JPH02171751A - マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 パターンからの反射光が露光に供されるマスクに関し、 必要とされるマスクの使用枚数の削減を図ることを可能
とすることを目的とし、 基板の片方の面に、それよりの反射光が露光に供される
一のパターンを有し、上記［１の反対側の面に、上記−
のパターンとはパターンを異にし、それよりの反射光が
露光に供される別のパターンを有して構成する。

（産業上の利用分野〕 本発明はパターンからの反射光が露光に供されるマスク
に関する。

〔従来の技術〕

マスクの露光方法の一つとしてパターンからの反射光を
利用した方法がある。

この露光方法に使用するマスクは、基板の片方の面にの
みパターンを有する構成である。

（発明が解決しようとする課題） このため、パターン毎にマスクが必要となり、準備づる
マスクの枚数が多くなってしまう。

本発明は必要とされるマスクの使用枚数の削減を図るこ
とを可能とするマスクを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、基板の片方の面に、それよりの反射光が露光
に供される−のパターンを有し、上記基板の反対側の面
に、上記−のパターンとはパターンを異にし、それより
の反射光が露光に供される別のパターンを有してなる構
成としたものである。

〔作用〕

同一のマスクを使用し、表裏反転することによって、別
々のパターンを感光対象物に転写することが可能となる
。

〔実施例〕

第３図は本発明の第１実施例のマスク１を示す。

２はマスク基板であり、片方の面２ａに、第４図（Ａ）
に示すパターン３を有し、反対側の面２ｂに、第４図（
Ｂ）に示すパターン４を有する構成である。

パターン３とパターン４とは異なるものである。

マスク基板２は、厚さｔが２＃程度の一般的に使用され
ているものである。露光は後述するように反射光を利用
して行うものであるため、マスク基板２の透過特性は問
題とはならず、内部に透過率が異なる脈理、気胞が存在
していてもよい。

第１図及び第２図は上記マスク１を使用した露光の状態
を示す。

第１図は面２ａのパターン３を露光するときの状態を示
し、第２図は面２ｂのパターン４を露光するときの状態
を示す。

第１図及び第２図中、１０は光源、１１はハーフミラ−
１１２はマスクホルダ、１３はレンズ系である。１４は
ウェハ１５に感光材料膜１６が形成された感光対象物で
ある。

第１図においては、マスク１はパターン３を上側とした
向きでマスクボルダ１２にセットしである。

レンズ系１３は、マスク１のうちの上側の而２ａに焦点
が合うように調整しである。

光源１０より発せられ、ハーフミラ−１１を透過し、マ
スク１に到った光線１７のうち、パターン３を照射する
光線１７ａは、パターン３で良好に反射して戻り、ハー
フミラ−１１で反射して符号１７ａ！で示すように感光
対像物１４を照射し、パターン３が感光対象物１４上に
転写される。

マスク１のうちパターン３の無い部分を照射した光線１
７ｂは基板２により吸収され、反射は殆ど無い。

これにより感光対象物１４にはパターン３が露光される
。

また基板２による光の吸収が少ない場合には、基板２を
透過して第１図中下面のパターン４に到った光線は、パ
ターン４の基板２側の面で反射され、ハーフミラ−１１
側に戻り、ここで反射して感光対象物１４に向かうこと
になる。しかし、パターン４は合焦位δよりずれており
、パターン４における反射光の強さは弱く、感光材料膜
１６上での強度は、感光材料膜１６を感光させるに必要
な強度よりも十分に弱い。このため、この光によっては
、感光材料膜１６の感光は起さｆ１パターン４は転写さ
れない。

このように、パターン４は転写されないのであるから、
基板２の内部に脈理があったり、気胞が存在したとして
も問題とはならない。

パターン４を転写する場合にも、上記のマスク１を使用
する。

この場合には、第２図に示すように、パターン４を上側
とした向きでマスク１をマスクボルダ１２にセットする
。

レンズ系１３は、マスク１のうち」−側の面２ｂに焦点
が合うように調整しである。

光源１０よりの光線１７のうち、パターン４を照射する
光線１７ｃはパターン４で良好に反射し、感光対象物１
４Ａを照射する。

パターン４の無い部分を照射した光線１７ｄは基板２に
殆ど吸収され、また下面のパターン３は合焦位置から外
れており、パターン３からの反射光の強さは弱い。この
ため、パターン４以外の部分からの反射光によっては感
光対象物１４Ａは感光されない。

これにより、感光対象物１４Ａには、パターン４だけが
転写される。

この場合にも、基板２の内部の脈理、気胞は前記と同様
に問題とはならない。

このように、上記のマスク１は、これ−枚で、従来の二
枚のマスクと同じ機能を有することになり、必要とされ
るマスクの枚数は半減し、マスクのための費用を削減す
ることが出来る。

次に本発明のマスクの別の実施例について、第５図乃至
第７図を参照して説明する。各図中、第Ｎに示す構成部
分と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する
。共に裏面パターンよりの反射を抑制する構成としたも
のである。

第５図は本発明の第２実施例のマスク２０を示す。

２１．２２は、酸化クロム層であり、パターン３．４の
下地膜としてマスク基板２上に形成しである。この酸化
クロム層２１．２２は反射率が低い。

パターン３を転写する場合には、酸化クロム層２２が反
射光１７ｅを弱める。パターン４を転写する場合には、
酸化クロム層２１が反射光１７「を弱める。

第６図は本発明の第３実施例のマスク３０を示す。

このマスク３０は、符号３１で示すマスク基板３１を、
着色ガラス等の低透過率の材質製としたものである。

パターン３を転写する場合には、パターン４の裏面で反
射してマスク基板３１より出る反射光１７ａは極く弱い
ものとなる。また、パターン４を転写する場合には、パ
ターン３の裏面で反射してマスク基板３１より出る反射
光１７ｈも掻く弱いものとなる。

第７図は本発明の第４実施例のマスク４０を示す。

このマスク４０は、マスク基板２の面２ａ。

２ｂに、パターン３，４を除いて、光の透過率の低いフ
ィルタ膜４１．４２が形成しである。

パターン３を転写する場合の、パターン４の裏面で反射
してフィルタ１！４１を透過して出る反射光１７１．及
びパターン４を転写する場合の、パターン３の裏面で反
射してフィルタ膜４２を透過して出る反射光１７ｊは極
く弱いものとなる。

第５図、第６図、第７図のマスク２０．３０゜４０を使
用すれば、感光対象物１４．１４Ａ上における転写しよ
うとするパターンからの反射光の強度と上記パターン以
外の部分からの反射光の強度との差が大となり、その万
感光材料に許容される感光特性の幅が広くなり、感光材
料の選定が容易となる。

なお、本発明はマスクに限らず、レチクルにも同じく適
用することが出来、請求項中の「マスク」はレチクルも
包含するものである。

〔発明の効果〕

以上説明した様に、本発明によれば、−枚のマスクで従
来のマスクの二枚分の機能を有するものであり、ＩＣ製
造に必要とされるマスクの数量を従来の半分に削減する
ことが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例のマスクの−の使用状態を
示す図、 第２図は本発明の第１実施例のマスクの別の使用状態を
示す図、 第３図は本発明の第１実施例のマスクを示す斜視図、 第４図は第３図のマスクの表面、裏面のパターンを示す
図、 第５図は本発明の第２実施例のマスクを示す図、第６図
は本発明の第３実施例のマスクを示す図、第７図は本発
明の第４実施例のマスクを示す図である。 図において、 １．２０．３０．４０はマスク、 ２はマスク基板、 ２ａは片方の面、 ２ｂは反対側の面、 ３．４はパターン、 １０は光源、 １１はハーフミラ− １２はマスクホルダ、 １３はレンズ系、 １４は感光対象物 １７ａ、１７ｃはパターンからの反射光を示す。 第２図 本た胡の茅４大方し仲１のマス２の−の４尺坪Ｕ入掲玄
ホす２第１図 １マス２ 参俗蛸ハ竿１大施タ１−マス２【ホオ図第３図 （Ａ）　　　　　　　　　　　（Ｂ） ＄−ｓ囮のマスクの表面、ＩＥｆｌのぺ？−ンＳ示す図
第４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板（２）の片方の面（２ａ）に、それよりの反射光（
   １７ａ）が露光に供される一のパターン（３）を有し、 上記基板（２）の反対側の面（２ｂ）に、上記一のパタ
   ーン（３）とはパターンを異にし、それよりの反射光（
   １７ｃ）が露光に供される別のパターン（４）を有して
   なる構成のマスク。