JPH02184693A - 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法 - Google Patents
弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法Info
- Publication number
- JPH02184693A JPH02184693A JP1022467A JP2246789A JPH02184693A JP H02184693 A JPH02184693 A JP H02184693A JP 1022467 A JP1022467 A JP 1022467A JP 2246789 A JP2246789 A JP 2246789A JP H02184693 A JPH02184693 A JP H02184693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction product
- group
- general formula
- represented
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- LQHYUUBBIJGBNR-UHFFFAOYSA-N OP(O)(=O)S(O)(=O)=O Chemical class OP(O)(=O)S(O)(=O)=O LQHYUUBBIJGBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims abstract description 7
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 6
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 claims abstract description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 17
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- -1 and when x is 1 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910001422 barium ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical group [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052920 inorganic sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000000446 fuel Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000862632 Soja Species 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- MHNPWFZIRJMRKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group F[C]=C(F)F MHNPWFZIRJMRKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical class OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 229910052816 inorganic phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHZAEIHJPNTART-UHFFFAOYSA-N tribromofluoromethane Chemical compound FC(Br)(Br)Br IHZAEIHJPNTART-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
- C07F9/4012—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl substituted by B, Si, P or a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/3804—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se) not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
L業上食村朋分団
本発明は少なくとも1個のホスホノ置換基及び少なくと
も1個のスルホ置換基を有する弗素化有機化合物に関す
る。これらの化合物は炭化水素/空気燃料電池中の電解
質として有用であり、またそのような燃料電池中の燐酸
電解質に対する添加剤として有用である。
も1個のスルホ置換基を有する弗素化有機化合物に関す
る。これらの化合物は炭化水素/空気燃料電池中の電解
質として有用であり、またそのような燃料電池中の燐酸
電解質に対する添加剤として有用である。
従来肢歪
−つの酸基がスルホン酸からなり、だの酸基がホスホン
酸からなる多官能性酸は、有用なエステル化反応触媒と
して知られている(米国特許第2,776.985号明
細書参照)、この米国特許明細書に記載された酸のすべ
てにおいて、スルホン酸部分及びホスホン酸部分はアリ
ール基へ共有結合されている。さらには、上記米国特許
明細書においてこれらの化合物が弗素化誘導体として意
図させていることを示す記載は見当らない。
酸からなる多官能性酸は、有用なエステル化反応触媒と
して知られている(米国特許第2,776.985号明
細書参照)、この米国特許明細書に記載された酸のすべ
てにおいて、スルホン酸部分及びホスホン酸部分はアリ
ール基へ共有結合されている。さらには、上記米国特許
明細書においてこれらの化合物が弗素化誘導体として意
図させていることを示す記載は見当らない。
下記の一般式を有する多官能性酸は、PCT/1ls8
7100885出願明細書において、四価金属イオンと
の反応により固体酸触媒を作るのに有用であることが開
示されている。
7100885出願明細書において、四価金属イオンと
の反応により固体酸触媒を作るのに有用であることが開
示されている。
(()10)□P) RR(SO3H) z及び
((+10) tP−0) llR(SO311)。
(式中Rは有機基であり、nは1または2であり、2は
1である。) −・ の ・ び 本発明は、1個またはそれ以上の弗素原子、スルホ基及
びホスホノ基を含み、かつそれらの基の各々が同一また
は相異なる炭素原子に結合されており、ただし少なくと
も1個のスルホ基及び少なくとも1個のホスホノ基がそ
のような炭素原子に対して、それぞれ硫黄原子及び燐原
子を介して結合されている化合物を提供することを一目
的としている。これらの化合物は、好ましくは非高分子
(すなわち約5000以下の分子量を有する)である。
1である。) −・ の ・ び 本発明は、1個またはそれ以上の弗素原子、スルホ基及
びホスホノ基を含み、かつそれらの基の各々が同一また
は相異なる炭素原子に結合されており、ただし少なくと
も1個のスルホ基及び少なくとも1個のホスホノ基がそ
のような炭素原子に対して、それぞれ硫黄原子及び燐原
子を介して結合されている化合物を提供することを一目
的としている。これらの化合物は、好ましくは非高分子
(すなわち約5000以下の分子量を有する)である。
これらの化合物は下記の一般式で表わされる一群の化合
物から選択される化合物によって代表されうる: ((R”0)zP(0))y(SOPR’)X上記式に
おいて、Rは少なくとも1個の共有炭素弗素結合を有す
る有機基であり、R1はアルカリ金属、カドミウム、亜
鉛及び水素からなる群より選択され、l?2は20個ま
での炭素原子を有する炭化水素基(例えば低級アルキル
基)、または水素であり、rは2または3であり、yは
1〜3の整数であり、そしてXは1〜3の整数であり、
但し燐及び硫黄はある1個の炭素原子に共有結合されて
おり、そしてXが1であるときには、カドミウム及び亜
鉛は1八である。
物から選択される化合物によって代表されうる: ((R”0)zP(0))y(SOPR’)X上記式に
おいて、Rは少なくとも1個の共有炭素弗素結合を有す
る有機基であり、R1はアルカリ金属、カドミウム、亜
鉛及び水素からなる群より選択され、l?2は20個ま
での炭素原子を有する炭化水素基(例えば低級アルキル
基)、または水素であり、rは2または3であり、yは
1〜3の整数であり、そしてXは1〜3の整数であり、
但し燐及び硫黄はある1個の炭素原子に共有結合されて
おり、そしてXが1であるときには、カドミウム及び亜
鉛は1八である。
髪肌勿圧菫
上記の弗素化ホスホノスルホ化合物は、−a式(R4O
)ffPで表わされる第1反応体と一般式R3Xzで表
わされる第2反応体とを反応させて、一般式(R4O)
zP(0)R’X、−+で表わされる第1生成物を作る
・ことにより製造できる。これらの一般式において、R
4は6個までの炭素原子を有する低級アルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピルまたは1−プロピル基
であってよく、好ましくはiプロピルまたはエチル基で
あり、R3は少なくとも1個の共有弗素結合を有する有
機基であり、Xは臭素または沃素であり、2は2または
3の整数である。かかる第1生成物は、密閉容器中で第
1反応体と第2反応体とを、−50’C〜200°C1
例えばO〜120″C1都合よくは0〜25°Cの温度
で一緒に合せるだけで高収率で合成できる0反応時間は
1〜100時間の間で変り、例えば48時間でありうる
。
)ffPで表わされる第1反応体と一般式R3Xzで表
わされる第2反応体とを反応させて、一般式(R4O)
zP(0)R’X、−+で表わされる第1生成物を作る
・ことにより製造できる。これらの一般式において、R
4は6個までの炭素原子を有する低級アルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピルまたは1−プロピル基
であってよく、好ましくはiプロピルまたはエチル基で
あり、R3は少なくとも1個の共有弗素結合を有する有
機基であり、Xは臭素または沃素であり、2は2または
3の整数である。かかる第1生成物は、密閉容器中で第
1反応体と第2反応体とを、−50’C〜200°C1
例えばO〜120″C1都合よくは0〜25°Cの温度
で一緒に合せるだけで高収率で合成できる0反応時間は
1〜100時間の間で変り、例えば48時間でありうる
。
もちろん、反応温度を上昇させることにより、反応時間
を2〜10時間、例えば約3時間に短縮できる。
を2〜10時間、例えば約3時間に短縮できる。
反応は、反応体のみで、あるいは不活性溶媒の存在下で
実施できる。好都合には、エーテル溶媒を使用する。殊
にジエチルエーテルはこの反応のための溶媒として有用
である。
実施できる。好都合には、エーテル溶媒を使用する。殊
にジエチルエーテルはこの反応のための溶媒として有用
である。
この第1反応生成物は、公知方法、例えば減圧蒸留によ
り、回収される。
り、回収される。
この第1反応生成物を(R’) zszo4(R’は、
アルカリ金属イオン、例えばナトリウムイオン)と反応
させて、一般式 %式%) で表わされる第2反応生成物を作ることができる(ここ
にpは1または2の整数である)、この反応は、第1反
応生成物と上記ジチオナイトとを、助溶媒としてアセト
ニトリル等を含む塩基性水溶液中で一緒に合せることに
より都合よ〈実施できる。この反応は50〜100°C
1例えば約80°Cの高温及び1〜20時間、例えば2
〜12時間の反応時間で実施できる。第2反応生成物は
、過剰溶媒を蒸発させることにより回収することができ
、アセトニトリル等の溶媒で抽出処理することにより精
製できる。
アルカリ金属イオン、例えばナトリウムイオン)と反応
させて、一般式 %式%) で表わされる第2反応生成物を作ることができる(ここ
にpは1または2の整数である)、この反応は、第1反
応生成物と上記ジチオナイトとを、助溶媒としてアセト
ニトリル等を含む塩基性水溶液中で一緒に合せることに
より都合よ〈実施できる。この反応は50〜100°C
1例えば約80°Cの高温及び1〜20時間、例えば2
〜12時間の反応時間で実施できる。第2反応生成物は
、過剰溶媒を蒸発させることにより回収することができ
、アセトニトリル等の溶媒で抽出処理することにより精
製できる。
上記反応式のために適当な弗素化有機基(R3)として
は、アルキレン基(環式及び非環式のもの;これは窒素
、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有していて
もよい)、アルケニレン基(環式及び非環式おちの;こ
れは窒素、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有
していてもよい)、及びアリーレン基、例えばヘテロア
リール基(例:硫黄や酸素を含むヘテロアリーレン基、
モノ及びポリアリーレン基、例えば2〜5個のアリール
環を含む縮合アリーレン基、ビフェニル基等がある。
は、アルキレン基(環式及び非環式のもの;これは窒素
、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有していて
もよい)、アルケニレン基(環式及び非環式おちの;こ
れは窒素、酸素及び硫黄のようなヘテロ原子を中間に有
していてもよい)、及びアリーレン基、例えばヘテロア
リール基(例:硫黄や酸素を含むヘテロアリーレン基、
モノ及びポリアリーレン基、例えば2〜5個のアリール
環を含む縮合アリーレン基、ビフェニル基等がある。
上記弗素化有機基は1〜100個の炭素原子、例えば1
〜約20個の炭素原子、好ましくは1〜約10個の炭素
原子を含むものであってよい。そのような基は1個また
はそれ以上の共有結合弗素を有し、そして過弗素化され
ていてもよい(すなわち硫黄または燐結合以外の炭素結
合きすべてが弗素で満たされていてもよい)。
〜約20個の炭素原子、好ましくは1〜約10個の炭素
原子を含むものであってよい。そのような基は1個また
はそれ以上の共有結合弗素を有し、そして過弗素化され
ていてもよい(すなわち硫黄または燐結合以外の炭素結
合きすべてが弗素で満たされていてもよい)。
上記弗素化有機基は、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、
オキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオ基等のよ
うな不活性置換基で置換されていてもよい、好ましくは
、弗素化有機基は、ハロゲンで置換されているか置換さ
れていないものである。
オキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオ基等のよ
うな不活性置換基で置換されていてもよい、好ましくは
、弗素化有機基は、ハロゲンで置換されているか置換さ
れていないものである。
すなわち上記一般式で必要とされるフルオロ、スルホま
たはホスホノ基への結合以外のすべての炭素結合が水素
またはハロゲン(フルオロ基以外)で満たされているの
が好ましい。
たはホスホノ基への結合以外のすべての炭素結合が水素
またはハロゲン(フルオロ基以外)で満たされているの
が好ましい。
適当な弗素化有機基の例としては、1〜6個の炭素原子
を含む塩素または臭素置換または未置換のアルキレン基
、及び6〜10個の炭素原子を含む塩素または臭素置換
または未置換のアリーレン基がある。
を含む塩素または臭素置換または未置換のアルキレン基
、及び6〜10個の炭素原子を含む塩素または臭素置換
または未置換のアリーレン基がある。
適当な弗素化有機基の別の例は、そのアルキレン部分が
2〜4個の炭素原子を有するアルキレンオキシアルキレ
ン基である。
2〜4個の炭素原子を有するアルキレンオキシアルキレ
ン基である。
殊に好ましいものは、低級アルキレン基であり、例えば
メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、メチレン
オキシメチレン、エチレンオキシエチレン、ブチレンオ
キシブチレン基等である。
メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、メチレン
オキシメチレン、エチレンオキシエチレン、ブチレンオ
キシブチレン基等である。
特定的には、R3は、 ”; Ch、 > CF、
> CIIF。
> CIIF。
> CFBr、 fcFi) aO(CFz’)T等で
ありうる。
ありうる。
第2反応生成物は、酸化条件下で酸化剤として接触させ
ることにより、酸化して、下記一般式で表わされる第3
反応生成物とすることができる。
ることにより、酸化して、下記一般式で表わされる第3
反応生成物とすることができる。
(R4O)tP(0)R”Xg−+−p(SO3R’)
p例えば、R20オまたは同様な酸化剤を、モル過剰で
、第2反応生成物に対して直接に、またはその水溶液に
対して接触させることができる。例えば、3゜χのH!
0!水溶液の充分な量を、第2反応生成物を一緒に合せ
て、第2反応生成物1モル当り1.1〜5−1− ルノ
11.0.を含む水溶液(0〜25°C)とし、その水
溶液を1〜lO時間(例えば4〜5時間)反応させる。
p例えば、R20オまたは同様な酸化剤を、モル過剰で
、第2反応生成物に対して直接に、またはその水溶液に
対して接触させることができる。例えば、3゜χのH!
0!水溶液の充分な量を、第2反応生成物を一緒に合せ
て、第2反応生成物1モル当り1.1〜5−1− ルノ
11.0.を含む水溶液(0〜25°C)とし、その水
溶液を1〜lO時間(例えば4〜5時間)反応させる。
第3反応生成物は、過剰の溶媒を蒸発させることにより
、都合よく回収できる。
、都合よく回収できる。
上記の方法により:
(R4O)tP(0)CFt(S(hR5)を反応さセ
テ(R4O)雪P(0)CFt(S03R’)として、
(R4O)zP(0)CFBr(SOJ’)を反応させ
て(R4O)zP(0)CFBr(SOsR’)とし、
そして(R4O)iP(0)CHF(SOJ’)を反応
させて(R4O)zP(0)CHF(SOJ’)とする
。
テ(R4O)雪P(0)CFt(S03R’)として、
(R4O)zP(0)CFBr(SOJ’)を反応させ
て(R4O)zP(0)CFBr(SOsR’)とし、
そして(R4O)iP(0)CHF(SOJ’)を反応
させて(R4O)zP(0)CHF(SOJ’)とする
。
本発明の新規な弗素化ホスホノスルホ化合物の別法の合
成経路においては、(R4O) iP (0)CFBr
(SOJ’)を、適当な不活性溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン中で還元剤、例えば金属亜鉛によって還元して
(R40)2P(0)C)IF(OJ’) とすること
ができる、この反応は、高温、例えば約60℃及び約1
〜約2(例えば約1.1)のzn:臭素化合物モル比で
、実施することができ、還元生成物は水での抽出により
回収できる。
成経路においては、(R4O) iP (0)CFBr
(SOJ’)を、適当な不活性溶媒、例えばテトラヒド
ロフラン中で還元剤、例えば金属亜鉛によって還元して
(R40)2P(0)C)IF(OJ’) とすること
ができる、この反応は、高温、例えば約60℃及び約1
〜約2(例えば約1.1)のzn:臭素化合物モル比で
、実施することができ、還元生成物は水での抽出により
回収できる。
第3反応生成物は反応(例えば加水分解)により、対応
するホスホン酸とすることができる0例えば第3反応生
成物を強酸(例えば濃塩酸)の水溶液中で加水分解する
ことができる。この加水分解反応は、過剰の強酸の存在
下(例えばR4当量当り約1.1〜10モル、例えば3
モルき強酸の存在下)で、昇温(例えば還流温度)で実
施される。この場合も、この加水分解生成物、すなわら
第4反応生成物は過剰溶媒の1発除去により回収できる
。
するホスホン酸とすることができる0例えば第3反応生
成物を強酸(例えば濃塩酸)の水溶液中で加水分解する
ことができる。この加水分解反応は、過剰の強酸の存在
下(例えばR4当量当り約1.1〜10モル、例えば3
モルき強酸の存在下)で、昇温(例えば還流温度)で実
施される。この場合も、この加水分解生成物、すなわら
第4反応生成物は過剰溶媒の1発除去により回収できる
。
第4反応生成物は、R5を水素に置換するために反応さ
せることができる。殊に、第4反応生成物は、イオン交
換カラム、例えば「アンバーライトIR−120Jのよ
うな酸性スルホン化ポリスチレン樹脂の如き強酸のカラ
ム、に通過させて、アルカリイオンの代りに水素イオン
を入れることができる。
せることができる。殊に、第4反応生成物は、イオン交
換カラム、例えば「アンバーライトIR−120Jのよ
うな酸性スルホン化ポリスチレン樹脂の如き強酸のカラ
ム、に通過させて、アルカリイオンの代りに水素イオン
を入れることができる。
RSがCdまたはZn(下記式ではhで示される)であ
る本発明の化合物は下記反応式によって製造できる。
る本発明の化合物は下記反応式によって製造できる。
(1) (R4O)iP+R’X−→(R4O)t
P(0)Rコχm−1(2) (R4O)zP(0)R
3Xz−1+M−+(R4O)zP(0)R3MX。
P(0)Rコχm−1(2) (R4O)zP(0)R
3Xz−1+M−+(R4O)zP(0)R3MX。
(3) (R4O)zP(0)R謝X、−++5(h−
[(R4O)zP(0)R″SOzlzM(4) [(
R4O)zP(0)R’SO]J+IIzOz−+[(
R4O)zP(0)R’SO3]zM(5) [(R4
O)zP(0)R’SO+]zM+Na011→[(R
4O)zP(0)R’5OJal工程(1)は前述のよ
うに実施される。
[(R4O)zP(0)R″SOzlzM(4) [(
R4O)zP(0)R’SO]J+IIzOz−+[(
R4O)zP(0)R’SO3]zM(5) [(R4
O)zP(0)R’SO+]zM+Na011→[(R
4O)zP(0)R’5OJal工程(1)は前述のよ
うに実施される。
工程(2)は、非酸化性条件(例えばN2雰囲気)下で
無水溶媒、例えばジメチルホルムアミドCDMP)中に
両反応体を溶解し、撹拌して反応を生じさせることによ
り実施できる。この反応生成物に対して2SOlを添加
することができ、このようにして工程(3)は実施され
る。過剰SO!及び溶媒を除去した後に、残留反応生成
物は水で洗浄し、ろ過することにより回収できる。熱イ
ソパノールから再結晶させることにより工程(3)の生
成物が得られる。工程(4)も前述のように実施するこ
とができる。最後に、工程(4)で得られた反応生成物
を、例えばNa011水溶液のような適当なアルカリ水
溶液と反応させることによりアルカリ塩とすることがで
き、その金属門は不溶性水酸化物M(OH)zとして除
去される。
無水溶媒、例えばジメチルホルムアミドCDMP)中に
両反応体を溶解し、撹拌して反応を生じさせることによ
り実施できる。この反応生成物に対して2SOlを添加
することができ、このようにして工程(3)は実施され
る。過剰SO!及び溶媒を除去した後に、残留反応生成
物は水で洗浄し、ろ過することにより回収できる。熱イ
ソパノールから再結晶させることにより工程(3)の生
成物が得られる。工程(4)も前述のように実施するこ
とができる。最後に、工程(4)で得られた反応生成物
を、例えばNa011水溶液のような適当なアルカリ水
溶液と反応させることによりアルカリ塩とすることがで
き、その金属門は不溶性水酸化物M(OH)zとして除
去される。
水素イオン交換した反応生成物、すなわち(HO)!P
(0)R3Xzl−9(So!II)Pをさらに精製す
ることが必要であるならば、サルフェートイオン汚染源
は、その反応生成物の水溶液を過剰のバリウムイオンと
反応させて硫酸バリウムを沈澱させることにより、除去
することができる。酸置換された反応生成物とナトリウ
ム及びバリウムイオンを含むろ液は、次いで酸型のイオ
ン交換カラムに通過させて、それらのナトリウムおよび
バリウムイオンを除去し、その酸交換された反応生成物
の高純度溶液を回収する。さらには、上記の精製操作を
充分に高いpH値、例えば11またはそれ以上で実施す
るときには、ホスフェート汚染源も不溶性物質の形で除
去できる。
(0)R3Xzl−9(So!II)Pをさらに精製す
ることが必要であるならば、サルフェートイオン汚染源
は、その反応生成物の水溶液を過剰のバリウムイオンと
反応させて硫酸バリウムを沈澱させることにより、除去
することができる。酸置換された反応生成物とナトリウ
ム及びバリウムイオンを含むろ液は、次いで酸型のイオ
ン交換カラムに通過させて、それらのナトリウムおよび
バリウムイオンを除去し、その酸交換された反応生成物
の高純度溶液を回収する。さらには、上記の精製操作を
充分に高いpH値、例えば11またはそれ以上で実施す
るときには、ホスフェート汚染源も不溶性物質の形で除
去できる。
最後に、酸交換された反応生成物は、充分な量のPc1
Sと反応させることにより対応するホスホニルスルホニ
ルクロリドに変えることができ、このものは蒸留により
回収できる。酸交換された反応生成物のスルホン酸部分
とホスホン酸部分との一部または全部は、それらの酸部
分の1個ないし全部に相当する量のPiSと反応させる
ことにより対応する酸クロリドに変えることができる。
Sと反応させることにより対応するホスホニルスルホニ
ルクロリドに変えることができ、このものは蒸留により
回収できる。酸交換された反応生成物のスルホン酸部分
とホスホン酸部分との一部または全部は、それらの酸部
分の1個ないし全部に相当する量のPiSと反応させる
ことにより対応する酸クロリドに変えることができる。
酸交換された反応生成物のそのような転化反応が、精製
生成物の回収のためになされるときには、酸部分のすべ
てを酸ハライドに変えるのに充分な量のPCj!sを用
い、得られる酸ハライドを蒸留により回収し、そして加
水分解して精製度の高い弗素化ホスホン・スルホン酸を
得る。
生成物の回収のためになされるときには、酸部分のすべ
てを酸ハライドに変えるのに充分な量のPCj!sを用
い、得られる酸ハライドを蒸留により回収し、そして加
水分解して精製度の高い弗素化ホスホン・スルホン酸を
得る。
上記の反応ではモノホスホノ反応体を用いていることに
注目すべきである。ポリホスホノ官能性が望まれる場合
、本発明の範囲内の化合物は(例えばyが2または3で
ある化合物は)、上記モル量の(R4O) 3PとR3
Xg(zは3〜6である)とを反応させて、上記の反応
式により処理することにより製造できる。
注目すべきである。ポリホスホノ官能性が望まれる場合
、本発明の範囲内の化合物は(例えばyが2または3で
ある化合物は)、上記モル量の(R4O) 3PとR3
Xg(zは3〜6である)とを反応させて、上記の反応
式により処理することにより製造できる。
本発明の弗素化ホスホノスルホ化合物のうちのあるもの
を製造するための別法は、−II式IR’SO,Pの第
1反応体を、一般式(R4O)zPOP(OR’)zの
第2反応体と、過酸化物及び溶媒(CFlCl1CFC
I!、t’)の存在下で反応させて、一般式 %式% の第1反応生成物を作り;この第1反応生成物を一般式
Rz’5tO4の第3反応体と反応させて、一般式 %式% の第2反応生成物を生じさせる(R’は低級アルキル基
であり、eは弗素化ポリアルキレンオキサイド基であり
そしてR5はアルカリ金属イオンである)。
を製造するための別法は、−II式IR’SO,Pの第
1反応体を、一般式(R4O)zPOP(OR’)zの
第2反応体と、過酸化物及び溶媒(CFlCl1CFC
I!、t’)の存在下で反応させて、一般式 %式% の第1反応生成物を作り;この第1反応生成物を一般式
Rz’5tO4の第3反応体と反応させて、一般式 %式% の第2反応生成物を生じさせる(R’は低級アルキル基
であり、eは弗素化ポリアルキレンオキサイド基であり
そしてR5はアルカリ金属イオンである)。
その第1反応体は
をCF2 =CF、と、KF及びIC!!、の存在下で
、反応させることができる(コノ方法はrscIENT
IA 5INICAJ1978、21.773に記載
れている)。
、反応させることができる(コノ方法はrscIENT
IA 5INICAJ1978、21.773に記載
れている)。
第2反応生成物は、前記のように処理して、対応jる第
3及び第4反応生成物、ならびに水素イオ・ン交換型反
応生成物とすることができる。
3及び第4反応生成物、ならびに水素イオ・ン交換型反
応生成物とすることができる。
最後に本発明の弗素化ホスホノスルホ化合物は下記反応
によっても製造できる。
によっても製造できる。
(R”0)P(0)CFJr+NatSOs −’)
(R”0)zP(0)CFtSOsNa + NaBr
(ここにRxは前記定義の通りである)。CF、はこの
明細書中に開示した他の弗素化有機基のいずれであって
もよいことに注目すべきである。すなわち、CF、は前
記定義のRであってよい、この反応は還流条件下で水ま
たは水性エタノール中で実施され、第3反応生成物を与
える。この第3反応生成物は、次いで前記のように処理
されうる。
(R”0)zP(0)CFtSOsNa + NaBr
(ここにRxは前記定義の通りである)。CF、はこの
明細書中に開示した他の弗素化有機基のいずれであって
もよいことに注目すべきである。すなわち、CF、は前
記定義のRであってよい、この反応は還流条件下で水ま
たは水性エタノール中で実施され、第3反応生成物を与
える。この第3反応生成物は、次いで前記のように処理
されうる。
本発明の弗素化ホスホノスルホノ化合物は、現在パーフ
ルオロスルホン酸が用いられるのと同様にして、電解液
として(例えば燃料電池中で)使用することができる。
ルオロスルホン酸が用いられるのと同様にして、電解液
として(例えば燃料電池中で)使用することができる。
例えば参考文献として下記のものがある:
Fuel Ce1l Reaction in Su
er Ac1d Electrol tes(Annu
al Rept、 I June ’ 82−31 M
ay 83)、(米国ニューヨーク、アップトンのプル
ックヘブン・ナショナル・ラボラドリースの協力で作成
);Fuel Ce1l Reaction i
n Su er Ac1d Electrol
tes。
er Ac1d Electrol tes(Annu
al Rept、 I June ’ 82−31 M
ay 83)、(米国ニューヨーク、アップトンのプル
ックヘブン・ナショナル・ラボラドリースの協力で作成
);Fuel Ce1l Reaction i
n Su er Ac1d Electrol
tes。
(Final Report June 1982−
December 1985;米国イリノイ州シカゴの
ガス・リサーチ・インスチチュート開催); Neu Catal sts and Neu Ele
ctrol tes for Ac1dFuel Ce
1ls 188. (米国ペンシルベニヤ州・フィラデ
ルフィアで1984年8月26日開催のアメリカン・ケ
ミカル・ソサイエティ学会発表)。
December 1985;米国イリノイ州シカゴの
ガス・リサーチ・インスチチュート開催); Neu Catal sts and Neu Ele
ctrol tes for Ac1dFuel Ce
1ls 188. (米国ペンシルベニヤ州・フィラデ
ルフィアで1984年8月26日開催のアメリカン・ケ
ミカル・ソサイエティ学会発表)。
尖施桝土
(80)iP(0)CFtSOJの製造:(a) 75
ccの鋼製ボンベ中で12.4ミリモルの(Czlls
O)iPと13.1ミリモルのCFJrtとを一緒にし
て、ボンベを密封して室温で48時間反応させた。
ccの鋼製ボンベ中で12.4ミリモルの(Czlls
O)iPと13.1ミリモルのCFJrtとを一緒にし
て、ボンベを密封して室温で48時間反応させた。
得られた反応生成物を10〜20ミクロンの減圧で蒸留
することにより100χの収率で (CJsO) zP(Q)CFtBr(1)が得られた
。
することにより100χの収率で (CJsO) zP(Q)CFtBr(1)が得られた
。
(b) 水及びアセトニトリルの50150 (容量
比)溶液100−中で上記(1)の39.9ミリモルと
Na252oaの79.8ミリモルとを一緒にした。(
その79.8ミリモルのNazSzOaはアセトニトリ
ルの水溶液中に予め溶解しておいた) 、 80”Cで
12時間加熱した後、ろ過済の溶液を蒸発処理すること
により8oχの収率で(CJsO)tP(0)CFtS
OJa (11)を得た。
比)溶液100−中で上記(1)の39.9ミリモルと
Na252oaの79.8ミリモルとを一緒にした。(
その79.8ミリモルのNazSzOaはアセトニトリ
ルの水溶液中に予め溶解しておいた) 、 80”Cで
12時間加熱した後、ろ過済の溶液を蒸発処理すること
により8oχの収率で(CJsO)tP(0)CFtS
OJa (11)を得た。
(c) 30χのHtOt水溶液を上記(II)に対
して、0°Cで攪拌しつつ滴状に、H!0□と(II)
とのモル比が約1.75となるまで、添加した。得られ
た溶液を4時間そのまま反応させた。溶媒を蒸発させて
(CzllsO)x−P(0)CFzSO+Na(DI
)を56.3χの収率で得た。
して、0°Cで攪拌しつつ滴状に、H!0□と(II)
とのモル比が約1.75となるまで、添加した。得られ
た溶液を4時間そのまま反応させた。溶媒を蒸発させて
(CzllsO)x−P(0)CFzSO+Na(DI
)を56.3χの収率で得た。
(d)上記(c)の生成物を濃塩酸で12時間還流処理
した(モル比1:6)、溶媒を蒸発させ、アセトニトリ
ルで抽出しそして蒸発処理することにより(HO)zP
(0)CFzSOsNa(IV)を78.9χの収率で
回収した。
した(モル比1:6)、溶媒を蒸発させ、アセトニトリ
ルで抽出しそして蒸発処理することにより(HO)zP
(0)CFzSOsNa(IV)を78.9χの収率で
回収した。
(e)上記(IV)の水溶液を、3cmX35cIlの
寸法の「アンバーライトIR−12o J (商標:酸
性スルホネート化ポリスチレン樹脂)の充填カラムに約
0.3 d1時の流量で通過させた。流出液を蒸発処理
し、残留物を約10〜20ミクロンの圧力で蒸留するこ
とにより()10) iP(0)CF!5O3Hを回収
した。
寸法の「アンバーライトIR−12o J (商標:酸
性スルホネート化ポリスチレン樹脂)の充填カラムに約
0.3 d1時の流量で通過させた。流出液を蒸発処理
し、残留物を約10〜20ミクロンの圧力で蒸留するこ
とにより()10) iP(0)CF!5O3Hを回収
した。
実扁例)
(HO)iP(0)CFH5O3Hの製造:(a)実施
例1(a)の方法により(ただし反応を40−の容器中
でO′Cにおいて4時間実施することにより)、50ミ
リモル(D (Ctl(so) sPと50ミリモル+
71 CF B r sとを反応させて、76.9χの
収率テ(CxHsO)iP(0)CFBrz(IV)を
得た。
例1(a)の方法により(ただし反応を40−の容器中
でO′Cにおいて4時間実施することにより)、50ミ
リモル(D (Ctl(so) sPと50ミリモル+
71 CF B r sとを反応させて、76.9χの
収率テ(CxHsO)iP(0)CFBrz(IV)を
得た。
(b)上記(Vl)の12ミリモルを、5dの水と5戚
のアセトニトリルとに溶解した14.4ミリモルのHa
)IcO+からなる溶液中で、14.4ミリモルのNa
zSxOaと反応させた。室温で4時間後に減圧下で溶
媒を蒸発させ、残留物をアセトニトリルで抽出し、そし
て真空下で乾燥することにより、64.4χの収率で(
CzHsO) zPcFBrsOtNa (■)を回収
した。
のアセトニトリルとに溶解した14.4ミリモルのHa
)IcO+からなる溶液中で、14.4ミリモルのNa
zSxOaと反応させた。室温で4時間後に減圧下で溶
媒を蒸発させ、残留物をアセトニトリルで抽出し、そし
て真空下で乾燥することにより、64.4χの収率で(
CzHsO) zPcFBrsOtNa (■)を回収
した。
(C) 14.9ミリモルの上記(■)に、26ミリモ
ルのH10!を30χ水溶液の形で攪拌下に滴状に添加
することにより、両者を反応させた。室温で5時間後に
、溶媒を蒸発させることにより (CJsO)zP(0)CFBrSOJa(■)を74
.8χの収率で回収・した。
ルのH10!を30χ水溶液の形で攪拌下に滴状に添加
することにより、両者を反応させた。室温で5時間後に
、溶媒を蒸発させることにより (CJsO)zP(0)CFBrSOJa(■)を74
.8χの収率で回収・した。
(d) 11.1ミリモルを上記(■)を、10−のテ
トラヒドロフラン(TIIF”)中で60℃において過
剰Znを用いて6時間還流した。この際のZn:(■)
のモル比は約1.1であった。得られた混合物を20m
の水と一緒にして、攪拌し、61.2′&の収率で(C
JsO)iP(0)CFH5OJa(IX)を生成させ
た。
トラヒドロフラン(TIIF”)中で60℃において過
剰Znを用いて6時間還流した。この際のZn:(■)
のモル比は約1.1であった。得られた混合物を20m
の水と一緒にして、攪拌し、61.2′&の収率で(C
JsO)iP(0)CFH5OJa(IX)を生成させ
た。
(e)上記(IX)を実施例1(a)の方法により加水
分解して、53.5χの収率で (10) zP (0) CFI(SO=Na (X
)を得た。
分解して、53.5χの収率で (10) zP (0) CFI(SO=Na (X
)を得た。
<r>上記(X)を実施例1 (e)の方法により充填
カラムに通過させて、真空下で溶媒を蒸発させ、得られ
た生成物を真空下で80°Cにおいて4時間乾燥するこ
とにより、80χの収率で(HO) zP (0) C
FH5Osllを得た。
カラムに通過させて、真空下で溶媒を蒸発させ、得られ
た生成物を真空下で80°Cにおいて4時間乾燥するこ
とにより、80χの収率で(HO) zP (0) C
FH5Osllを得た。
裏施拠主
(C21(sO)zP(0)CF(SO3Na)zの製
造:(a)実施例2(a)の方法によって(C2H3O
)3PとCFBr3とを反応させて、76.9χの収率
で(CzllsO) zP(0)CFBrz(XI)を
得た。
造:(a)実施例2(a)の方法によって(C2H3O
)3PとCFBr3とを反応させて、76.9χの収率
で(CzllsO) zP(0)CFBrz(XI)を
得た。
(b)実施例2(b)の方法よって、上記(XI)を反
応させて、64.4χの収率で(CJsO)P(0)C
FRrSOzNa(X [[)を得た。
応させて、64.4χの収率で(CJsO)P(0)C
FRrSOzNa(X [[)を得た。
(c)実施例2(c)の方法によって、上記(X [[
’1を酸化させ、74.8χの収率で (CzllsO)zP(0)CFBrSOJa (XI
II)を得た。
’1を酸化させ、74.8χの収率で (CzllsO)zP(0)CFBrSOJa (XI
II)を得た。
(d) 2 dの水及び2 mlのアセトニトリル中に
5.7ミリモルの上記(Xlll)を溶解させ、8.5
ミリモルのNa)lcO*の存在下で0°Cにおいて
4時間、8.5 ミリモルのNazStOaと反応させ
て、90χの収率でSOJa を得た。この生成物は真空下での溶媒の蒸発後に回収さ
れた。
5.7ミリモルの上記(Xlll)を溶解させ、8.5
ミリモルのNa)lcO*の存在下で0°Cにおいて
4時間、8.5 ミリモルのNazStOaと反応させ
て、90χの収率でSOJa を得た。この生成物は真空下での溶媒の蒸発後に回収さ
れた。
(e)3−の水に溶解した7、8 ミリモルの上記(X
I)に対して、攪拌下に、7.8 ミリモルの11□0
2(30χの水溶液として)を添加することにより(X
IV)を酸化させた。得られた混合物を一15°Cで1
時間保持して、33χの収率で (CtllsO)zP(0)CF(SOJa)z (X
V)を得た。真空下で溶媒を蒸発させ、残留物をアセト
ン及びTIIPで抽出し、乾燥させることにより上記生
成物を回収した。
I)に対して、攪拌下に、7.8 ミリモルの11□0
2(30χの水溶液として)を添加することにより(X
IV)を酸化させた。得られた混合物を一15°Cで1
時間保持して、33χの収率で (CtllsO)zP(0)CF(SOJa)z (X
V)を得た。真空下で溶媒を蒸発させ、残留物をアセト
ン及びTIIPで抽出し、乾燥させることにより上記生
成物を回収した。
裏丘桝土
(l(O) IP (0) (CF、) 40 (Ch
) tsO311の製造:(a) 38ミリモルのI(
CPz) 40(CF、) tsOJ、57ミリモルの
(CJsO)zPOP(OCzlls)z及び19ミリ
モルの(CL) 3COOC(CH3) sを、80m
1のCF ICI CFCl zに熔解させ、150c
cの鋼製ボンベ中で120°Cにおいて3時間反応させ
た。得られた反応生成物に対して、−10°C〜0°C
の温度で1時間にわたり45m1の(CI+3) 5c
OOH及び45戚のC1+308を滴状添加して、18
ミリモル(収率48χ)の (C211,0)tP(0) ((CF、)io(CF
t)tso、F ] (XV[)を得た。この生成物は
真空下で藤留することにより回収した。上記(XVI)
の沸点は1,1m−で133°Cである。
) tsO311の製造:(a) 38ミリモルのI(
CPz) 40(CF、) tsOJ、57ミリモルの
(CJsO)zPOP(OCzlls)z及び19ミリ
モルの(CL) 3COOC(CH3) sを、80m
1のCF ICI CFCl zに熔解させ、150c
cの鋼製ボンベ中で120°Cにおいて3時間反応させ
た。得られた反応生成物に対して、−10°C〜0°C
の温度で1時間にわたり45m1の(CI+3) 5c
OOH及び45戚のC1+308を滴状添加して、18
ミリモル(収率48χ)の (C211,0)tP(0) ((CF、)io(CF
t)tso、F ] (XV[)を得た。この生成物は
真空下で藤留することにより回収した。上記(XVI)
の沸点は1,1m−で133°Cである。
(b)8mの水及び4緘のアセトニトリルとの溶液中で
、9.3 ミリモルの上記(XVI)を、18.6ミリ
モルのNa、5tOa及び18.6ミリモルのNaHC
O,と反応させた。反応温度は85°C1反応時間は2
時間であった。蒸発処理した溶液からの固体をアセトニ
トリルで繰り返し抽出し、そのアセトニトリル溶媒を蒸
発させることにより、89χの収率で(CzllsO)
zP(0) ((CFz)40(CFz)tsOtNa
) (X■)を得た。
、9.3 ミリモルの上記(XVI)を、18.6ミリ
モルのNa、5tOa及び18.6ミリモルのNaHC
O,と反応させた。反応温度は85°C1反応時間は2
時間であった。蒸発処理した溶液からの固体をアセトニ
トリルで繰り返し抽出し、そのアセトニトリル溶媒を蒸
発させることにより、89χの収率で(CzllsO)
zP(0) ((CFz)40(CFz)tsOtNa
) (X■)を得た。
(c) 40ミリルの11□0を30χ水溶液の形で滴
状添加することにより8.3 ミリモルの上記(X■)
を酸化処理した。室温で10時間攪拌後、真空下で蒸発
乾固して、92χの収率で (CJsO) iP (0) ((CFt) 40(C
Fz) xsOsN ) (X■)を回収した。
状添加することにより8.3 ミリモルの上記(X■)
を酸化処理した。室温で10時間攪拌後、真空下で蒸発
乾固して、92χの収率で (CJsO) iP (0) ((CFt) 40(C
Fz) xsOsN ) (X■)を回収した。
(d)実施例1(d)の方法により上記(X■)を加水
分解して、8Bχの収率で (HO)zP(0((CFz)40(CFz)zsOz
Na) (XIX)を得た。
分解して、8Bχの収率で (HO)zP(0((CFz)40(CFz)zsOz
Na) (XIX)を得た。
(e)上記(X[X)を実施例1(e)の方法により反
応させて78χの収率で (HO)IP(0((CFZ)40(CF2)2SO,
H) ・lho (XX)を得た。
応させて78χの収率で (HO)IP(0((CFZ)40(CF2)2SO,
H) ・lho (XX)を得た。
尖施炭l
サルフェート及びホスフェートイオンの除去;サルフェ
ートイオンを含む実施例1(e)の生成物を水に溶解し
た。これに対して攪拌条件下にBaCl□水溶液を、過
剰に存在するようになるまで(すなわち、添加を続けて
もさらにBa5O,の沈澱を生じなくなるまで)添加し
た。遠心分離後、上澄液をデカンテーション分離し、濃
縮化し、ダウエックス(Dowex) M−31(商標
:ダウケミカル社のスチレンスルホン酸樹脂)の4.5
c+nX50cmの充填カラムに通過させて、検出し
うるサルフェートを含まない溶離液を回収した。
ートイオンを含む実施例1(e)の生成物を水に溶解し
た。これに対して攪拌条件下にBaCl□水溶液を、過
剰に存在するようになるまで(すなわち、添加を続けて
もさらにBa5O,の沈澱を生じなくなるまで)添加し
た。遠心分離後、上澄液をデカンテーション分離し、濃
縮化し、ダウエックス(Dowex) M−31(商標
:ダウケミカル社のスチレンスルホン酸樹脂)の4.5
c+nX50cmの充填カラムに通過させて、検出し
うるサルフェートを含まない溶離液を回収した。
別法として、BaCl2の代りにBa (OH) tを
使用して、同等に精製された溶液を得ることもできる。
使用して、同等に精製された溶液を得ることもできる。
さらには、その精製時のρ11がBa (OH) zの
添加により11またはそれ以上に調節されると、無機ホ
スフェートイオンが”P NMRによって検出できない
水準にまで低減された。
添加により11またはそれ以上に調節されると、無機ホ
スフェートイオンが”P NMRによって検出できない
水準にまで低減された。
尖隻炎■
酸ハライドの製造:
(a) 10 mlのPOCj!s中に溶解した実施例
1(e)の生成物11.1gを、100m1!のフラス
コ中の35gのpcz、と−緒にし、これを120°C
に加熱した。この温度に1時間保持した後、対応するト
リ酸ハライドを0.1mmの圧力での蒸留により回収し
た。この圧力において、トリ酸ハライドc I!zP(
0)CF2SO□C2は76°Cの沸点を有した。
1(e)の生成物11.1gを、100m1!のフラス
コ中の35gのpcz、と−緒にし、これを120°C
に加熱した。この温度に1時間保持した後、対応するト
リ酸ハライドを0.1mmの圧力での蒸留により回収し
た。この圧力において、トリ酸ハライドc I!zP(
0)CF2SO□C2は76°Cの沸点を有した。
(b) この留出物の一部を0℃で水と一緒にして実施
例1(e)の生成物をさらに精製された状態(31P及
び”CNMRにより証明)で、再生した。
例1(e)の生成物をさらに精製された状態(31P及
び”CNMRにより証明)で、再生した。
実避L[LL
((RO) zP (0) CF ! ) zcdの製
造:還流コンデンサーを備えた乾燥三日100ij!フ
ラスコに、順次に、酸洗Cd粉末(6,2g;55ミリ
モル)、乾燥D?IP(50mffi)及び(iso−
CJtO) zP(0) CFJr(14,8g150
ミリモル)を加えた。この混合物を2時間攪拌した(初
期発熱反応)。この後、緑色がかった(iso−C+I
IJ)zP(0)CFzCdBrの溶液をN!加圧下に
シュクレンク・フィルターを介して過剰のCdから別の
1001dフラスコ中へろ別した。このフラスコに、ド
ライアイス及びイソプロパノロールを満たしたデユワ−
コンデンサーを取り付け、過剰のSO□ガスを導入した
。この混合物を15分間攪拌したが、この間に溶液は黄
色に変った。次いで溶媒及び過剰のSO2を真空下に除
去した。残留ペースト状物を水(15d)で洗浄し、ろ
過した。ろ過して不溶性有機残渣を除去した後、熱イソ
プロパツールから固体を再結晶させた。水性溶液を一晩
静置し、ろ過して沈澱無m物を除去し、はぼ乾燥するま
で蒸発処理し、得られた固体を再びイソプロパツールか
ら再結晶させた。白色の粉末生成物をエーテルで洗浄し
、真空下に乾燥させた。総合収量は7.25g(43χ
)であった。
造:還流コンデンサーを備えた乾燥三日100ij!フ
ラスコに、順次に、酸洗Cd粉末(6,2g;55ミリ
モル)、乾燥D?IP(50mffi)及び(iso−
CJtO) zP(0) CFJr(14,8g150
ミリモル)を加えた。この混合物を2時間攪拌した(初
期発熱反応)。この後、緑色がかった(iso−C+I
IJ)zP(0)CFzCdBrの溶液をN!加圧下に
シュクレンク・フィルターを介して過剰のCdから別の
1001dフラスコ中へろ別した。このフラスコに、ド
ライアイス及びイソプロパノロールを満たしたデユワ−
コンデンサーを取り付け、過剰のSO□ガスを導入した
。この混合物を15分間攪拌したが、この間に溶液は黄
色に変った。次いで溶媒及び過剰のSO2を真空下に除
去した。残留ペースト状物を水(15d)で洗浄し、ろ
過した。ろ過して不溶性有機残渣を除去した後、熱イソ
プロパツールから固体を再結晶させた。水性溶液を一晩
静置し、ろ過して沈澱無m物を除去し、はぼ乾燥するま
で蒸発処理し、得られた固体を再びイソプロパツールか
ら再結晶させた。白色の粉末生成物をエーテルで洗浄し
、真空下に乾燥させた。総合収量は7.25g(43χ
)であった。
(C,H,0)P(0)CFJr、 Cd、 1.4−
ジオキサン及びSotを用いて同様にして、類偵化合物 ((CJsO)zP(0)CFzS(h) zCdを作
り、エタノールから62χの収率で再結晶させた。
ジオキサン及びSotを用いて同様にして、類偵化合物 ((CJsO)zP(0)CFzS(h) zCdを作
り、エタノールから62χの収率で再結晶させた。
実施±工
((i−CzllsO)zP(0)CPzSOz) z
cdの製造:25m1のフラスコ中の水(10d)に(
(i−CJsO)zP(0)ChSOz) zcdを懸
濁させた。この混合物を氷水浴中で急激に撹拌しつつ冷
却し、50χ11□0□(1,7d)を徐々に滴状で添
加した。混合物を放置して室温まで加温し、−晩攪拌し
た。その間に、固体はほとんど完全に溶解した。溶液を
ろ過し、回転蒸発器で′a縮乾燥させた。残留固体を少
量のアセトンで洗浄し、そしてエーテルで洗浄し、真空
(減圧)下で乾燥させた。収量は3.32g(63χ)
であった。
cdの製造:25m1のフラスコ中の水(10d)に(
(i−CJsO)zP(0)ChSOz) zcdを懸
濁させた。この混合物を氷水浴中で急激に撹拌しつつ冷
却し、50χ11□0□(1,7d)を徐々に滴状で添
加した。混合物を放置して室温まで加温し、−晩攪拌し
た。その間に、固体はほとんど完全に溶解した。溶液を
ろ過し、回転蒸発器で′a縮乾燥させた。残留固体を少
量のアセトンで洗浄し、そしてエーテルで洗浄し、真空
(減圧)下で乾燥させた。収量は3.32g(63χ)
であった。
尖盗尉工
(CJsO)zP(0)CFzSOJa の製造:還
流コンデンサー付の三日100 dフラスコに、1.4
−ジオキサン(8d) 、水(25yd> 、Nazs
os(25,3g; 200ミリモル)及び(C,+1
50)2P(0)CF!+ (15,7g;50ミリモ
ル)を加えた。この混合物を、油浴中で10時間80〜
85°Cに加熱した。次いでそれを室温にまで冷却し、
回転蒸発器で溶媒を蒸発除去し、残留物をアセトンで洗
浄し、乾燥させた。収率は” Fnmrにより85χで
あった。
流コンデンサー付の三日100 dフラスコに、1.4
−ジオキサン(8d) 、水(25yd> 、Nazs
os(25,3g; 200ミリモル)及び(C,+1
50)2P(0)CF!+ (15,7g;50ミリモ
ル)を加えた。この混合物を、油浴中で10時間80〜
85°Cに加熱した。次いでそれを室温にまで冷却し、
回転蒸発器で溶媒を蒸発除去し、残留物をアセトンで洗
浄し、乾燥させた。収率は” Fnmrにより85χで
あった。
尖施尉則
(i−C3H10) zP(0)CFzSOzNaの製
造:((i−C,II、0)zP(0)(:FzSOt
) zcd(33,5g;50ミリモル)を水(200
s+ff1)に溶解させ、NaoII粒を、pl+がわ
ずかに塩基性(約8)となるまで、添加した。沈澱した
Cd (Off) zをろ過で除去した。溶液を回転蒸
発器で濃縮、乾燥させて、上記生成物を得た。その収量
は27.3g(90χ)であった。
造:((i−C,II、0)zP(0)(:FzSOt
) zcd(33,5g;50ミリモル)を水(200
s+ff1)に溶解させ、NaoII粒を、pl+がわ
ずかに塩基性(約8)となるまで、添加した。沈澱した
Cd (Off) zをろ過で除去した。溶液を回転蒸
発器で濃縮、乾燥させて、上記生成物を得た。その収量
は27.3g(90χ)であった。
(外4名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、1個またはそれ以上の弗素原子、スルホ基及びホス
ホノ基を含み、かつそれらの基の各々が同一または相異
なる炭素原子に結合されており、ただし少なくとも1個
のスルホ基及び少なくとも1個のホスホノ基がそのよう
な炭素原子に対して、それぞれ硫黄原子及び燐原子を介
して結合されている化合物。 2、一般式 ((R^2O)_2P(O))_yR(SO_rR^1
)_x で表わされる化合物群より選択される化合物: (上記一般式において、Rは少なくとも1個の炭素−弗
素共有結合を有する有機基であり、R^1はアルカリ金
属、カドミウム、亜鉛及び水素からなる群より選択され
、R^2は低級アルキル基または水素であり、rは2ま
たは3であり、yは1〜3の整数であり、そしてxは1
〜3の整数であり、但し燐及び硫黄はある1個の炭素原
子に対して共有結合されており、そしてxが1であると
きにはカドミウム及び亜鉛は1/2である。) 3、R^1及びR^2が水素である請求項2記載の化合
物。 4、yが1である請求項3記載の化合物。 5、Rが弗素化アルキレン基及び弗素化アルキレンオキ
シアルキレン基からなる群より選択される請求項4記載
の化合物。 6、Rが■CF_2、■CFH、■CFBr、■CF及
び−(CF_2)_4O(CF_2)_2−からなる群
より選択される請求項5記載の化合物。 7、R^1がナトリウムであり、R^2がエチルまたは
水素であり、yが1であり、xが2であり、そしてrが
3である請求項2記載の化合物。 8、Rが■CFである請求項7記載の化合物。 9、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CF_2で
あり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1であ
る請求項1記載の化合物。 10、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CFHで
あり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1であ
る請求項1記載の化合物。 11、R^1及びR^2が水素であり、Rが■CFB_
rであり、yが2であり、rが3であり、そしてxが1
である請求項1記載の化合物。 12、R^1及びR^2が水素であり、Rが−(CF_
2)_4O(CF_2)_2−であり、yが2であり、
rが3であり、そしてxが1である請求項1記載の化合
物。 13、R^1がNaであり、R^2がC_2H_5であ
り、Rが■CFであり、yが2であり、rが3であり、
そしてxが2である請求項1記載の化合物。 14、下記式の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ 15、請求項13の水素イオン交換済の生成物。 16、一般式(R^4O)_3Pで表わされる第1反応
体を一般式R^3X_2で表わされる第2反応体と反応
させて一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_2_−_1 で表わされる第1反応生成物を作り、この第1反応生成
物を(R^5)_2S_2O_4と反応させて一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1_−_
p(SO_2R^5)_p で表わされる第2反応生成物を作ることからなる一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1−_p
(SO_2R^5)_p で表わされる化合物の製造方法: (一般式において、R^4は低級アルキル基、R^3は
少なくとも1個の共有弗素結合を有する有機基であり、
R^5はアルカリ金属イオンからなる群より選択される
ものであり、Xは臭素基及び沃素基からなる群より選択
されるものであり、zは2または3の整数であり、そし
てpは1または2の整数である。) 17、R^5がナトリウムであり、R^3が弗素化アル
キレン基及び弗素化アルキレンオキシアルキレン基から
なる群より選択される請求項16記載の方法。 18、R^3が■CF_2である請求項16記載の方法
。 19、R^3が■CFB_rである請求項16記載の方
法。 20、第2反応生成物を還元してR^3が■CHFであ
る第3反応生成物を作る請求項19記載の方法。 21、第2反応生成物を酸化して、それぞれ一般式 (R^4O)_2P(O)R^3X_z_−_1_−_
p(SO_3R^5)_p (R^4O)_2P(O)CF_2(SO_3R^5) (R^4O)_2P(O)CFB_r(SO_3R^5
)または (R^4O)_2P(O)CHF(SO_3R^5) で表わされる第3反応生成物を得る請求項16、18、
19または20記載の方法。 22、第3反応生成物を反応させて、前記(R^4O)
_2P(O)基の代りに(HO)_2P(O)基を有す
る第4反応生成物を生じさせる請求項21記載の方法。 23、第4反応生成物を、R^5の代りに水素イオンが
交換して入るように反応させる請求項22記載の方法。 24、第4反応生成物を水溶液中でバリウムイオンと反
応させて無機硫酸イオンを硫酸バリウムとして沈澱させ
る請求項23記載の方法。 25、水素イオン交換済の生成物をPCl_5と反応さ
せて対応するホスホニルクロライドを生じさせる請求項
23記載の方法。 26、該ホスホニルクロライドを加水分解して対応する
ホスホン酸を生じさせる請求項25記載の方法。 27、沈澱操作は、硫酸塩を除去するに足りるpH値で
実施する請求項24記載の方法。 28、(R^2O)_2P(O)PBrをNa_2SO
_3と反応させて(R^2O)_2P(O)RSO_3
Na及びNaBrを生じさせることからなる、一般式 (R^2O)_2P(O)RSO_3Na を有する化合物の製法: (式中、R^2は炭化水素基であり、Rは少なくとも1
個の炭素−弗素共有結合を有する有機基である。) 29、R^2が低級アルキル基であり、Rが1〜約20
個の炭素原子を含む請求項28記載の方法。 30、一般式 XR^6SO_2F を有する第1反応体を、一般式 (R^4O)_2POP(OR^4)_2 で表わされる第2反応体と、過酸化物の存在下に反応さ
せて、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2F で表わされる第1反応生成物を生じさせ、そしてこの第
1反応生成物を、一般式 R_2^5S_2O_4 で表わされる第3反応体と反応させて、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2R^5 で表わされる第2反応生成物を生じさせることからなる
一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_2R^5 の化合物の製法: (式中R^4は低級アルキル基であり、R^6は弗素化
ポリアルキレンオキサイド基であり、そしてR^5はア
ルカリ金属イオンである。) 31、R^6が▲数式、化学式、表等があります▼であ
る請求項30記載の方法。 32、第1反応体は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ とCF_2=CF_2とを、KF及びIClの存在下で
反応させることにより作られたものである請求項30記
載の方法。 33、第2反応生成物を酸化して、一般式 (R^4O)_2P(O)R^6SO_3R^5または (R^4O)_2P(O)〔(CF_2)_4O(CF
_2)_2SO_3R^5〕 で表わされる第3反応生成物を生じさせる請求項30ま
たは31記載の方法。 34、第3反応生成物を加水分解して、(R^4O)_
2P(O)基の代りに(HO)_2P(O)基を含む第
4反応生成物を生じさせる請求項33記載の方法。 35、第4反応生成物のR^5を水素イオンで交換する
ように第4反応生成物を反応させる請求項34記載の方
法。 36、一般式(R^4O)_3Pで表わされる第1反応
体と一般式R^3X_zで表わされる第2反応体とを反
応させて、一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR^3(X)_z_
−_y で表わされる第1反応生成物を生じさせ、そしてこの第
1反応生成物を(R^5)_2S_2O_4と反応させ
て一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR(X)_z−_Y
_−_s(SO_3R^5)_s で表わされる第2反応生成物を生じさせることからなる
一般式 〔(R^4O)_2P(O)〕_yR^3(X)_z_
−_y_−_z(SO_3R^5)_s で表される化合物の製法: (式中、R^4は低級アルキル基であり、R^3は少な
くとも1個の共有弗素結合を有する有機基であり、R^
5はアルカリ金属イオンからなる群より選択され、Xは
臭素及び沃素からなる群より選択され、zは2〜6の整
数であり、yは1〜3の整数であり、sは1〜3の整数
であり、そしてy+s≦zである。)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US29039489A | 1989-01-03 | 1989-01-03 | |
US290394 | 1989-01-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02184693A true JPH02184693A (ja) | 1990-07-19 |
Family
ID=23115797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1022467A Pending JPH02184693A (ja) | 1989-01-03 | 1989-01-31 | 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0453484A4 (ja) |
JP (1) | JPH02184693A (ja) |
KR (1) | KR900011782A (ja) |
AU (1) | AU4842190A (ja) |
CA (1) | CA2045151A1 (ja) |
WO (1) | WO1990007513A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013058387A1 (ja) * | 2011-10-21 | 2013-04-25 | 三井化学株式会社 | ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池 |
JP2017007971A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 旭化成株式会社 | 含フッ素エーテルの製造方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK167946B1 (da) * | 1991-06-28 | 1994-01-03 | Topsoe Haldor As | Fosforsyrebraendelsescelle med forbedret elektrisk effektivitet |
US5731299A (en) * | 1992-05-29 | 1998-03-24 | The Procter & Gamble Company | Phosphonosulfonate compounds, pharmaceutical compositions, and methods for treating abnormal calcium and phosphate metabolism |
AU659565B2 (en) * | 1992-05-29 | 1995-05-18 | Procter & Gamble Pharmaceuticals, Inc. | Phosphonosulfonate compounds for treating abnormal calcium and phosphate metabolism |
US5470845A (en) * | 1992-10-28 | 1995-11-28 | Bristol-Myers Squibb Company | Methods of using α-phosphonosulfonate squalene synthetase inhibitors including the treatment of atherosclerosis and hypercholesterolemia |
NZ248852A (en) * | 1992-10-28 | 1997-06-24 | Squibb & Sons Inc | Alpha-phosphono and phosphinosulphonates and medicaments thereof |
US5447922A (en) * | 1994-08-24 | 1995-09-05 | Bristol-Myers Squibb Company | α-phosphonosulfinic squalene synthetase inhibitors |
-
1989
- 1989-01-31 KR KR1019890001050A patent/KR900011782A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-01-31 JP JP1022467A patent/JPH02184693A/ja active Pending
-
1990
- 1990-01-03 CA CA002045151A patent/CA2045151A1/en not_active Abandoned
- 1990-01-03 WO PCT/US1990/000055 patent/WO1990007513A1/en not_active Application Discontinuation
- 1990-01-03 EP EP19900902058 patent/EP0453484A4/en not_active Ceased
- 1990-01-03 AU AU48421/90A patent/AU4842190A/en not_active Abandoned
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013058387A1 (ja) * | 2011-10-21 | 2013-04-25 | 三井化学株式会社 | ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池 |
JPWO2013058387A1 (ja) * | 2011-10-21 | 2015-04-02 | 三井化学株式会社 | ホスホノスルホン酸化合物を含有する非水電解液、及びリチウム二次電池 |
US9425484B2 (en) | 2011-10-21 | 2016-08-23 | Mitsui Chemicals, Inc. | Non-aqueous electrolyte solution containing phosphonosulfonic acid compound, and lithium secondary battery |
JP2017007971A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 旭化成株式会社 | 含フッ素エーテルの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900011782A (ko) | 1990-08-02 |
WO1990007513A1 (en) | 1990-07-12 |
EP0453484A4 (en) | 1991-12-11 |
EP0453484A1 (en) | 1991-10-30 |
AU4842190A (en) | 1990-08-01 |
CA2045151A1 (en) | 1990-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105731398B (zh) | 一种双氟磺酰亚胺的碱金属盐的制备方法 | |
KR20050044671A (ko) | O-데스메틸벤라팍신의 제조방법 | |
US2593737A (en) | Perfluorinated cyclohexyl carboxylic acid and cyclohexyl acetic acid and derivatives | |
JPH02184693A (ja) | 弗素化ホスホンスルホン酸及びその製法 | |
JPH0518623B2 (ja) | ||
US4276224A (en) | Anthraquinone sulphonamide compounds and preparation | |
Lines et al. | Preparation and properties of some salts of perfluorooctanoic acid | |
FR2809400A1 (fr) | Materiaux comportant des groupements organiques contenant du soufre et du phosphore lie par l'intermediaire d'atomes d'oxygenes a un oxyde mineral | |
JPS5984894A (ja) | ジホスホン酸エステルの製造方法 | |
EP0183290B1 (en) | A process for the preparation of bis-phosphineoxide compounds | |
US3268629A (en) | Monoesters of phosphonic acids | |
KR101609404B1 (ko) | 플루오르화 설포네이트 에스테르를 제조하기 위한 수성 방법 | |
KR880001831B1 (ko) | N-포스포노메틸글리신의 제조방법 | |
US2512582A (en) | Mixed alkyl benzyl phosphates and their production | |
US3352898A (en) | Process for production of bunte compounds | |
Mikołajczyk | Stereochemistry of nucleophilic displacement reactions at the thiophosphoryl centre—II: Hydrolysis of optically active o-ethyl ethylphosphonochloridothionate | |
KR100406289B1 (ko) | 아실페로센의 개선된 제조 방법 | |
JP5054932B2 (ja) | イオン性化合物の製造方法 | |
US4018795A (en) | Sandwich type chemical compounds | |
JP3859888B2 (ja) | リン酸トリエステルの製造法 | |
US4158673A (en) | Process for the synthesis of bis(alkyl sulphide)-decaborane (12) | |
SU1759841A1 (ru) | Способ получени трис(2-фенилэтил)фосфиноксида | |
JPH0552838B2 (ja) | ||
KR100193368B1 (ko) | 리보플라빈 5'-포스페이트염의 제조방법 | |
JPS61183263A (ja) | ピロリジン誘導体の製造方法 |