JPH02153079A - 表面被覆方法 - Google Patents
表面被覆方法Info
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- JPH02153079A JPH02153079A JP30843788A JP30843788A JPH02153079A JP H02153079 A JPH02153079 A JP H02153079A JP 30843788 A JP30843788 A JP 30843788A JP 30843788 A JP30843788 A JP 30843788A JP H02153079 A JPH02153079 A JP H02153079A
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Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は被コーティング材の表面に緻密で、欠陥の無い
被膜を形成する方法に関するものである。
被膜を形成する方法に関するものである。
材料の表面特性を改質する表面処理技術として、古くか
らメツキ等が行なわれているが、最近ではセラミックス
や合金被膜等従来のメツキ法等では不可能であつた被膜
も作る事が出来るＰＶＤ法が注目されており、種々の材
料や部品の高性能化をもたらしてきている。
らメツキ等が行なわれているが、最近ではセラミックス
や合金被膜等従来のメツキ法等では不可能であつた被膜
も作る事が出来るＰＶＤ法が注目されており、種々の材
料や部品の高性能化をもたらしてきている。
然しなからＰＶＤ法による被膜はピンホール等の欠陥を
存している為その使用範囲に制約があった。即ち前記Ｐ
ＶＤ法による被膜を例えば耐蝕性被膜や絶縁被膜として
使用しようとすると、被膜中の微細な欠陥から腐食が進
行して大事に到ったり、或いは充分な耐電圧が得られな
かったりする場合があった。
存している為その使用範囲に制約があった。即ち前記Ｐ
ＶＤ法による被膜を例えば耐蝕性被膜や絶縁被膜として
使用しようとすると、被膜中の微細な欠陥から腐食が進
行して大事に到ったり、或いは充分な耐電圧が得られな
かったりする場合があった。
この様な表面改質層の欠陥をなくす為に従来は、素材表
面に下地メツキを施してから、目的とする改質層を設け
る方法、被膜表面にレーザーを照射して表面付近を局部
的に溶融し、欠陥を埋める方法等がとられていた。
面に下地メツキを施してから、目的とする改質層を設け
る方法、被膜表面にレーザーを照射して表面付近を局部
的に溶融し、欠陥を埋める方法等がとられていた。
然しなから、前記下地メツキを施す方法においては、メ
ツキ自体にもピンホール等の欠陥が含まれており、要求
に合う下地メツキを施す事が出来る素材金属も限られた
ものであった。
ツキ自体にもピンホール等の欠陥が含まれており、要求
に合う下地メツキを施す事が出来る素材金属も限られた
ものであった。
又被膜表面にレーザーを照射する方法においては、表面
付近の欠陥を埋める事は可能であるが、コスト高であり
、処理能力も低いという問題があった。
付近の欠陥を埋める事は可能であるが、コスト高であり
、処理能力も低いという問題があった。
（ｉ！Ｉ題を解決する為の手段〕
本発明は上記の点に鑑み鋭意検討の結果なされたもので
あり、その目的とするところは、被コーティング材の表
面にＰＶＤ法により形成される被膜を緻密で、欠陥の無
い被膜とする比較的簡単で且つ効率の良い方法を提供し
、ＰＶＤ法による被膜の適用分野を耐蝕性被膜や絶縁被
膜等従来その適用が困難であった分野に迄広げる事であ
る。
あり、その目的とするところは、被コーティング材の表
面にＰＶＤ法により形成される被膜を緻密で、欠陥の無
い被膜とする比較的簡単で且つ効率の良い方法を提供し
、ＰＶＤ法による被膜の適用分野を耐蝕性被膜や絶縁被
膜等従来その適用が困難であった分野に迄広げる事であ
る。
本発明者等は、第１図（ａ）に示す様に被コーティング
材ｌの表面に所定厚さのＡｌ膜２を介して目的とする被
膜３を被覆した後これに陽極酸化処理を施すと、電解液
が目的とする被膜に存在するピンホール４を通してＡｎ
膜表面に迄浸透し、第１図（ｂ）に示す様に該ピンホー
ル４直下のＡｌ膜がスポット状にアルマイト化し、生成
したアルマイト（Ａ２□Ｏｘ ）層５によって前記ピン
ホール４が埋められる事を見出して、本発明の完成に到
ったものである。
材ｌの表面に所定厚さのＡｌ膜２を介して目的とする被
膜３を被覆した後これに陽極酸化処理を施すと、電解液
が目的とする被膜に存在するピンホール４を通してＡｎ
膜表面に迄浸透し、第１図（ｂ）に示す様に該ピンホー
ル４直下のＡｌ膜がスポット状にアルマイト化し、生成
したアルマイト（Ａ２□Ｏｘ ）層５によって前記ピン
ホール４が埋められる事を見出して、本発明の完成に到
ったものである。
即ち本発明における請求項１の発明は、物理蒸着法（Ｐ
ＶＤ法）により被コーティング材表面に膜厚０．１〜２
０μｍのＡＩ！、膜を被覆した後目的とする被膜を被覆
し、これに陽極酸化処理を施す事を特徴とする表面被覆
方法である。
ＶＤ法）により被コーティング材表面に膜厚０．１〜２
０μｍのＡＩ！、膜を被覆した後目的とする被膜を被覆
し、これに陽極酸化処理を施す事を特徴とする表面被覆
方法である。
又請求項２の発明は、陽極酸化処理後、得られたアルマ
イト層の封孔処理を行なう事を特徴とする請求項ｌ記載
の表面被覆方法である。
イト層の封孔処理を行なう事を特徴とする請求項ｌ記載
の表面被覆方法である。
本発明方法においては、被コーティング材表面に被覆す
るＡｆｆｉ膜の厚さが０．１μｍ未満であると、陽極酸
化処理時に生成するアルマイト層５の量が少なすぎて、
第２図に示す様に目的とする被膜３中のピンホール４が
莞全には封孔されない、又前記Ａｌ膜の厚さが２０μｍ
を超えると、第３図に示す樺に生成するアルマイト層５
の量が多くなりすぎて、目的とする被膜３を持ち上げて
破壊するので、Ａｆｆｉ膜の厚さは０．１〜２０μｍの
範囲内にする必要があり、０．５〜５μｍの厚さにする
事がより好ましい。
るＡｆｆｉ膜の厚さが０．１μｍ未満であると、陽極酸
化処理時に生成するアルマイト層５の量が少なすぎて、
第２図に示す様に目的とする被膜３中のピンホール４が
莞全には封孔されない、又前記Ａｌ膜の厚さが２０μｍ
を超えると、第３図に示す樺に生成するアルマイト層５
の量が多くなりすぎて、目的とする被膜３を持ち上げて
破壊するので、Ａｆｆｉ膜の厚さは０．１〜２０μｍの
範囲内にする必要があり、０．５〜５μｍの厚さにする
事がより好ましい。
又目的とする被膜のピンホール中に埋め込まれたアルマ
イト層は、それ自体に微小なピンホールが含まれている
場合があるので、被膜中の欠陥を完全になくす為には、
更に前記アルマイト層の封孔処理を行なう事が望ましい
。
イト層は、それ自体に微小なピンホールが含まれている
場合があるので、被膜中の欠陥を完全になくす為には、
更に前記アルマイト層の封孔処理を行なう事が望ましい
。
本発明方法においては、被コーティング材の表面に所定
厚さのＡｌ膜を介して目的とする被膜を被覆した後、こ
れに陽極酸化処理を施しているので、実用上問題となる
程度の大きさの欠陥には必ず電解液が浸入して、前記Ａ
Ｉ！膜表面に迄浸透し、生成した。アルマイト層によっ
てこれらの欠陥が埋められるので、ピンホール等の欠陥
が全く無い被膜を得る事が出来る。
厚さのＡｌ膜を介して目的とする被膜を被覆した後、こ
れに陽極酸化処理を施しているので、実用上問題となる
程度の大きさの欠陥には必ず電解液が浸入して、前記Ａ
Ｉ！膜表面に迄浸透し、生成した。アルマイト層によっ
てこれらの欠陥が埋められるので、ピンホール等の欠陥
が全く無い被膜を得る事が出来る。
次に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
被コーティング材として厚さ３ｍｍ、３０ｍｍ角（正方
形）の表面粗さ０．３μｍに研磨した軟鋼板を用い、こ
の表面に高周波マグネトロンスパッタにより、厚さ１０
μｍのＡ２膜を被覆し、引き続いて厚さ７．５μｍの純
Ｎｂ膜を被覆した０次にこのＮｂ膜に硫酸浴で所定時間
陽極酸化処理を施した。この様にして得られた試料のコ
ーティング面以外をエポキシ系樹脂接着剤でマスキング
し、室温の濃塩酸に浸漬し、Ｎｂ膜に浸食箇所が発生す
る迄の時間を測定して、その結果を第１表に示した（Ｎ
−５）。
形）の表面粗さ０．３μｍに研磨した軟鋼板を用い、こ
の表面に高周波マグネトロンスパッタにより、厚さ１０
μｍのＡ２膜を被覆し、引き続いて厚さ７．５μｍの純
Ｎｂ膜を被覆した０次にこのＮｂ膜に硫酸浴で所定時間
陽極酸化処理を施した。この様にして得られた試料のコ
ーティング面以外をエポキシ系樹脂接着剤でマスキング
し、室温の濃塩酸に浸漬し、Ｎｂ膜に浸食箇所が発生す
る迄の時間を測定して、その結果を第１表に示した（Ｎ
−５）。
尚従来の陽極酸化処理を行わない場合についても、同様
な方法で濃塩酸浸漬試験を行い、その結果を第１表に併
記した。
な方法で濃塩酸浸漬試験を行い、その結果を第１表に併
記した。
第
表
第１表から明らかな様に、目的とする被膜の陽極酸化処
理を行なった本発明例品１〜３は試料によって若干バラ
ツキはあるが、濃塩酸に浸漬後少なくともｌｈｒは浸食
箇所が発生しなく、優れた耐酸化性を有している。又陽
極酸化処理時間が長い方が耐酸化性が良好な傾向が見ら
れるが、これは処理時間を長くすると微細なピンホール
も充分に封孔される為であると考えられる。
理を行なった本発明例品１〜３は試料によって若干バラ
ツキはあるが、濃塩酸に浸漬後少なくともｌｈｒは浸食
箇所が発生しなく、優れた耐酸化性を有している。又陽
極酸化処理時間が長い方が耐酸化性が良好な傾向が見ら
れるが、これは処理時間を長くすると微細なピンホール
も充分に封孔される為であると考えられる。
一方被膜の陽極酸化処理を行なわなかった従来例品４で
は、濃塩酸に浸漬と同時にピンホールと思われる箇所か
ら気泡が発生して、Ｎｂ膜が崩れた。
は、濃塩酸に浸漬と同時にピンホールと思われる箇所か
ら気泡が発生して、Ｎｂ膜が崩れた。
尚本発明方法において、目的とする被膜の欠陥中に埋込
まれたアルマイト層自体は塩酸中に僅かながら溶解する
ので、本発明方法による被膜は半永久的な耐蝕性を有す
るわけではないが、本実施例に示した程度の耐蝕性があ
れば、実用上差し支えないものと思われる。
まれたアルマイト層自体は塩酸中に僅かながら溶解する
ので、本発明方法による被膜は半永久的な耐蝕性を有す
るわけではないが、本実施例に示した程度の耐蝕性があ
れば、実用上差し支えないものと思われる。
（発明の効果〕
本発明方法によれば、被コーティング材の表面にＰＶＤ
法により形成される被膜を緻密で、欠陥の無い被膜とす
る事が出来、前記ＰＶＤ法による被膜の適用分野を耐蝕
性被膜や絶縁被膜等従来その適用が困難であった分野に
名店げる事が出来る等、工業上顕著な効果を奏するもの
である。
法により形成される被膜を緻密で、欠陥の無い被膜とす
る事が出来、前記ＰＶＤ法による被膜の適用分野を耐蝕
性被膜や絶縁被膜等従来その適用が困難であった分野に
名店げる事が出来る等、工業上顕著な効果を奏するもの
である。
第１図（ａ）及び（ｂ）は本発明の方法による表面被膜
の形成過程を示す説明図であって、（ａ）は陽極酸化処
理前、（ｂ）は陽極酸化処理後の断面形状を示したもの
である。 第２図及び第３図は被コーティング材表面に被覆する／
ｌ膜の厚さが不適正であった場合の陽極酸化処理後の断
面形状を示す説明図であって、第２図はＡｊ！膜の厚さ
が薄すぎた場合、第３図はＡ２膜の厚さが厚すぎた場合
である。 ■−・−被コーティング材、２・・−Ａ２膜、３・−目
的とする被膜、４− ピンホール、５・−アルマイト（
Ａ ｌ ｔ Ｏｘ ）層、６−・・割れ。 特許出願人 古河電気工業株式会社
の形成過程を示す説明図であって、（ａ）は陽極酸化処
理前、（ｂ）は陽極酸化処理後の断面形状を示したもの
である。 第２図及び第３図は被コーティング材表面に被覆する／
ｌ膜の厚さが不適正であった場合の陽極酸化処理後の断
面形状を示す説明図であって、第２図はＡｊ！膜の厚さ
が薄すぎた場合、第３図はＡ２膜の厚さが厚すぎた場合
である。 ■−・−被コーティング材、２・・−Ａ２膜、３・−目
的とする被膜、４− ピンホール、５・−アルマイト（
Ａ ｌ ｔ Ｏｘ ）層、６−・・割れ。 特許出願人 古河電気工業株式会社
Claims (2)
- （１）物理蒸着法（ＰＶＤ法）により被コーティング材
表面に膜厚０．１〜２０μｍのＡｌ膜を被覆した後目的
とする被膜を被覆し、これに陽極酸化処理を施す事を特
徴とする表面被覆方法。 - （２）陽極酸化処理後、得られたアルマイト層の封孔処
理を行なう事を特徴とする請求項１記載の表面被覆方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30843788A JPH02153079A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 表面被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30843788A JPH02153079A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 表面被覆方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02153079A true JPH02153079A (ja) | 1990-06-12 |
Family
ID=17981032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30843788A Pending JPH02153079A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 表面被覆方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02153079A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04193968A (ja) * | 1990-11-27 | 1992-07-14 | Kobe Steel Ltd | 耐食性に優れた蒸着Ａｌ系めっき鋼材 |
-
1988
- 1988-12-06 JP JP30843788A patent/JPH02153079A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04193968A (ja) * | 1990-11-27 | 1992-07-14 | Kobe Steel Ltd | 耐食性に優れた蒸着Ａｌ系めっき鋼材 |
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