反応生成物を生じさせる(R’は低級アルキル基
であり、eは弗素化ポリアルキレンオキサイド基であり
そしてR5はアルカリ金属イオンである)。
その第1反応体は をCF2 =CF、と、KF及びIC!!、の存在下で
、反応させることができる(コノ方法はrscIENT
IA  5INICAJ1978、21.773に記載
れている)。
第2反応生成物は、前記のように処理して、対応jる第
3及び第4反応生成物、ならびに水素イオ・ン交換型反
応生成物とすることができる。
最後に本発明の弗素化ホスホノスルホ化合物は下記反応
によっても製造できる。
(R”0)P(0)CFJr+NatSOs  −’)
(R”0)zP(0)CFtSOsNa + NaBr
(ここにRxは前記定義の通りである)。CF、はこの
明細書中に開示した他の弗素化有機基のいずれであって
もよいことに注目すべきである。すなわち、CF、は前
記定義のRであってよい、この反応は還流条件下で水ま
たは水性エタノール中で実施され、第3反応生成物を与
える。この第3反応生成物は、次いで前記のように処理
されうる。
本発明の弗素化ホスホノスルホノ化合物は、現在パーフ
ルオロスルホン酸が用いられるのと同様にして、電解液
として(例えば燃料電池中で)使用することができる。
例えば参考文献として下記のものがある: Fuel Ce1l Reaction in Su 
er Ac1d Electrol tes(Annu
al Rept、 I June ’ 82−31 M
ay 83)、(米国ニューヨーク、アップトンのプル
ックヘブン・ナショナル・ラボラドリースの協力で作成
);Fuel  Ce1l  Reaction  i
n  Su  er  Ac1d  Electrol
  tes。
(Final Report June 1982− 
December 1985;米国イリノイ州シカゴの
ガス・リサーチ・インスチチュート開催); Neu Catal sts and Neu Ele
ctrol tes for Ac1dFuel Ce
1ls 188. (米国ペンシルベニヤ州・フィラデ
ルフィアで1984年8月26日開催のアメリカン・ケ
ミカル・ソサイエティ学会発表)。
尖施桝土 (80)iP(0)CFtSOJの製造:(a) 75
ccの鋼製ボンベ中で12.4ミリモルの(Czlls
O)iPと13.1ミリモルのCFJrtとを一緒にし
て、ボンベを密封して室温で48時間反応させた。
得られた反応生成物を10〜20ミクロンの減圧で蒸留
することにより100χの収率で (CJsO) zP(Q)CFtBr(1)が得られた
(b)  水及びアセトニトリルの50150 (容量
比)溶液100−中で上記(1)の39.9ミリモルと
Na252oaの79.8ミリモルとを一緒にした。(
その79.8ミリモルのNazSzOaはアセトニトリ
ルの水溶液中に予め溶解しておいた) 、 80”Cで
12時間加熱した後、ろ過済の溶液を蒸発処理すること
により8oχの収率で(CJsO)tP(0)CFtS
OJa (11)を得た。
(c)  30χのHtOt水溶液を上記(II)に対
して、0°Cで攪拌しつつ滴状に、H!0□と(II)
とのモル比が約1.75となるまで、添加した。得られ
た溶液を4時間そのまま反応させた。溶媒を蒸発させて
(CzllsO)x−P(0)CFzSO+Na(DI
)を56.3χの収率で得た。
(d)上記(c)の生成物を濃塩酸で12時間還流処理
した(モル比1:6)、溶媒を蒸発させ、アセトニトリ
ルで抽出しそして蒸発処理することにより(HO)zP
(0)CFzSOsNa(IV)を78.9χの収率で
回収した。
(e)上記(IV)の水溶液を、3cmX35cIlの
寸法の「アンバーライトIR−12o J (商標:酸
性スルホネート化ポリスチレン樹脂)の充填カラムに約
0.3 d1時の流量で通過させた。流出液を蒸発処理
し、残留物を約10〜20ミクロンの圧力で蒸留するこ
とにより()10) iP(0)CF!5O3Hを回収
した。
実扁例) (HO)iP(0)CFH5O3Hの製造:(a)実施
例1(a)の方法により(ただし反応を40−の容器中
でO′Cにおいて4時間実施することにより)、50ミ
リモル(D (Ctl(so) sPと50ミリモル+
71 CF B r sとを反応させて、76.9χの
収率テ(CxHsO)iP(0)CFBrz(IV)を
得た。
(b)上記(Vl)の12ミリモルを、5dの水と5戚
のアセトニトリルとに溶解した14.4ミリモルのHa
)IcO+からなる溶液中で、14.4ミリモルのNa
zSxOaと反応させた。室温で4時間後に減圧下で溶
媒を蒸発させ、残留物をアセトニトリルで抽出し、そし
て真空下で乾燥することにより、64.4χの収率で(
CzHsO) zPcFBrsOtNa (■)を回収
した。
(C) 14.9ミリモルの上記(■)に、26ミリモ
ルのH10!を30χ水溶液の形で攪拌下に滴状に添加
することにより、両者を反応させた。室温で5時間後に
、溶媒を蒸発させることにより (CJsO)zP(0)CFBrSOJa(■)を74
.8χの収率で回収・した。
(d) 11.1ミリモルを上記(■)を、10−のテ
トラヒドロフラン(TIIF”)中で60℃において過
剰Znを用いて6時間還流した。この際のZn:(■)
のモル比は約1.1であった。得られた混合物を20m
の水と一緒にして、攪拌し、61.2′&の収率で(C
JsO)iP(0)CFH5OJa(IX)を生成させ
た。
(e)上記(IX)を実施例1(a)の方法により加水
分解して、53.5χの収率で (10) zP (0) CFI(SO=Na (X 
)を得た。
<r>上記(X)を実施例1 (e)の方法により充填
カラムに通過させて、真空下で溶媒を蒸発させ、得られ
た生成物を真空下で80°Cにおいて4時間乾燥するこ
とにより、80χの収率で(HO) zP (0) C
FH5Osllを得た。
裏施拠主 (C21(sO)zP(0)CF(SO3Na)zの製
造:(a)実施例2(a)の方法によって(C2H3O
)3PとCFBr3とを反応させて、76.9χの収率
で(CzllsO) zP(0)CFBrz(XI)を
得た。
(b)実施例2(b)の方法よって、上記(XI)を反
応させて、64.4χの収率で(CJsO)P(0)C
FRrSOzNa(X [[)を得た。
(c)実施例2(c)の方法によって、上記(X [[
’1を酸化させ、74.8χの収率で (CzllsO)zP(0)CFBrSOJa (XI
II)を得た。
(d) 2 dの水及び2 mlのアセトニトリル中に
5.7ミリモルの上記(Xlll)を溶解させ、8.5
 ミリモルのNa)lcO*の存在下で0°Cにおいて
4時間、8.5 ミリモルのNazStOaと反応させ
て、90χの収率でSOJa を得た。この生成物は真空下での溶媒の蒸発後に回収さ
れた。
(e)3−の水に溶解した7、8 ミリモルの上記(X
I)に対して、攪拌下に、7.8 ミリモルの11□0
2(30χの水溶液として)を添加することにより(X
IV)を酸化させた。得られた混合物を一15°Cで1
時間保持して、33χの収率で (CtllsO)zP(0)CF(SOJa)z (X
V)を得た。真空下で溶媒を蒸発させ、残留物をアセト
ン及びTIIPで抽出し、乾燥させることにより上記生
成物を回収した。
裏丘桝土 (l(O) IP (0) (CF、) 40 (Ch
) tsO311の製造:(a) 38ミリモルのI(
CPz) 40(CF、) tsOJ、57ミリモルの
(CJsO)zPOP(OCzlls)z及び19ミリ
モルの(CL) 3COOC(CH3) sを、80m
1のCF ICI CFCl zに熔解させ、150c
cの鋼製ボンベ中で120°Cにおいて3時間反応させ
た。得られた反応生成物に対して、−10°C〜0°C
の温度で1時間にわたり45m1の(CI+3) 5c
OOH及び45戚のC1+308を滴状添加して、18
ミリモル(収率48χ)の (C211,0)tP(0) ((CF、)io(CF
t)tso、F ] (XV[)を得た。この生成物は
真空下で藤留することにより回収した。上記(XVI)
の沸点は1,1m−で133°Cである。
(b)8mの水及び4緘のアセトニトリルとの溶液中で
、9.3 ミリモルの上記(XVI)を、18.6ミリ
モルのNa、5tOa及び18.6ミリモルのNaHC
O,と反応させた。反応温度は85°C1反応時間は2
時間であった。蒸発処理した溶液からの固体をアセトニ
トリルで繰り返し抽出し、そのアセトニトリル溶媒を蒸
発させることにより、89χの収率で(CzllsO)
zP(0) ((CFz)40(CFz)tsOtNa
) (X■)を得た。
(c) 40ミリルの11□0を30χ水溶液の形で滴
状添加することにより8.3 ミリモルの上記(X■)
を酸化処理した。室温で10時間攪拌後、真空下で蒸発
乾固して、92χの収率で (CJsO) iP (0) ((CFt) 40(C
Fz) xsOsN ) (X■)を回収した。
(d)実施例1(d)の方法により上記(X■)を加水
分解して、8Bχの収率で (HO)zP(0((CFz)40(CFz)zsOz
Na) (XIX)を得た。
(e)上記(X[X)を実施例1(e)の方法により反
応させて78χの収率で (HO)IP(0((CFZ)40(CF2)2SO,
H)  ・lho (XX)を得た。
尖施炭l サルフェート及びホスフェートイオンの除去;サルフェ
ートイオンを含む実施例1(e)の生成物を水に溶解し
た。これに対して攪拌条件下にBaCl□水溶液を、過
剰に存在するようになるまで(すなわち、添加を続けて
もさらにBa5O,の沈澱を生じなくなるまで)添加し
た。遠心分離後、上澄液をデカンテーション分離し、濃
縮化し、ダウエックス(Dowex) M−31(商標
:ダウケミカル社のスチレンスルホン酸樹脂)の4.5
 c+nX50cmの充填カラムに通過させて、検出し
うるサルフェートを含まない溶離液を回収した。
別法として、BaCl2の代りにBa (OH) tを
使用して、同等に精製された溶液を得ることもできる。
さらには、その精製時のρ11がBa (OH) zの
添加により11またはそれ以上に調節されると、無機ホ
スフェートイオンが”P NMRによって検出できない
水準にまで低減された。
尖隻炎■ 酸ハライドの製造: (a) 10 mlのPOCj!s中に溶解した実施例
1(e)の生成物11.1gを、100m1!のフラス
コ中の35gのpcz、と−緒にし、これを120°C
に加熱した。この温度に1時間保持した後、対応するト
リ酸ハライドを0.1mmの圧力での蒸留により回収し
た。この圧力において、トリ酸ハライドc I!zP(
0)CF2SO□C2は76°Cの沸点を有した。
(b) この留出物の一部を0℃で水と一緒にして実施
例1(e)の生成物をさらに精製された状態(31P及
び”CNMRにより証明)で、再生した。
実避L[LL ((RO) zP (0) CF ! ) zcdの製
造:還流コンデンサーを備えた乾燥三日100ij!フ
ラスコに、順次に、酸洗Cd粉末(6,2g;55ミリ
モル)、乾燥D?IP(50mffi)及び(iso−
CJtO) zP(0) CFJr(14,8g150
ミリモル)を加えた。この混合物を2時間攪拌した(初
期発熱反応)。この後、緑色がかった(iso−C+I
IJ)zP(0)CFzCdBrの溶液をN!加圧下に
シュクレンク・フィルターを介して過剰のCdから別の
1001dフラスコ中へろ別した。このフラスコに、ド
ライアイス及びイソプロパノロールを満たしたデユワ−
コンデンサーを取り付け、過剰のSO□ガスを導入した
。この混合物を15分間攪拌したが、この間に溶液は黄
色に変った。次いで溶媒及び過剰のSO2を真空下に除
去した。残留ペースト状物を水(15d)で洗浄し、ろ
過した。ろ過して不溶性有機残渣を除去した後、熱イソ
プロパツールから固体を再結晶させた。水性溶液を一晩
静置し、ろ過して沈澱無m物を除去し、はぼ乾燥するま
で蒸発処理し、得られた固体を再びイソプロパツールか
ら再結晶させた。白色の粉末生成物をエーテルで洗浄し
、真空下に乾燥させた。総合収量は7.25g(43χ
)であった。
(C,H,0)P(0)CFJr、 Cd、 1.4−
ジオキサン及びSotを用いて同様にして、類偵化合物 ((CJsO)zP(0)CFzS(h) zCdを作
り、エタノールから62χの収率で再結晶させた。
実施±工 ((i−CzllsO)zP(0)CPzSOz) z
cdの製造:25m1のフラスコ中の水(10d)に(
(i−CJsO)zP(0)ChSOz) zcdを懸
濁させた。この混合物を氷水浴中で急激に撹拌しつつ冷
却し、50χ11□0□(1,7d)を徐々に滴状で添
加した。混合物を放置して室温まで加温し、−晩攪拌し
た。その間に、固体はほとんど完全に溶解した。溶液を
ろ過し、回転蒸発器で′a縮乾燥させた。残留固体を少
量のアセトンで洗浄し、そしてエーテルで洗浄し、真空
(減圧)下で乾燥させた。収量は3.32g(63χ)
であった。
尖盗尉工 (CJsO)zP(0)CFzSOJa  の製造:還
流コンデンサー付の三日100 dフラスコに、1.4
−ジオキサン(8d) 、水(25yd> 、Nazs
os(25,3g; 200ミリモル)及び(C,+1
50)2P(0)CF!+ (15,7g;50ミリモ
ル)を加えた。この混合物を、油浴中で10時間80〜
85°Cに加熱した。次いでそれを室温にまで冷却し、
回転蒸発器で溶媒を蒸発除去し、残留物をアセトンで洗
浄し、乾燥させた。収率は” Fnmrにより85χで
あった。
尖施尉則 (i−C3H10) zP(0)CFzSOzNaの製
造:((i−C,II、0)zP(0)(:FzSOt
) zcd(33,5g;50ミリモル)を水(200
s+ff1)に溶解させ、NaoII粒を、pl+がわ
ずかに塩基性(約8)となるまで、添加した。沈澱した
Cd (Off) zをろ過で除去した。溶液を回転蒸
発器で濃縮、乾燥させて、上記生成物を得た。その収量
は27.3g(90χ)であった。
(外4名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1個またはそれ以上の弗素原子、スルホ基及びホス
    ホノ基を含み、かつそれらの基の各々が同一または相異
    なる炭素原子に結合されており、ただし少なくとも1個
    のスルホ基及び少なくとも1個のホスホノ基がそのよう
    な炭素原子に対して、それぞれ硫黄原子及び燐原子を介
    して結合されている化合物。 2、一般式 ((R^2O)_2P(O))_yR(SO_rR^1
    )_x で表わされる化合物群より選択される化合物: (上記一般式において、Rは少なくとも1個の炭素−弗
    素共有結合を有する有機基であり、R^1はアルカリ金
    属、カドミウム、亜鉛及び水素からなる群より選択され
    、R^2は低級アルキル基または水素であり、rは2ま
    たは3であり、yは1〜3の整数であり、そしてxは1
    〜3の整数であり、但し燐及び硫黄はある1個の炭素原
    子に対して共有結合されており、そしてxが1であると
    きにはカドミウム及び亜鉛は1/2である。) 3、R^1及びR^2が水素である請求項2記載の化合
    物。 4、yが1である請求項3記載の化合物。 5、Rが弗素化アルキレン基及び弗素化アルキレンオキ
    シアルキレン基からなる群より選択される請求項4記載
    の化合物。 6、Rが■CF_2、■CFH、■CFBr、■CF及
    び−(CF_2)_4O(CF_2)_2−からなる群
    より選択される請求項5記載の化合物。 7、R^1がナトリウムであり、R^2がエチルまたは
    水素であり、yが1であり、xが2であり、そしてrが
    3である請求項2記載の化合物。 8、Rが■CFである請求項7記載の化合物。 9、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CF_2で
    あり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1であ
    る請求項1記載の化合物。 10、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CFHで
    あり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1であ
    る請求項1記載の化合物。 11、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CFB_
    rであり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1
    である請求項1記載の化合物。 12、R^1及びR^2が水素であり、Rが−(CF_
    2)_4O(CF_2)_2−であり、yが2であり、
    rが3であり、そしてxが1である請求項1記載の化合
    物。 13、R^1がNaであり、R^2がC_2H_5であ
    り、Rが■CFであり、yが2であり、rが3であり、
    そしてxが2である請求項1記載の化合物。 14、下記式の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ 15、請求項13の水素イオン交換済の生成物。 16、一般式(R^4O)_3Pで表わされる第1反応
    体を一般式R^3X_2で表わされる第2反応体と反応
    させて一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_2_−_1 で表わされる第1反応生成物を作り、この第1反応生成
    物を(R^5)_2S_2O_4と反応させて一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1_−_
    p(SO_2R^5)_p で表わされる第2反応生成物を作ることからなる一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1−_p
    (SO_2R^5)_p で表わされる化合物の製造方法: (一般式において、R^4は低級アルキル基、R^3は
    少なくとも1個の共有弗素結合を有する有機基であり、
    R^5はアルカリ金属イオンからなる群より選択される
    ものであり、Xは臭素基及び沃素基からなる群より選択
    されるものであり、zは2または3の整数であり、そし
    てpは1または2の整数である。) 17、R^5がナトリウムであり、R^3が弗素化アル
    キレン基及び弗素化アルキレンオキシアルキレン基から
    なる群より選択される請求項16記載の方法。 18、R^3が■CF_2である請求項16記載の方法
    。 19、R^3が■CFB_rである請求項16記載の方
    法。 20、第2反応生成物を還元してR^3が■CHFであ
    る第3反応生成物を作る請求項19記載の方法。 21、第2反応生成物を酸化して、それぞれ一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1_−_
    p(SO_3R^5)_p (R^4O)_2P(O)CF_2(SO_3R^5) (R^4O)_2P(O)CFB_r(SO_3R^5
    )または (R^4O)_2P(O)CHF(SO_3R^5) で表わされる第3反応生成物を得る請求項16、18、
    19または20記載の方法。 22、第3反応生成物を反応させて、前記(R^4O)
    _2P(O)基の代りに(HO)_2P(O)基を有す
    る第4反応生成物を生じさせる請求項21記載の方法。 23、第4反応生成物を、R^5の代りに水素イオンが
    交換して入るように反応させる請求項22記載の方法。 24、第4反応生成物を水溶液中でバリウムイオンと反
    応させて無機硫酸イオンを硫酸バリウムとして沈澱させ
    る請求項23記載の方法。 25、水素イオン交換済の生成物をPCl_5と反応さ
    せて対応するホスホニルクロライドを生じさせる請求項
    23記載の方法。 26、該ホスホニルクロライドを加水分解して対応する
    ホスホン酸を生じさせる請求項25記載の方法。 27、沈澱操作は、硫酸塩を除去するに足りるpH値で
    実施する請求項24記載の方法。 28、(R^2O)_2P(O)PBrをNa_2SO
    _3と反応させて(R^2O)_2P(O)RSO_3
    Na及びNaBrを生じさせることからなる、一般式 (R^2O)_2P(O)RSO_3Na を有する化合物の製法: (式中、R^2は炭化水素基であり、Rは少なくとも1
    個の炭素−弗素共有結合を有する有機基である。) 29、R^2が低級アルキル基であり、Rが1〜約20
    個の炭素原子を含む請求項28記載の方法。 30、一般式 XR^6SO_2F を有する第1反応体を、一般式 (R^4O)_2POP(OR^4)_2 で表わされる第2反応体と、過酸化物の存在下に反応さ
    せて、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2F で表わされる第1反応生成物を生じさせ、そしてこの第
    1反応生成物を、一般式 R_2^5S_2O_4 で表わされる第3反応体と反応させて、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2R^5 で表わされる第2反応生成物を生じさせることからなる
    一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2R^5 の化合物の製法: (式中R^4は低級アルキル基であり、R^6は弗素化
    ポリアルキレンオキサイド基であり、そしてR^5はア
    ルカリ金属イオンである。) 31、R^6が▲数式、化学式、表等があります▼であ
    る請求項30記載の方法。 32、第1反応体は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ とCF_2=CF_2とを、KF及びIClの存在下で
    反応させることにより作られたものである請求項30記
    載の方法。 33、第2反応生成物を酸化して、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_3R^5または (R^4O)_2P(O)〔(CF_2)_4O(CF
    _2)_2SO_3R^5〕 で表わされる第3反応生成物を生じさせる請求項30ま
    たは31記載の方法。 34、第3反応生成物を加水分解して、(R^4O)_
    2P(O)基の代りに(HO)_2P(O)基を含む第
    4反応生成物を生じさせる請求項33記載の方法。 35、第4反応生成物のR^5を水素イオンで交換する
    ように第4反応生成物を反応させる請求項34記載の方
    法。 36、一般式(R^4O)_3Pで表わされる第1反応
    体と一般式R^3X_zで表わされる第2反応体とを反
    応させて、一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR^3(X)_z_
    −_y で表わされる第1反応生成物を生じさせ、そしてこの第
    1反応生成物を(R^5)_2S_2O_4と反応させ
    て一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR(X)_z−_Y
    _−_s(SO_3R^5)_s で表わされる第2反応生成物を生じさせることからなる
    一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR^3(X)_z_
    −_y_−_z(SO_3R^5)_s で表される化合物の製法: (式中、R^4は低級アルキル基であり、R^3は少な
    くとも1個の共有弗素結合を有する有機基であり、R^
    5はアルカリ金属イオンからなる群より選択され、Xは
    臭素及び沃素からなる群より選択され、zは2〜6の整
    数であり、yは1〜3の整数であり、sは1〜3の整数
    であり、そしてy+s≦zである。)
JP1022467A 1989-01-03 1989-01-31 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法 Pending JPH02184693A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US29039489A 1989-01-03 1989-01-03
US290394 1989-01-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02184693A true JPH02184693A (ja) 1990-07-19

Family

ID=23115797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1022467A Pending JPH02184693A (ja) 1989-01-03 1989-01-31 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP0453484A4 (ja)
JP (1) JPH02184693A (ja)
KR (1) KR900011782A (ja)
AU (1) AU4842190A (ja)
CA (1) CA2045151A1 (ja)
WO (1) WO1990007513A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013058387A1 (ja) * 2011-10-21 2013-04-25 三井化学株式会社 ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池
JP2017007971A (ja) * 2015-06-19 2017-01-12 旭化成株式会社 含フッ素エーテルの製造方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK167946B1 (da) * 1991-06-28 1994-01-03 Topsoe Haldor As Fosforsyrebraendelsescelle med forbedret elektrisk effektivitet
US5731299A (en) * 1992-05-29 1998-03-24 The Procter & Gamble Company Phosphonosulfonate compounds, pharmaceutical compositions, and methods for treating abnormal calcium and phosphate metabolism
AU659565B2 (en) * 1992-05-29 1995-05-18 Procter & Gamble Pharmaceuticals, Inc. Phosphonosulfonate compounds for treating abnormal calcium and phosphate metabolism
US5470845A (en) * 1992-10-28 1995-11-28 Bristol-Myers Squibb Company Methods of using α-phosphonosulfonate squalene synthetase inhibitors including the treatment of atherosclerosis and hypercholesterolemia
NZ248852A (en) * 1992-10-28 1997-06-24 Squibb & Sons Inc Alpha-phosphono and phosphinosulphonates and medicaments thereof
US5447922A (en) * 1994-08-24 1995-09-05 Bristol-Myers Squibb Company α-phosphonosulfinic squalene synthetase inhibitors

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013058387A1 (ja) * 2011-10-21 2013-04-25 三井化学株式会社 ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池
JPWO2013058387A1 (ja) * 2011-10-21 2015-04-02 三井化学株式会社 ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池
US9425484B2 (en) 2011-10-21 2016-08-23 Mitsui Chemicals, Inc. Non-aqueous electrolyte solution containing phosphonosulfonic acid compound, and lithium secondary battery
JP2017007971A (ja) * 2015-06-19 2017-01-12 旭化成株式会社 含フッ素エーテルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR900011782A (ko) 1990-08-02
WO1990007513A1 (en) 1990-07-12
EP0453484A4 (en) 1991-12-11
EP0453484A1 (en) 1991-10-30
AU4842190A (en) 1990-08-01
CA2045151A1 (en) 1990-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105731398B (zh) 一种双氟磺酰亚胺的碱金属盐的制备方法
KR20050044671A (ko) O-데스메틸벤라팍신의 제조방법
US2593737A (en) Perfluorinated cyclohexyl carboxylic acid and cyclohexyl acetic acid and derivatives
JPH02184693A (ja) 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法
JPH0518623B2 (ja)
US4276224A (en) Anthraquinone sulphonamide compounds and preparation
Lines et al. Preparation and properties of some salts of perfluorooctanoic acid
FR2809400A1 (fr) Materiaux comportant des groupements organiques contenant du soufre et du phosphore lie par l'intermediaire d'atomes d'oxygenes a un oxyde mineral
JPS5984894A (ja) ジホスホン酸エステルの製造方法
EP0183290B1 (en) A process for the preparation of bis-phosphineoxide compounds
US3268629A (en) Monoesters of phosphonic acids
KR101609404B1 (ko) 플루오르화 설포네이트 에스테르를 제조하기 위한 수성 방법
KR880001831B1 (ko) N-포스포노메틸글리신의 제조방법
US2512582A (en) Mixed alkyl benzyl phosphates and their production
US3352898A (en) Process for production of bunte compounds
Mikołajczyk Stereochemistry of nucleophilic displacement reactions at the thiophosphoryl centre—II: Hydrolysis of optically active o-ethyl ethylphosphonochloridothionate
KR100406289B1 (ko) 아실페로센의 개선된 제조 방법
JP5054932B2 (ja) イオン性化合物の製造方法
US4018795A (en) Sandwich type chemical compounds
JP3859888B2 (ja) リン酸トリエステルの製造法
US4158673A (en) Process for the synthesis of bis(alkyl sulphide)-decaborane (12)
SU1759841A1 (ru) Способ получени трис(2-фенилэтил)фосфиноксида
JPH0552838B2 (ja)
KR100193368B1 (ko) 리보플라빈 5'-포스페이트염의 제조방법
JPS61183263A (ja) ピロリジン誘導体の製造方法