JPH0216967A - 製麹の方法 - Google Patents
製麹の方法Info
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- JPH0216967A JPH0216967A JP63165891A JP16589188A JPH0216967A JP H0216967 A JPH0216967 A JP H0216967A JP 63165891 A JP63165891 A JP 63165891A JP 16589188 A JP16589188 A JP 16589188A JP H0216967 A JPH0216967 A JP H0216967A
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Landscapes
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
- Alcoholic Beverages (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野J
この発明は醸造工業或いは醜行工業の製麹工程における
、製麹の方法に関するものである。
、製麹の方法に関するものである。
し従来の技術〕
清酒醸造工場の場合を例として掲げると、製麹装置は第
5図、第6図に示すように、培養床a上の上室すの空気
を製麹に適した温。
5図、第6図に示すように、培養床a上の上室すの空気
を製麹に適した温。
湿度に調整するため、この上室りに設けた温、湿度セン
サCの感知したところにしたがって室内空気循環ファン
d、除湿り−ラe2再熱ヒータf等の作動によって、設
定条件にコントロールされて、製麹に最適な室内環境を
作り上げ、品温制御は調整された−に室すの空気を、麹
基質gに通気して製麹を行なっていた。
サCの感知したところにしたがって室内空気循環ファン
d、除湿り−ラe2再熱ヒータf等の作動によって、設
定条件にコントロールされて、製麹に最適な室内環境を
作り上げ、品温制御は調整された−に室すの空気を、麹
基質gに通気して製麹を行なっていた。
〔発明が解決しようとする問題点J
製麹最盛期に於ける品温制御は約20分間隔で約3分間
上室すの空気を基質に通気して品温の制御が行なわJt
でいたが、通気直後の空気は高温、多湿のため設定条件
に調整された上室すの空気の変化を与え、瞬間的に温度
、ン 湿度が高まる現象を呈していた。
上室すの空気を基質に通気して品温の制御が行なわJt
でいたが、通気直後の空気は高温、多湿のため設定条件
に調整された上室すの空気の変化を与え、瞬間的に温度
、ン 湿度が高まる現象を呈していた。
しかしこのような変化を、室内に設けた温、湿度センサ
Cが感知し、室内空気循環ファンd、除湿用クーラe、
再熱ヒータfが作動し、除湿の作動が開始されるが、こ
れらの機器性能はあらかじめ室内空気の温、湿度の安定
化を計る性能を有するものであって、急激な変化に対応
しき、ltす、製麹に悪い影響を与えていた、 (問題点を解決する為の手段」 この発明は前述のような瞬間的な温度、湿度の変化を、
可及的に防止するため、培養室を培養床によって上室と
王室に区切り、上室内に配置した温、湿度感知手段を介
して、この室内の温、湿度を製麹に最適な室内環境に設
定する温、湿度調整手段を設け、調整された空気をもっ
て麹基質の品温を調整する送風手段を、王室と王室との
間に設けて、製麹を行なうものにおいて、麹基質の品温
上昇に伴ない駆動される送風手段の作動に際し、これと
連動して前記温、湿度調整手段を、前記温、湿度感知手
段によって、平常の作動状態を越えた急激な作動状態に
移行させ、前記送風手段の作動に伴なう、麹基質からの
急激な高温多湿の導入に対応させるようにしたことを特
徴とする製麹の方法を提案するものである。
Cが感知し、室内空気循環ファンd、除湿用クーラe、
再熱ヒータfが作動し、除湿の作動が開始されるが、こ
れらの機器性能はあらかじめ室内空気の温、湿度の安定
化を計る性能を有するものであって、急激な変化に対応
しき、ltす、製麹に悪い影響を与えていた、 (問題点を解決する為の手段」 この発明は前述のような瞬間的な温度、湿度の変化を、
可及的に防止するため、培養室を培養床によって上室と
王室に区切り、上室内に配置した温、湿度感知手段を介
して、この室内の温、湿度を製麹に最適な室内環境に設
定する温、湿度調整手段を設け、調整された空気をもっ
て麹基質の品温を調整する送風手段を、王室と王室との
間に設けて、製麹を行なうものにおいて、麹基質の品温
上昇に伴ない駆動される送風手段の作動に際し、これと
連動して前記温、湿度調整手段を、前記温、湿度感知手
段によって、平常の作動状態を越えた急激な作動状態に
移行させ、前記送風手段の作動に伴なう、麹基質からの
急激な高温多湿の導入に対応させるようにしたことを特
徴とする製麹の方法を提案するものである。
〔作用]
上記のような方法の実施に当って、上室の調整空気を麹
基質へ通気して品温制御を行なうファンが作動した時は
1wi環用環子ファン風量を高め、除湿用クーラへの冷
水量の供給量を増し、再熱ヒータの発熱景を高めた温。
基質へ通気して品温制御を行なうファンが作動した時は
1wi環用環子ファン風量を高め、除湿用クーラへの冷
水量の供給量を増し、再熱ヒータの発熱景を高めた温。
湿度調整手段と連動させることによって、!。
湿度の変化の縮少化を計ったものである。このようにし
て調整空気の通気によって、麹基質の品温が設定温度に
補正され1品温制御ファンが停止すると、連動されてい
る温、湿度調整手段は元の平常の機能に復帰し、王室の
空気の温、湿度を調整する。
て調整空気の通気によって、麹基質の品温が設定温度に
補正され1品温制御ファンが停止すると、連動されてい
る温、湿度調整手段は元の平常の機能に復帰し、王室の
空気の温、湿度を調整する。
次にこの発明の詳絹を実施例によって説明する。
第1図はこの発明の整置面図、第2図は横断面図で、第
1図、第2図とも1作動を説明するブロック図となって
いる。第3図は従来法における湿度1品温、室温の変化
、第4図はこの発明による変化の状態を示すグラフであ
る。
1図、第2図とも1作動を説明するブロック図となって
いる。第3図は従来法における湿度1品温、室温の変化
、第4図はこの発明による変化の状態を示すグラフであ
る。
第1図、第2図において、■は断熱を施こされた培養機
本体、2は回転式の培養床で。
本体、2は回転式の培養床で。
培養室内を上、下に分割し、上室を3、王室を4とする
。この上室3には循環ダクト5を設け、その経路内に循
環用ファン6、除湿クーラ7、水滴除去装置8.再熱ヒ
ータ9を設ける。一方、上室3.下室4の間をダクトI
Oで連結し、そのダクト10の経路内に一方向或いは正
逆方向に送風できるファン11を設ける。
。この上室3には循環ダクト5を設け、その経路内に循
環用ファン6、除湿クーラ7、水滴除去装置8.再熱ヒ
ータ9を設ける。一方、上室3.下室4の間をダクトI
Oで連結し、そのダクト10の経路内に一方向或いは正
逆方向に送風できるファン11を設ける。
12は温度、湿度のセンサで、制御盤13と連結され、
この制御盤13を介して設定条件に基づき、循環用ファ
ン6、除湿用クーラフに冷却水を供給する電磁弁14,
15.再熱ヒータ9を作動させる。16は麹法IM17
に挿入されたセンサで、制御装置1Bに連結され、その
出力は、導!119を介して制御装V!l13に、導a
20を介して電磁開閉器21に印加するようになってい
る。
この制御盤13を介して設定条件に基づき、循環用ファ
ン6、除湿用クーラフに冷却水を供給する電磁弁14,
15.再熱ヒータ9を作動させる。16は麹法IM17
に挿入されたセンサで、制御装置1Bに連結され、その
出力は、導!119を介して制御装V!l13に、導a
20を介して電磁開閉器21に印加するようになってい
る。
なお前記電磁弁14は冷却水供給を増大させる電磁弁で
、電磁弁15は平常時における冷却水供給電磁弁である
。
、電磁弁15は平常時における冷却水供給電磁弁である
。
麹菌の繁殖中、麹基質17からは発熱にともない、水分
の蒸発が常に行なわれ、上室3内の空気の温度、湿度は
逐次上昇する。
の蒸発が常に行なわれ、上室3内の空気の温度、湿度は
逐次上昇する。
この場合、温度、湿度が設定値以上になると、循環用フ
ァン6が作動し、上室3内の一部の高湿度空気は循環ダ
クト5に導入され。
ァン6が作動し、上室3内の一部の高湿度空気は循環ダ
クト5に導入され。
除湿クーラ7によって冷却され、一部は結露して水滴除
去装置8を通過する際に除去され。
去装置8を通過する際に除去され。
減湿空気として培養室内に戻される。除湿クーラフの作
用によって風温が設定温度以下となれば、再熱ヒータ9
の作動によって加温される。これらの作動の繰り返えし
によって、上室:3の空気の温度、湿度は常に設定条件
に沿って制御が行なわれろ。また品温制御は上室3と下
室4との間に連結されたダクトIO内に一方向又は正逆
作動するファン11を設け、麹坊質17に挿入された温
度センサ1Gによって、ON、 OFF作動の制御を行
ない、麹基質17の品温が設定温度より上昇すれば、フ
ァン11が作動し、温、湿度の調整された上室:3の空
気を麹気質層に通気して、品温、湿度を制御する。
用によって風温が設定温度以下となれば、再熱ヒータ9
の作動によって加温される。これらの作動の繰り返えし
によって、上室:3の空気の温度、湿度は常に設定条件
に沿って制御が行なわれろ。また品温制御は上室3と下
室4との間に連結されたダクトIO内に一方向又は正逆
作動するファン11を設け、麹坊質17に挿入された温
度センサ1Gによって、ON、 OFF作動の制御を行
ない、麹基質17の品温が設定温度より上昇すれば、フ
ァン11が作動し、温、湿度の調整された上室:3の空
気を麹気質層に通気して、品温、湿度を制御する。
この場合、麹基質I7を通気して上室3に出た空気は、
麹埜質との熱交換のため温度、湿度とも上界する1、こ
の様子を従来の方式による第3図によって説明する。室
温設定温度を33℃とすると、麹基質に通気しない場合
の上京の空気は、グラフAのように設定温度が保たれる
。一方35°Cに設定された品温は、菌の発育とともに
Dのように上昇り、、Eに達し5品温制御を行なうため
ファンを作動して基質に通気を行なう。通気後の空気は
基質との熱交換のため温度は上昇し、B点に達する。こ
の時の室温は42°Cで、通気時間は約3分である。通
気停止後は、温、湿度調整装置の作動によって、温度、
湿度とも降下し5元の設定条件Cに戻る。また品温は、
E点で通気が開止され、降下して下に遠し55通気が停
止するとまた徐々に上昇してゆく。湿度の変化も同じよ
うな経過を辿る。
麹埜質との熱交換のため温度、湿度とも上界する1、こ
の様子を従来の方式による第3図によって説明する。室
温設定温度を33℃とすると、麹基質に通気しない場合
の上京の空気は、グラフAのように設定温度が保たれる
。一方35°Cに設定された品温は、菌の発育とともに
Dのように上昇り、、Eに達し5品温制御を行なうため
ファンを作動して基質に通気を行なう。通気後の空気は
基質との熱交換のため温度は上昇し、B点に達する。こ
の時の室温は42°Cで、通気時間は約3分である。通
気停止後は、温、湿度調整装置の作動によって、温度、
湿度とも降下し5元の設定条件Cに戻る。また品温は、
E点で通気が開止され、降下して下に遠し55通気が停
止するとまた徐々に上昇してゆく。湿度の変化も同じよ
うな経過を辿る。
上述したように2従来の方式においては。
通気による温度、湿度の変化が大きく、製麹に良い影響
を与えなかった。これに対してこの発明による作動状態
を第4図に示す。室温設定温度を33℃とすると、麹法
rgに通気しない場合の−F室の空気はグラフaのよう
に設定温度に保たれる。一方35℃に設定さ九た品温は
、菌の発育と共にdのように上昇し、el;達し、品温
制御のためファンの作動によって、上空の空気を通気す
る。この発明において温度センサ16で感知した情報は
制御装置18に印加され、出力は電磁開閉器21に導l
it、2Qによって伝え、ファン11を作動させると」
tに、導線19によって制御盤13に送られてwi環用
ファンの送風量増加及び除湿クーラ7へ供給する電Fa
フP 14を作動させて、冷却水量の増加を計る。
を与えなかった。これに対してこの発明による作動状態
を第4図に示す。室温設定温度を33℃とすると、麹法
rgに通気しない場合の−F室の空気はグラフaのよう
に設定温度に保たれる。一方35℃に設定さ九た品温は
、菌の発育と共にdのように上昇し、el;達し、品温
制御のためファンの作動によって、上空の空気を通気す
る。この発明において温度センサ16で感知した情報は
制御装置18に印加され、出力は電磁開閉器21に導l
it、2Qによって伝え、ファン11を作動させると」
tに、導線19によって制御盤13に送られてwi環用
ファンの送風量増加及び除湿クーラ7へ供給する電Fa
フP 14を作動させて、冷却水量の増加を計る。
電磁弁15は通常的における冷却水用の弁である。更に
再熱ヒータ9の発熱容量を高めて、温、湿度調整装置の
機能を高め、第3図のB点の温度低下を計る。その結果
第3図のB点、42℃の室温が第4図のb点に示すよう
に35℃となり、設定温度33℃に大巾に近ずけること
ができた。
再熱ヒータ9の発熱容量を高めて、温、湿度調整装置の
機能を高め、第3図のB点の温度低下を計る。その結果
第3図のB点、42℃の室温が第4図のb点に示すよう
に35℃となり、設定温度33℃に大巾に近ずけること
ができた。
これにともなって、湿度の変動も少なく。
従来法で設定湿度が90%の場合、100%迄変動して
いたものが、94%に縮少でき、温度、湿度の変動の少
ない環境下で合理性を有する製麹を行なうことができる
のである。
いたものが、94%に縮少でき、温度、湿度の変動の少
ない環境下で合理性を有する製麹を行なうことができる
のである。
〔発明の効果〕
従来法における通気時の上室における温度。
湿度の変化は、温湿度調整装置によって設定条件に近ず
くまでは、高温の温湿風をそのままファン11で下室4
に送り、麹基質17に通気するため、製麹に悪影響を及
ぼしていた。しかしこの本発明によって1通気時におけ
る上室の温度、湿度の変化は大[11に縮少され、温度
変化が麹気質に及ぼす乾燥作用もなく、第1図、第2図
に示すような製麹装置の機能を充分に発揮させることが
できる有益、有用なものである。
くまでは、高温の温湿風をそのままファン11で下室4
に送り、麹基質17に通気するため、製麹に悪影響を及
ぼしていた。しかしこの本発明によって1通気時におけ
る上室の温度、湿度の変化は大[11に縮少され、温度
変化が麹気質に及ぼす乾燥作用もなく、第1図、第2図
に示すような製麹装置の機能を充分に発揮させることが
できる有益、有用なものである。
第1図はこの発明の整置面図、第2図は横断面図、第3
回は従来法による湿度、品温、室温の変化、第4図はこ
の発明による変化の状態を示すグラフで、第5図は従来
の技術を示す装置面図、第6図はその横断面図である。 なお図において、 2 培養床 3 上室 一1〇− 再熱ヒ タ 手続補正書 (自発) 昭和63年8月11日
回は従来法による湿度、品温、室温の変化、第4図はこ
の発明による変化の状態を示すグラフで、第5図は従来
の技術を示す装置面図、第6図はその横断面図である。 なお図において、 2 培養床 3 上室 一1〇− 再熱ヒ タ 手続補正書 (自発) 昭和63年8月11日
Claims (1)
- 培養室を培養床によつて上室と下室に区切り、上室内に
配置した温、湿度感知手段を介して、この室内の温、湿
度を製麹に最適な室内環境に設定する温、湿度調整手段
を設け、調整された空気をもつて麹基質の品温を調整す
る送風手段を、上室と下室との間に設けて、製麹を行な
うものにおいて、麹基質の品温上昇に伴ない駆動される
送風手段の作動に際し、これと連動して前記温、湿度調
整手段を、前記温、湿度感知手段によつて、平常の作動
状態を越えた急激な作動状態に移行させ、前記送風手段
の作動に伴なう、麹基質からの急激な高温多湿の導入に
対応させるようにしたことを特徴とする製麹の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16589188A JP2785016B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 製麹の方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16589188A JP2785016B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 製麹の方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0216967A true JPH0216967A (ja) | 1990-01-19 |
JP2785016B2 JP2785016B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=15820939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16589188A Expired - Fee Related JP2785016B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 製麹の方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2785016B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06211319A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 梱包作業指示システム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6029469A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光体の製造方法 |
JPS6348500U (ja) * | 1987-07-30 | 1988-04-01 |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP16589188A patent/JP2785016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6029469A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光体の製造方法 |
JPS6348500U (ja) * | 1987-07-30 | 1988-04-01 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06211319A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 梱包作業指示システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2785016B2 (ja) | 1998-08-13 |
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