JPH02164078A - アモルファス太陽電池 - Google Patents

アモルファス太陽電池

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JPH02164078A
JPH02164078A JP63318554A JP31855488A JPH02164078A JP H02164078 A JPH02164078 A JP H02164078A JP 63318554 A JP63318554 A JP 63318554A JP 31855488 A JP31855488 A JP 31855488A JP H02164078 A JPH02164078 A JP H02164078A
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JP
Japan
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solar cell
transparent conductive
conductive film
type
metal film
Prior art date
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Pending
Application number
JP63318554A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Ito
晴夫 伊藤
Sunao Matsubara
松原 直
Shinichi Muramatsu
信一 村松
Juichi Shimada
嶋田 寿一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02164078A publication Critical patent/JPH02164078A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/545Microcrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光電変換効率が高いアモルファス太陽電池に関
する。
〔従来の技術〕
従来の透光性基板上のアモルファス太陽電池は特開昭6
1−251177号公報に記載のように。
ガラス基板の上に透明電極(酸化錫1層あるいは酸化イ
ンジウム錫/階化錫2暦)を形成し、この上に、Py 
lr n型アモルファスシリコン系材料。
金属電極を順次形成した構造となっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、透明電極のみに基板側の集電の役割を
負わせていたため、該透明電極は高い光透過率と高い導
電度、さらに、この上に形成するアモルファスシリコン
材料との反応が低いと条件を満たす必要があった。しか
し、上記3点を同時に満足する透明電極の形成は難しく
、いずれか、あるいは上記3点を少しずつ不満足としな
ければならないという問題があった。
本発明は、上記問題点を解決し、光電変換効率の高いア
モルファス太陽電池を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、基板側集電電極に金属膜と透
明導電膜の積層、あるいは、金属膜、透明導電膜とp型
あるいはn型半導体膜の積層を用いたものである。
金属膜は1例えば間隔100μm、@4μmのストライ
プ状に形成し、遮光率4%とすることができる。該パタ
ーン形状はストライプに限る必要はなく、クロス状、放
射線状、同心円状など、遮光率が低く、集電時の直列抵
抗損の小さい形状であれば、いずれでもよい。
透明導電膜のシート抵抗を従来の透明電極に比べ高くす
る。従来のものが10Ω/□以下であるのに対し、30
Ω/□以上あるいは200Ω/□以上とすることにより
上記目的は達成される。
また、シート抵抗の低いp型あるいはn型半導体を金属
膜、透明導電膜と積層にすることによっても上記目的は
達成される。低抵抗半導体の使用により透明導電膜の抵
抗を上記以上に高くできる。
〔作用〕
金属膜と透明導電膜の積層電極は、集it1!極として
有効に動作する。金属膜を形成することにより透明導電
膜のシート抵抗を高くし、したがって第1図に示すよう
に光透過率を高くすることができる。すなわち、遮光率
5%程度の金夙1漠の使用は透明導電膜のシート抵抗を
200Ω/□以上にできるため第1図かられかるように
光透過率を95%以上にすることができる。したがって
、金属膜による遮光率5%を差し引いても実質光透過率
は90%以上となる。他方、透明導電膜のみの集電電極
ではシート抵抗10Ω/□以下が必要であるから、光透
過率は80%であり、すなわち。
実質光透過率も80%である。したがって、金属膜の使
用により90%以上と80%の差の10%以上の実質光
透過率向上につながり、太陽電池の短絡電流密度を高く
できる。
透明導電膜のシート抵抗を3oΩ/□以上としても第1
図から光透過率を90%以上にできるため光透過率の向
上は5%以上となる。
また、金属膜と透明導電膜にp型あるいはn型半導体膜
を加えた積層も集電電極として有効に動作する。高導電
半導体膜を使用すれば、透明導電膜のシート抵抗を10
’Ω/□以上と高くでき、光透過率のより−mの向上の
みならず、透明導電膜と半導体膜の反応を抑えることが
でき、太陽電池特性を向上させることができる。また、
短絡電流密度以外に開放電圧1曲線因子も向上する。
〔実施例〕
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1゜ 第2図を用いて説明する。
ガラス基板1の上に0.5μm厚のパターン状Cr電極
2を形成し、この上に膜厚0.2μm。
シート抵抗300Ω/□の酸化錫3を形成した。
次に150人厚0ボロンドープp型水素化アモルファス
シリコンカーバイド4,0.5μmJifのi型水素化
アモルファスシリコン5,300人厚0燐ドープn型水
素化微結晶シリコン6を順次形成した。さらにAQ電極
7を形成し太陽電池とした。
Cr電極は間隔100μm2幅5μmのストライプ状に
形成した。該Cr電極の遮光率は5%であるが、酸化錫
透明導電膜の光透過率が95%であるため従来型酸化錫
透明電極の80%に比べ光透過率が10%向上した。
実施例2゜ 第3図を用いて説明する。
ガラス基板1上に膜厚0.4μm、シート抵抗500Ω
/□の酸化亜鉛31を形成し、さらに0.5μm厚のパ
ターン状Cr電極2を形成した。
次に実施例1と同様にPal、およびn型層、さらにA
fi層を形成し太陽電池とした。酸化亜鉛の光透過率は
酸化インジウム錫(ITO)や酸化錫に比べ若干低いが
、有効光透過率は従来型に比べ7%向上し、従って、太
陽電池の短絡電流密度が向上した。
実施例3゜ 第4図を用いて説明する。
ガラス基板1上に0.5μm厚のパターン状Cr電極2
を形成し、さらに膜厚800人、シート抵抗10Ω/□
の酸化インジウム錫41.膜厚200人、シート抵抗1
000Ω/□の酸化亜鉛42を形成した。次に、膜厚1
50人のn型水素化微結晶シリコンカーバイド43、実
施例1と同じi型層5.n型層6.およびAQ層7を形
成した。光透過率が従来型より10%高いため短絡電流
密度が向上した。また、p型機結晶層の使用により10
%の開放電圧向上も見られた。
〔発明の効果〕
本発明によれば、金属膜と透明導電膜の積層あるいは、
金属膜、透明導電膜とp型あるいはn型半導体の積層を
用いることにより、有効光透過率を高くすることができ
るので、太陽電池の光電変換効率が向上する効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図は酸化錫透明電極のシート抵抗と光透過率の関係
を示す図、第2図は本発明の実施例1を示す縦断面図、
第3図は本発明の実施例2を示す縦断面図、第4図は本
発明の実施例3を示す縦断面図である。 1・・・ガラス基板、2・・・パターン状金属電極、3
・・・酸化錫、4・・・p型水素化アモルファスシリコ
ンカーバイド、5・・・i環水素化アモルファスシリコ
ン、6・・・n型水素化微結晶シリコン、7・・・AQ
電極、31,42・・・酸化亜鉛、41・・・酸化イン
ジウム錫、43・・・n型水素化微結晶シリコン。 2 ノ目 第3図 第2目 尺 第4図 く) °光 4L3: F型層、TLイ知ζ斧占J−ンフン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、透光性基板上のアモルファス太陽電池において、該
    基板側の集電電極が金属膜と透明導電膜の積層であるこ
    とを特徴とするアモルファス太陽電池。 2、透光性基板上のアモルファス太陽電池において該基
    板側の集電部が金属膜、透明導電膜およびp型あるいは
    n型半導体膜の積層であることを特徴とするアモルファ
    ス太陽電池。 3、特許請求の範囲第1項および第2項の透明導電膜の
    シート抵抗が30Ω/□以上であることを特徴とするア
    モルファス太陽電池。 4、特許請求の範囲第1項および第2項の透明導電膜の
    シート抵抗が200Ω/□以上であることを特徴とする
    アモルファス太陽電池。 5、特許請求の範囲第1項ないし第4項におけるアモル
    ファス太陽電池が、アモルファスシリコン、アモルファ
    スシリコン合金、微結晶シリコン、微結晶シリコン合金
    等アモルファスシリコン系材料の積層から成ることを特
    徴とするアモルファス太陽電池。
JP63318554A 1988-12-19 1988-12-19 アモルファス太陽電池 Pending JPH02164078A (ja)

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Cited By (3)

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