JPH02175142A - シャーシ,ボディーまたは部品およびその作製方法 - Google Patents

シャーシ,ボディーまたは部品およびその作製方法

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JPH02175142A
JPH02175142A JP1236335A JP23633589A JPH02175142A JP H02175142 A JPH02175142 A JP H02175142A JP 1236335 A JP1236335 A JP 1236335A JP 23633589 A JP23633589 A JP 23633589A JP H02175142 A JPH02175142 A JP H02175142A
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Shigenori Hayashi
茂則 林
Naoki Hirose
直樹 広瀬
Noriya Ishida
石田 典也
Junichi Takeyama
竹山 順一
Mari Sasaki
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、風雨に曝され得るとともに風切りがなされる
自動車、船舶、航空機等の輸送手段のバンパその他の部
品上の塗装した表面に炭素または炭素を主成分とする保
護用被膜、或いは窒化珪素等の無機物からなる被膜で覆
ったものである。そして耐摩耗性を向上させ、はこりの
付着を防ぎ、静電気の発生を防いだものである。
本発明はかかる薄膜として、可視領域で透光性を有する
とともに、硬度が十分な炭素または炭素を主成分とする
被膜、或いは窒化珪素等の無機物からなる被膜を摩耗防
止用保護膜とぜんとしたものである。特にこの保護膜は
有機物上に密着させ得るとともに、その電気的固有抵抗
として1×107〜5X10I3Ωcmを有せしめて、
静電気の発生を防ぐとともに、表面に平滑性を有せしめ
、はこりの付着を防がんとしたものである。
本発明はかかるシャーシ、ボディーまたはその部品にプ
ラズマCVD法で炭素膜または炭素を主成分とする被膜
、或いは無機物からなる被膜を形成せんとしたものであ
る。
〔従来の技術〕
一般にプラズマCVD法においては、平坦面を有する基
板上に平面状に成膜する方法が工業的に有効であるとさ
れている。さらに、プラズマCVD法でありながら、ス
パッタ効果を伴わせつつ成膜させる方法も知られている
。その代表例である炭素膜のコーティングに関しては、
本発明人の出願になる特許願「炭素被膜を有する複合体
およびその作製方法J (特願昭56−146936 
 昭和56年9月17日出願)が知られている。しかし
、これらは平行平板型の一方の電極(カソード側)に基
板を配設し、セルフバイアスを用いて平坦面の上面に炭
素膜を成膜する方法である。
〔従来の技術の間頴点〕
しかし、かかるスパッタ効果を伴わせつつ成膜させる従
来例は、シャーシ、ボディーまたは部品、特に自動車ま
たはオートバイ等の凹凸を有する基体上または自動車の
シャーシ、ボディー等の大型基体上に膜を作ることがで
きない。このため、大容量空間で一度に膜を形成する方
法が求められていた。本発明はかかる目的のためになさ
れたものである。
〔問題を解決すべき手段〕
本発明は、風雨に曝され得るとともに、風切りがなされ
る自動車、船舶、航空機等のシャーシボディー、バンバ
その他の部品上に有機物の塗装をせしめ、この塗装面の
保護膜として、炭素または炭素を主成分とする被膜、特
に弗素の如きハロゲン元素を含有する炭素を主成分とす
る被膜を設けたものである。この被膜は、はこりを伴う
風切りにより発生じやすい静電気の発生を防ぎ、ひいて
はほこりの付着及びほこりによる塗装面の摩耗による「
にごり」を防ぎ、常に塗装初めの鮮やかな面を保存せし
めたものである。特に、ハロゲン元素を含有する炭素を
主成分とする被膜は排水性を有するため、特に汚れ防止
にも役立つ。
また本発明においては、かかる目的の保護被膜として、
固有抵抗が1×107〜5×10′″Ωcmと比較的低
い値の抵抗値を有するプラズマ重合膜を有機物上に密着
せしめ得ることの発見に基づく。この低抵抗膜を塗装面
上に作製することにより、さらに静電気を防止し、はこ
りの付着、ひいてはほこりによる塗装面の摩耗を防ぐこ
とができる。
本発明は、かかるプラズマ重合即ちプラズマCVD法と
して、反応空間の一端側および他端側に互いに離間して
一対の電極を配設する。この基体は導体または導体表面
を有し、その上に有機物の塗装を有するため、交流バイ
アスを必要とすると同時に、直流バイアスを重畳させた
。そして反応性気体のプラズマ化のため、一対の電極間
に第1の交番電圧を印加する。このそれぞれの電極には
、接地に対しその高周波電圧が互いに位相が180゜ま
たは0°異なった電圧をそれぞれの高周波電源より印加
し、互いに対称または同相の交番電圧を印加する。そし
て結果として合わせて実質的に1つの交番電圧として枠
構造内に印加し、高周波プラズマを誘起させる。さらに
そのそれぞれの高周波電源の他端を接地せしめ、ここと
被形成面を有する基体または基体ホルダとの間に他の第
2の交番電圧を自己直流バイアスを発生させるためのキ
ャパシタを介して印加する。この基体ホルダ(単にホル
ダともいう)または基体を第3の電極として作用せしめ
、この基体上に交流バイアスを印加することによりスパ
ッタ効果を伴わせつつ薄膜を形成せんとしたものである
そして第1の交番電圧を1〜50MHzのプラズマグロ
ー放電の生じやすい周波数とし、第2の交番電圧を1Q
IIz〜500Ktlzの反応性気体に運動エネルギを
加えやすい周波数として印加する。さらにこの第2の交
番電圧の一方と第1の交番電圧発生用のそれぞれのマツ
チングコイルの他端とは、ともに接地レベルにあり、結
果として、第2の交番電圧の出力側には負の直流の自己
バイアスが重畳して印加される。すると第1の交番電圧
により、プラズマ活性化した気体を自己バイアスにより
基体上に加速し、基体上での不要のチャージアップした
電荷を交流の第2の電圧により除去する。かくして被形
成面が絶縁性を有する有機物を有する塗装がなされても
、その表面にも被膜形成を行い得るようにしたものであ
る。
この薄膜の形成の1例として、C2F6. C3Fll
、CF4C11□F2等の弗化炭素の如き炭素弗化物気
体を導入し、これと11□との混合気体とのプラズマ化
により、またはこれらとCZ II 4と炭化水素化物
との混合気体のプラズマ化による活性水素によって脱弗
素化を付加し分解せしめることにより、或いはエチレン
(czon) 、メタン(CL) 、アセチレン(C2
!1りのような炭化水素気体またはこれと弗化窒素の混
合気体またはCtFb、 CJa、CFn、 CHzF
z等の弗化炭素の如き炭素弗化物気体を導入し、分解す
ることによりSP3軌道を有するダイヤモンドと類似の
C−C結合をつくり、比抵抗(固有抵抗)IXIO’〜
5×1013ΩcI++代表的には1×108〜5×1
011Ωcmを有するとともに、光学的エネルギバンド
巾(Egという)が1.OeV以上、好ましくは1.5
〜5.5eVを有する可視領域で透光性のダイヤモンド
と類似の特性を有する炭素または炭素を主成分とする被
膜を、特に弗素またはハロゲン元素を含有する炭素を主
成分(副成分の主たるものは水素、弗素、窒素である)
とする被膜を形成した。
または、5izHa等の珪化物気体とNH,等の窒化物
気体と必要によりアルゴンとの混合気体とをプラズマ化
することによって、赤外線吸収スペクトルで864cm
 −’に吸収ピークを有する窒化珪素膜を作製できる。
本発明を用いた塗装面は、ポリエステル樹脂、アルキド
樹脂、オイルフリーアルキド樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、アミノ樹脂が用いられる。特に自
動車ライン用にはアクリルラッカー、アクリルメラミン
、ブロックアクリルウレタンの有機溶融型の塗料を用い
た塗装面とした。
本発明方法での成膜に際し、弗素の如きハロゲン元素と
窒素とを、プラズマCVO中に炭化物気体に加えて同時
に混入させて、厚さ方向に均一な濃度勾配を設けた炭素
を主成分とする被膜または添加物の有無を制御した多層
の複合膜を作ってもよい。
また、本発明においては炭素または炭素を主成分とする
被膜と、無機物からなる被膜とを多層構造にしても良い
。特に、基体上に炭素を主成分とする被膜を作製した後
、窒化珪素膜を該炭素を主成分とする被膜上に作製して
多層構造を形成することにより、密着性がさらに向上し
、かつ耐水性が上昇した。
本発明において無機物よりなる被膜とは、5iJn。
5ILNy、StC,Al z03.Zr(lz、 5
10z等を含んでいる。
以下に図面に従って本発明の作製方法を記す。
「実施例1」 第2図は、自動車のシャーシ等の導体の下地を有する基
体上に薄膜形成方法を実施するためのプラズマCVD装
置の概要を示す。
図面において、プラズマCVD装置の反応容器(7)は
ロード/アンロード用予備室(7”)とゲート弁(9)
で仕切られている。ガス系(30)において、キャリア
ガスであるアルゴンを(31)より、反応性気体である
炭化水素気体、例えばメタン、エチレンを(32)より
、添加物気体である弗化窒素を(33)より、反応容器
のエツチング用気体である酸素を(34)より、バルブ
(28)、流量計(29)をへて反応系(50)中にノ
ズル(25)より導入する。エチレンと弗化窒素とを導
入すると、窒素と弗素が添加されたダイヤモンド状炭素
膜(DLCともいうが、添加物が添加されたDLCを含
めて本発明は炭素または炭素を主成分とする被膜という
)が成膜できる。
これと同一成分の被膜を作るため、CZF&+C3Fl
lを(32)より、またC211□またはH2を(33
)より、 Nlhを(34)より導入して形成してもよ
い。
反応系(50)では、第2図に示す如く、枠構造体(2
)(電極側よりみて四角形の枠構造を有する)を有し、
この上方および下方の開口部には、この開口部を覆うよ
うにフード(8)、(8’)を有する。 このフード(
8) 、 (8’ )に配設された一対の同一形状を有
する第1および第2の電極(3) 、 (3”)をアル
ミニウムの金属メツシュで構成せしめる。反応性気体は
ノズル(25)より下方向に放出される。第3の電極は
自動車等のシャーシ、バンバ、その他の部品の下地導体
とし、直流的には塗装面が絶縁材料であるが、ここに第
2の交番電圧を加え、交流的には実質的に導体化してバ
イアスを印加した。このシャーシまたは部品からなる基
体(1)上の塗装面である被形成面(1゛)を一対の電
極(3)、(3’)で生成されるプラズマ中に保持させ
て配設した。基体(1)は有機物の塗装面である被形成
面(1°)を有し、第2の交番電圧と負の直流バイアス
が同時に印加された101(z〜500KHzの交番電
圧が印加されている。第1の高周波の交番電圧によりグ
ロー放電のプラズマ化した反応性気体は、反応空間(6
0)で均一に分散し、このプラズマを(2) 、 (8
) 、 (8°)で取り囲むようにし、この外側の外部
空間(6)にはプラズマ状態で放出しないようにして反
応容器内壁に付着しないようにした。また反応空間での
プラズマ電位を均質にした。
さらにプラズマ反応空間での電位分布をより等しくさせ
るため、電源系(40)には二種類の周波数の交番電圧
が印加できるようになっている。第1の交番電圧は1〜
100Mtlz例えば13.56Mflzの高周波であ
り、一対をなす2つの電源(15−1) 、 (15−
2)よりマツチングトランス(16−1) 、 (16
−2)に至る。このマツチングトランスでの位相は位相
調整器により調整し、互いに180 ”またはOoずれ
て供給できるようにしている。そして対称型または同相
型の出力を存し、トランスの一端(4)及び他端(4゛
)は一対の第1および第2の電極(3) 、 (3″)
にそれぞれ連結されている。また、トランスの出力側中
点(5)は接地レベルに保持され、第2の1011z〜
500KHz例えば50にHzの交番電圧(17)が印
加されている。その出力は基体(1)またはそれらに電
気的に連結するホルダ(2)の第3の電極に連結されて
いる。
かくして反応空間にプラズマ(60)が発生する。
排気系(20)は、圧力調整バルブ(21)、ターボ分
子ポンプ(22) 、  ロータリーポンプ(23)を
経て不要気体を排気する。
これらの反応性気体は、反応空間(60)で0.001
〜1.Qtorr例えば0.05torrとし、この枠
構造体(29)は自動車のシャーシ、オートバイのバン
バ等の有機物の塗装面とした。
かかる空間において、13.56M)Izの周波数の5
〜50KW (単位面積あたり0.3〜3W/cm2)
例えばIKW(単位面積あたり0.6W/cm”の高エ
ネルギ)の第1の高周波電圧を加える。さらに第2の交
番電圧による交流バイアスの印加により、被形成面上に
は200〜−600V(例えばその出力は5KW)の負
の自己バイアス電圧が印加されており、この負の自己バ
イアス電圧により加速された反応性気体を基体上にスパ
ッタしつつ成膜し、かつ緻密な膜とすることができた。
もちろん、この四角形(直方体)の枠構造体の高さを設
計上の必要に応じて2〜10mとしてもよい。また第1
の交番電圧も上下間ではなく、図面を装置の上方より示
した如く、前後間に配設して加えてもよい。
反応性気体は、例えばC,F6とC,H4との混合気体
或いはエチレンと弗化窒素との混合気体とした。
その割合はCzFb/CzHa或いはNF3/C2H4
−1/4〜4/1とし、代表的にはl/1である。この
割合を可変することにより、透過率及び比抵抗を制御す
ることができる。基体の温度は〜150°C1代表的に
は室温に保持させる。かくして被形成面上は比抵抗1×
107〜5X101ffΩcmを有し、有機樹脂上にも
密着させて成膜させる。可視光に対し、透光性のアモル
ファス構造または結晶構造を有する弗素または弗素と窒
素とが添加された炭素または炭素を主成分とする被膜を
0.1〜8μm例えば0.5μm(平面部)、1〜3μ
m(凸部)に生成させた。成膜速度は100〜1000
人/分を有していた。
かくして基体であるシャーシ、バンバ、その他の部品上
の有機物の塗装面上に炭素を主成分とする被膜、特に炭
素中に水素を30原子%以下含有するとともに、0.3
〜3原子χ弗素の如きハロゲン元素が混入し、また0、
3〜10原子%の窒素を混入させた炭素を形成させるこ
とができた。有機物上に100〜2000人の厚さにエ
チレンのみによる第1の炭素を設け、さらにその上に弗
素の如きハロゲン元素が添加された炭素を主成分とする
被膜をも形成させることができた。
[実施例2] この実施例は実施例1で用いた装置により、第1図に示
す如く、自動車のシャーシ、ボディーおよびその要部上
に炭素を主成分とする膜を作製した例である。第1図(
A)において、自動車のボディーの断面図を示す。その
要部の拡大図を第1図(B) 、 (C)に示す。第1
図(A) 、 (B) 、 (C)において、自動車の
ボディーは導体のスチールの母材(下地材) (42)
よりなり、その上に下地の錆どめ処理(43)を有する
。この上面にユーザの要求にあった有機物の塗装(44
)がなされる。例えば着色されたアクリル樹脂が設けら
れている。その被形成面(1”)を有する基体(1)上
に炭素または炭素を主成分とする耐摩耗性の保護膜(4
5)を0.1〜8μmの厚さに設けた。
本発明において、特にこの炭素または弗素が添加された
炭素を主成分とする被膜は静電気の発生によるゴミの付
着を防ぐため、その比抵抗は1×107〜5×10′3
Ωcmの範囲、特に好ましくは1×10’〜1×101
ΩC11lの範囲とした。
第1図(C)はボディー等の凸部である。ここはプラズ
マCVD等においてバイアス電界が集中するため、成膜
速度が速く、(45”)に示す如く、平坦面と比べてよ
り厚く形成することができた。この凸部は実使用におい
て、風切りが強く、また物型のほこりが衝突しやす(、
結果として摩耗しやすいため、より厚いことはきわめて
優れたものである。
〔実施例3〕 第2図に示す装置を用いて自動車のボディーに窒化珪素
を形成した場合について示す。
第2図において、プラズマCVD装置の反応容器(7)
はロード/アンロード用予備室(7″)とゲート弁(9
)で仕切られている。ガス系(30)において、キャリ
アガスであるアルゴンを(31)より、反応性気体であ
る珪素化物気体、例えばS i 2 tl 6を(32
)より、窒化物気体であるNH3を(33)より、反応
容器のエツチング用気体であるNF3を(34)より、
バルブ(28)、流量計(29)をへて反応系(50)
中にノズル(25)より導入する。反応空間(60)を
lXl0−’〜IX IF ’Torrに真空引きを行
った後、5izl167N)It=175になるように
反応空間中に反応性気体を導入する。そして実施例1と
同様に電極に交番電界を印加することによりプラズマを
形成させる。この時の圧力は0.05Torrであった
こうして赤外線スペクトルが864cm−’の5i−N
結合のピークを有し、屈折率が2.0の窒化珪素膜を自
動車のボディーに形成することができた。
本実施例では、炭素を主成分とする被膜ではなく、窒化
珪素被膜を自動車のボディーに作製することにより保護
膜として機能させるものである。
そのため、より硬い薄膜を作製するために、薄膜形成時
に基体を250’C〜350″C程度に加熱することも
有効である。
〔効果〕
本発明は水はけのよい(排水性の)弗素の如きハロゲン
元素が添加されたビッカース硬度600〜3000Kg
/cm”の炭素を主成分とする被膜を、またはその下地
材としてビッカース硬度が1000〜7000Kg/c
m”の炭素 (水素も添加されている)の多層膜を有機
物上に密着させてコートした。その結果、風雨に曝され
またほこりを伴う風切りの多い凸部により厚く耐摩耗性
膜として形成することができた。
また窒化珪素等の無機物よりなる薄膜も耐摩耗性膜とし
て有効である。
これまでの自動車等の塗装表面での鮮やかさをさらに伸
ばし、2〜3年すると「濁ってくる」色調を防ぐことが
できた。
本発明方法において、形成される被膜の例としてDLC
(ダイヤモンド状炭素)を示した。
以上の説明より明らかな如く、本発明は有機樹脂または
これらの多層膜をコーティングして設けたものである。
この複合体は、他の多くの実施例にみられる如く、その
応用ははかりしれないものであり、特にこの炭素が15
0°C以下の低温で形成でき、このため下地の塗装面の
有機物の変成による色調も変わらず、その硬度また基体
に対する密着性がきわめて優れているのが特徴である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のシャーシ等への炭素膜または炭素を主
成分とした保護膜をコートした例およびその要部を示す
。 第2図は本発明のプラズマCVD装置の製造装置の概要
を示す。 f 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、有機物を有する塗装がなされた導体または導体表面
    を有するシャーシ、ボディーまたは部品の前記有機物上
    に弗素の如きハロゲン元素が添加された透光性の炭素ま
    たは炭素を主成分とする被膜が設けられたことを特徴と
    するシャーシ、ボディーまたは部品。 2、特許請求の範囲第1項において、炭素または炭素を
    主成分とする被膜は、排水性を有することを特徴とする
    シャーシ、ボディーまたは部品。 3、導体または導体表面を有するシャーシ、ボディーま
    たは部品であって、有機物を有する塗装がなされた前記
    塗装表面に1×10^7〜5×10^1^3Ωcmの固
    有抵抗を有する炭素膜または炭素を主成分とする膜が設
    けられたことを特徴とするシャーシ、ボディーまたは部
    品。 4、特許請求の範囲第3項において、シャーシ、ボディ
    ーまたは部品は風雨に曝され得る塗装面よりなる自動車
    、オートバイ、自転車、船舶、航空機を構成するもので
    あることを特徴とするシャーシ、ボディーまたは部品。 5、特許請求の範囲第3項において、塗装表面は1×1
    0^1^5Ωcm以上の固有抵抗を有する絶縁性であり
    、前記塗装表面上に透光性炭素膜が設けられたことを特
    徴とするシャーシ、ボディーまたは部品。 6、減圧下に導体または導体表面を有するシャーシ、ボ
    ディーまたは部品を保持して、ここに交流と直流とのバ
    イアスを印加するとともに、前記減圧下の雰囲気中に炭
    素化物気体を導入して、プラズマ化せしめることにより
    、前記シャーシ、ボディーまたは部品上に炭素または炭
    素を主成分とする被膜を形成することを特徴とするシャ
    ーシ、ボディーまたは部品の作製方法。 7、特許請求の範囲第6項において、凹凸を有するシャ
    ーシ、ボディーまたは部品の凸部を凹部に比べてバイア
    ス電界を集中させることにより、より厚く炭素または炭
    素を主成分とする被膜を形成することを特徴とする炭素
    膜で覆われたシャーシ、ボディーまたは部品の作製方法
    。 8、有機物を有する塗装がなされた導体または導体表面
    を有するシャーシ、ボディーまたは部品の前記有機物上
    に、無機物からなる被膜が設けられたことを特徴とする
    シャーシ、ボディーまたは部品。
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