JPS612372A - 光起電力装置 - Google Patents

光起電力装置

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JPS612372A
JPS612372A JP59120814A JP12081484A JPS612372A JP S612372 A JPS612372 A JP S612372A JP 59120814 A JP59120814 A JP 59120814A JP 12081484 A JP12081484 A JP 12081484A JP S612372 A JPS612372 A JP S612372A
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JP
Japan
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photovoltaic device
transparent conductive
conductive film
substrate
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Pending
Application number
JP59120814A
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English (en)
Inventor
Tamotsu Hatayama
畑山 保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS612372A publication Critical patent/JPS612372A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E10/547Monocrystalline silicon PV cells
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の6式する技術分野〕 本発明は、p−n接合を持つ結晶半導体から構成される
光起電力装置に関するものである。
〔従来技術とその問題点〕
一般に光起電力装置の受光面側には、入射光を有効に利
用するために反射防止膜が設けられており、前記防止l
l外としてはSin,Sin,やTie,あるいはTa
20,等が用いられている。これらを用いた光起電力装
置の従来例を$ 1 :4に示す。
10はPN接合(15がp形Si基板、l4がリンの熱
拡散等により形成されたn形層)から構成されたS l
 44板であり、16はAJ等から成る裏電極、13は
格子状のAl等から成る表電極、12はSi(入sin
,、Tie,あるいはT−a,O,等から成る反射防止
膜であり、11は太陽光線を示す。
これによると、光起電力装置に入射する太陽光線l1は
、前記装置表面に形成されている反射防止11112で
、反射損失が極力押えられて光起電力装{層内に入射し
、起電力を発生する。
この光起電力装置に用いた反射防止膜12は主として絶
縁物から成っており、この反射防止膜12で前記装置で
発生した電流を収集することはできず、その役目は格子
状の表電極13が果たす。そのために前記表電極はでき
るだけ有効に電流を収集すべく、いろいろな形状に設計
されており、特に光起電力装置の面積が大きくなると電
極設計はより重要兜を増す。発生した電流の収集効率を
上げる簡単な方法としては、光起電力装置表面における
表電極の占める面積を上げてやれば良いが、このように
すると前記装置内に入る入射光量が表電極に妨げられて
減少してしまい、結果的には特性を低下させることにな
る。上記したように従来の光起電力装置においては、表
電極の果たす役割が重要であり、そのために種々工夫を
必要としているのが現状である。
〔発明の目的〕
本発明は上記した点に鑑みてなされたものであり、比較
的容易に光起電力装置の表電極における発生電流の収集
効率を向上させ、効果的に変換効率の向上を図ることの
できる光起電力装置を提供するものである。
〔発明の概要〕
本発明は、結晶半導体から成る光起電力装置の反射防止
効果して、透明導電膜を用いたことを特徴とする。
〔発明の効果〕
本発明によれば、即ち反射防止膜に透明導電膜を用いる
ことによって、従来の反射防止膜と同様の反射防止効果
を持つばかりでなく、化学的にも安定であり且つ本発明
の効果が最も顕著に現われるところの、表面電体での抵
抗による損失を減少させて電流の収集効率を増大せしめ
、太陽電池の特性の向上を図れる。さらに、本発明によ
れば作製プロセスが容易になり、また表電極からのリー
ド出しも容易且つ簡略化するために、太陽電池の信頼性
を高め、安価な光起電力装置を提供することができる。
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例の光起電力装置を第2図に示すが、2
01・まPN接合(25はp形Si基板、24はリンの
熱拡散等により形成させたn形Si層)から構成された
Si基板、26はkl等から成る裏電極、23は格子状
のA/等から成る表電極、22は本発明によるITO(
インジューム、ティン、オキサイド)から成る透明導電
膜であり、反射防止膜を兼ねる。21は太陽光線である
具体的には、比抵抗が05〜5(Ω−cm )のp形S
i基板25内に、POCjl lを用いた通常の熱拡散
法により900℃程度でリンをドーピングし、そのドー
ピング深さが表面より0.2〜1.0μmのn形S i
 l(124を形成する。p形St基板25側に裏電極
26を真空蒸着し、400〜750℃で熱処理を行なっ
ている。格子状の表電極23は、メタルマスクを使用し
て、AI等を真空蒸着し400〜750℃で熱処理をす
る。そして本実施例においては、反射防止膜を兼ねる透
明導電膜22を、基板を0〜400℃で加熱しながら、
EB法あるいはスパッタ法等により500〜100OA
形成させる。
上記実施例によれば、作製プロセスを複雑比することな
く形成でき、反射防止膜を兼ねる透明溝W、117(2
2が、格子状の表電極23の形成されていない部分に設
けられているため、前記導電膜が発生した電流の収集を
つかさどり、効果的に表電極に雷、流を流し込む働きを
する。このために、従来例に比べて電流の収集効率が増
大し、且つ透明導電膜の抵抗率が〜10−s−10’(
(1−crn)  とかなり小さいので表電極における
抵抗損失も低減させる効果をもつために、光起電力装置
の変換効率を改善することができる。
また、反射防止膜の形成は光起電力装置の受光面全面に
形成することになるが、従来においては、SiO等の反
射防止膜が絶縁物ということもあり、表電極からのリー
ド取出し部には前記防止膜の付着防止の工夫を要し、も
しくはリード取出しの際その部分の反射防止膜を除去す
る等の手間を要し、作製プロセスを複雑化するばかりで
なく、信頼性を低下させる要因ともなる。本発明では反
射防止膜に溝肩、性の膜を用いているため、前記従来例
の問題を容易に解決でき、安価で信頼性の高い光起電力
装置を作製できる。
なお、本実施例では透明導電膜としてITOを用いたが
、8n02あるいはI n、03を用いても良い。
また、本実施例では、透明導電膜は格子状の表電極を形
成した後に形成しているが、これとは逆に@配溝電膜を
形成して乃)ら表電極を形成させた構造としても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光起電力装置の1例を示す断面図、第2
図は不発明の実施例の光起電力装置を示す断面図である
。 10 、20・・81嶋板、11.21・・・太陽光線
、12.22  反射防止膜、13.23・・・表電極
、14.24=−nl杉5ild、15 、25−p形
Si基板、16.26・・・裏′鐵(令。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)p−n接合を持つ結晶半導体から成る光起電力装
    置において、光入射側に構成されている反射防止膜が透
    明導電膜から成っていることを特徴とする光起電力装置
  2. (2)反射防止膜である透明導電膜がInまたはSnの
    酸化物あるいはInとSnの混じった酸化物から成って
    いることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の
    光起電力装置。
  3. (3)反射防止膜である透明導電膜の膜厚が500Å以
    上であることを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記
    載の光起電力装置。
JP59120814A 1984-06-14 1984-06-14 光起電力装置 Pending JPS612372A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01143345A (ja) * 1987-11-30 1989-06-05 Hamamatsu Photonics Kk 半導体集積回路装置
JPH0832249B2 (ja) * 1990-10-31 1996-03-29 コフェア、ソシエテ、アノニム 液体製品を調合するための方法及びこの方法を実施する装置
JP2006245134A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 Clean Venture 21:Kk 光電変換装置およびその光電変換素子の製造方法
CN107046073A (zh) * 2016-12-30 2017-08-15 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 一种局部掺杂晶体硅太阳能电池的制备方法及其制得的电池
CN107342331A (zh) * 2013-08-02 2017-11-10 南通大学 一种t型顶电极背反射薄膜太阳电池的生产工艺

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