JPH02153998A - 光学記録再生盤用表面処理剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なコンパクイディスク、レーザーディスク
および光学ファイル等の光学的デジタル信号で記録再生
を行なう光学記録再生盤用表面処理剤に関する。

本発明の処理剤は噴射用液化ガスと共存させて用−るこ
とＫよ抄噴射時に泡状物となって盤上に均一に広げるこ
とができる。

〔従来の技術〕

従来、レコード盤等の接触式再生盤用表面処理剤として
は、ノニオン界面活性剤と帯電防止剤、カチオン又は両
性界面活性剤等を併用したスプレー剤が知られている（
ｆＦ開昭５６−３２５７３゜同５７−１２５２９２号公
報等）。

一方、光学記録再生盤は、情報が１μ劇以下の素子単位
で構成されている為微細なゴミや汚れも除去するために
、従来より、セーム皮、不織布等の柔らかい乾いた布で
拭き取る方法の他、界面活性剤溶液をスプレー塗布し柔
らかい布で拭き取る方法等がとられていた。

しかしながら、界面活性剤溶液としてカブオン活性剤の
溶液を使用する方法では、洗浄力が不十分な為付着して
いる汚れを除去する効果が少なく、また拭き堰りにより
残存した場合盤上で白化し光学的な再生・記録が出来な
い問題があった。

アニオン活性剤の溶液を開用する方法は、盤の構成材で
あるポリエステル樹脂、アクリル樹脂を白化させ、また
拭き取りにより残存した場合カチオン活性剤と同様の問
題があった。

ノニオン活性剤の溶液を使用する方法は、拭き取りによ
り残存した場合盤上で白比し光学的な再生・記録が出来
ない問題がある池、従来のスプレー法等の塗布方法では
、均一に塗布する為にエチレンオキサイドの付加モル数
の大きいものを用いる為に盤の白化および盤上での白化
を起し、光学的な再生・記録が出来ない問題がおった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、前記問題点を解決する、光学記録再生盤用処
理剤として優れた性能を有する表面処理剤を提供せんと
するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は下記の一般式Ｉまたは／及びＩＩで示されるノ
ニオン性界面活性剤が、水または３０重量％以下のアル
コール水溶液に濃度０．０５〜１重量％で溶解されてな
る光学記録再生盤用表面処理剤を提供するものである。

Ｒ１−０−（ＣｚＨ４０）ｍ　　Ｈ（Ｉ）〔式中、Ｒ１
は炭素数１２〜１８のアルキル基またはアルキレン基を
表わし、ｍは４〜１０の自然数である。

／　＼ 〔式中、Ｒ２は炭素数１１〜１７のアルキル基またはア
ルキレン基を表わし、”１１　Ｒ２＊　”３　は互に加
えて６〜２０となる自然数でおる。〕 前記一般式（Ｉ）で示されるノニオン性界面活性剤とし
ては、ポリオキシエチレン＝（４モル）ラウリルエーテ
ル、ポリオキシエチレン＝（Ｉ０モル）ミリスチルエー
テル等が例示される。

一般式（■）で示されるノニオン性界面活性剤としては
、モノラウリン酸ポリオキシエチレン（６モル寸加）ソ
ルビタン、モノバルミチン酸ポリオキシエチレン（Ｉ８
モル付加）ソルビタン等が例示される。

Ｒ１及びＲ２の炭素数が少なすぎると、十分な界面活性
能を示さず盤の洗浄力が不十分となり、また噴射用液化
ガスと共存更用した場合安定な泡の形成を示さない。Ｒ
１及びＲ２の炭素数が多すぎると盤上に残存した場合、
盤を白化させ光学的な再生・記録を防げることとなる。

ポリオキシエチレン基の数が少なすぎる場合、水系溶媒
への溶解性が不十分であり、また、発泡性も劣る為噴射
用液化ガスと共存使用して安定な泡の形成を示さない。

また大きすぎた場合は、盤の構成材を侵すことにより盤
の白濁比をまねき、光学的な再生・記録を防げることと
なる。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示されるノニオン活性剤を
溶解する溶媒としては、水またはアルコール水溶液が用
いられ、アルコールとしてはメタノール、エタノール、
イノプロパツール等の低級アルコールが好ましく、又、
これらのアルコールは混合使用してもよい。低級アルコ
ールは盤上の油性の汚れを除去する為に３０重敬％まで
の範囲で添加することが出来る。低級アルコールの濃度
が３０重量％を越えると噴射用液化ガスと共存使用して
も安定な泡を形成することが出来ず、さらに盤の構成材
を侵すことにより盤の白濁化及び盤にクラックを生じさ
せる。

ノニオン活性剤の濃度は０．０５〜１重量％の範囲であ
り、０．０５重１に％未満では洗浄力が不足し、噴射用
液化ガスと併用しても安定な泡の形成を示さない。Ｉｇ
量５を越えると拭き取っても盤上に活性剤が残存しやす
くなり、光学的な再生・記録を防げることになる。

噴射用液化ガスとしては、液化石油ガスおよび／または
７レオン系ガス等が使用される。具体的には、液化石油
ガスとしてはプロパン、ｎ−ブタン、イノブタン及びそ
れらの混合物等が挙げられる。７レオン系ガスとしては
、ジクロルジフルオロメタン、ジクロルフツオロメタン
、ジクロルテトラフルオロエタン及びそれらの混合物を
挙げることが出来る。噴射用液化ガスの充填量は、活性
剤水溶液に対して５〜４０重ＩＩｋ％の範囲で開用する
ととＫよ抄、噴射時に泡状物となって盤上に均一に広げ
ることが出来る。

本発明の光学記録・再生盤用表面処理剤には、必要に応
じて着色剤、防錆剤、ケイ素系比合物、フッ素系化合物
等を添加してもよい。

〔実施例〕

次に１本発明を実施例により説明する。

実施例１ 純水６９．８　ｔｌ　エタノール１５ｆｔｌ−混合した
溶媒に、ポリオキシエチレン（４モル）ラクリルエーテ
ル０．２ｔを溶かし、この溶液をスプレー缶に入れた。

次に液化石油ガス（プロパン／インブタン−２０／８０
重量比）ｘｓｒをこのスプレー缶に圧入しサンプルを調
整した。これを用いて次に評価を行った結果、良好な泡
の形成を示し、この泡は盤上ではじくことなく均一に保
持され、汚れを十分除去し、液をふき取る時ふき残りも
認められなかった。さらにコンパクトディスク及びレー
ザーディスク盤に悪影響を与えることもなく優れた光学
記録・再生盤用表面処理剤であることが判った。

尚評価は下述の評価方法によ抄実施した。

〔泡状態、はじき〕

サンプルを市販コンパクトディスク盤上に噴出させ、泡
の状態を観察し、次に１分間放置し泡もしくは液の盤上
でのはじきの状態を評価した。

−ａ迭１− 〇：良好で細かい泡 ×：発泡しない、または粗い泡で泡の安定性が悪い。

ａ＋”を菰とＬすＬ Ｏ：液もしくは泡が均一に盤上に存在する。

Ｘ：液もしくは泡が盤上で不均一とな抄はじいている。

〔汚れの除去性〕

汚れのモデル物質として、オレイン酸／グリセロールト
リオレエート／スクワレン−１２／６／１（重社比）の
混合物を、市販コンパクトディスクに薄く付着させ、次
に各サンプルを盤上に噴射させ発泡ウレタンスポンジで
拭きとり汚れの除去程度を評価する。

Ｏ：汚れの除去が（はぼ）完全である。

×：汚れの除去が不完全である。

〔拭き皐り性〕

市販コンパクトディスクに各サンプルを噴出させ、不織
布で拭き取９１時間放置後、盤上の残存物の程度を評価
する。

０２ｍ上に残存物が認められない。

×二盤上に残存物が認められる。

〔盤に与える影響〕

市販コンパクトディスク、および市販レーザーディスク
に各サンプルを噴出させ、そのままの状態で２日間放置
する。次に純水で盤上をきれいに洗い盤に与える影響を
評価する。

○：盤に与える。影響が認められない。

Ｘ：ｌｌｌに与える影響が認められる。

表１に示す充填組成とした他は、実施例１と同様に行っ
た。

評価結果を表２に示す。

（以下余白）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）下記一般式Ｉまたは／及びIIで示されるノニオン性
   界面活性剤が、水または３０重量％以下のアルコール水
   溶液に濃度０．０５〜１重量％で溶解されてなる光学記
   録再生盤用表面処理剤。 Ｒ＿１−Ｏ−（Ｃ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｍ−Ｈ（Ｉ） 〔式中、Ｒ＿１は炭素数１２〜１８のアルキル基または
   アルキレン基を表わし、ｍは４〜１０の自然数である。 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＿２は炭素数１１〜１７のアルキル基または
   アルキレン基を表わし、ｎ＿１、ｎ＿２、ｎ＿３は互に
   加えて６〜２０となる自然数である〕