JPH02150656A - クリーンルームの床下ダクト構造 - Google Patents
クリーンルームの床下ダクト構造Info
- Publication number
- JPH02150656A JPH02150656A JP30567388A JP30567388A JPH02150656A JP H02150656 A JPH02150656 A JP H02150656A JP 30567388 A JP30567388 A JP 30567388A JP 30567388 A JP30567388 A JP 30567388A JP H02150656 A JPH02150656 A JP H02150656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- clean room
- air suction
- doors
- duct
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Ventilation (AREA)
- Duct Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はクリーンルームの床下ダクト構造に係り、特に
半導体製造工場等のクリーンルームに適したクリーンル
ームの床下ダクト構造に関する。
半導体製造工場等のクリーンルームに適したクリーンル
ームの床下ダクト構造に関する。
従来、この種の装置は、床面グレーチングの開口率を調
整してエア流を調整したり、また、生産装置の位置を調
整して、ルーム内のエア乱流を極力抑制していた。
整してエア流を調整したり、また、生産装置の位置を調
整して、ルーム内のエア乱流を極力抑制していた。
しかしながら、前記従来の装置では、ルーム内に配置さ
れた生産装置等の増加及び縮小等のレイアウト変更が行
われた場合、グレーチングのレイアウト変更が必要とさ
れていた。また、場合によっては、床下チャンバ内に配
設されたエア吸込用ダクトの配管変え工事が行われ、工
事に莫大なコストが費やされる欠点があった。
れた生産装置等の増加及び縮小等のレイアウト変更が行
われた場合、グレーチングのレイアウト変更が必要とさ
れていた。また、場合によっては、床下チャンバ内に配
設されたエア吸込用ダクトの配管変え工事が行われ、工
事に莫大なコストが費やされる欠点があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、生
産装置を任意の位置にレイアウト変更した場合であって
も、グレーチングの変更及び設備の改修工事等を行わず
に、クリーンルーム内のエア層流化を容易に実施するこ
とができるクリーンルームの床下ダクト構造を提供する
ことを目的とする。
産装置を任意の位置にレイアウト変更した場合であって
も、グレーチングの変更及び設備の改修工事等を行わず
に、クリーンルーム内のエア層流化を容易に実施するこ
とができるクリーンルームの床下ダクト構造を提供する
ことを目的とする。
本発明は、前記目的を達成する為に、天井面に取付けら
れた高性能フィルタを通して清浄エアをルーム内に吹き
出すと共に、床下チャンバに備えたダクトで、ルーム内
のエアを吸い込んで排気するクリーンルームに於いて、
前記ダクトの側面に形成したエア吸込口にスライド移動
自在な複数の扉を設け、ルーム内に配置される生産装置
等の配置位置に応じて前記層をエア吸込口にスライド移
動させてエア吸込口の位置及び面積を調節自在にしたこ
とを特徴とする。
れた高性能フィルタを通して清浄エアをルーム内に吹き
出すと共に、床下チャンバに備えたダクトで、ルーム内
のエアを吸い込んで排気するクリーンルームに於いて、
前記ダクトの側面に形成したエア吸込口にスライド移動
自在な複数の扉を設け、ルーム内に配置される生産装置
等の配置位置に応じて前記層をエア吸込口にスライド移
動させてエア吸込口の位置及び面積を調節自在にしたこ
とを特徴とする。
本発明によれば、床下のエア吸込用ダクトの側面にエア
吸込口を形成し、また、前記エア吸込口に複数の扉をス
ライド移動自在に取付ける。そして、ルーム内に配置さ
れた生産装置の位置に応じて、前記層をスライドさせて
、エア吸込口の位置及び面積を適宜調節しルーム内のエ
ア層流を保つようにする。これにより、生産装置等が任
意の位置にレイアウト変更された場合であっても扉の前
記作動によって、ルーム内のエアを層流状態に保つこと
ができるようになる。
吸込口を形成し、また、前記エア吸込口に複数の扉をス
ライド移動自在に取付ける。そして、ルーム内に配置さ
れた生産装置の位置に応じて、前記層をスライドさせて
、エア吸込口の位置及び面積を適宜調節しルーム内のエ
ア層流を保つようにする。これにより、生産装置等が任
意の位置にレイアウト変更された場合であっても扉の前
記作動によって、ルーム内のエアを層流状態に保つこと
ができるようになる。
以下添付図面に従って本発明に係るクリーンルームの床
下ダクト構造の好ましい実施例を詳説する。
下ダクト構造の好ましい実施例を詳説する。
第１図は本発明に係るクリーンルームの床下ダクト構造
がクリーンルームに使用された場合の実施例を示す斜視
図が示されている。
がクリーンルームに使用された場合の実施例を示す斜視
図が示されている。
第１図に於いて、クリーンルーム４０は、グレーチング
１８によってクリーンエリア３０と床下チャンバ３５と
が仕切られている。また、エリア３０上部には高性能フ
ィルタ（図示せず）が取付けられ、このフィルタを通し
て清浄エアがエリア３０に吹き出され、この吹き出され
たエアはエリア３０内で層流となりグレーチング１８を
通してエア吸込用システムダクト１０に吸いこまれてい
る。また、前記グレーチング１８上には適宜に生産装置
２５が設置される。
１８によってクリーンエリア３０と床下チャンバ３５と
が仕切られている。また、エリア３０上部には高性能フ
ィルタ（図示せず）が取付けられ、このフィルタを通し
て清浄エアがエリア３０に吹き出され、この吹き出され
たエアはエリア３０内で層流となりグレーチング１８を
通してエア吸込用システムダクト１０に吸いこまれてい
る。また、前記グレーチング１８上には適宜に生産装置
２５が設置される。
前記エア吸込用システムダクト１０は、第１図及び第２
図に示すように断面矩形状に形成されて、その側面にエ
ア吸込口１５が形成されている。更に、複数の扉１２．
１２・・・が第３図及び第４図に示すように、前記シス
テムダクト１０の底部ｌＯＡに取付けられたレール部１
４の凹部１４Ａ、１４Ｂをすべり面としてエア吸込口１
５に対しスライド移動自在に取付けられている。また、
エア吸込用システムダクト１０は引込ダクト２０に取付
けられて、固定サポート１６によって床下チャンバ３５
に支持されている。
図に示すように断面矩形状に形成されて、その側面にエ
ア吸込口１５が形成されている。更に、複数の扉１２．
１２・・・が第３図及び第４図に示すように、前記シス
テムダクト１０の底部ｌＯＡに取付けられたレール部１
４の凹部１４Ａ、１４Ｂをすべり面としてエア吸込口１
５に対しスライド移動自在に取付けられている。また、
エア吸込用システムダクト１０は引込ダクト２０に取付
けられて、固定サポート１６によって床下チャンバ３５
に支持されている。
次に、前記の如く構成されたクリーンルームの床下ダク
ト構造の作用について説明する。
ト構造の作用について説明する。
エア吸込用システムダクト１０に形成されたエア吸込口
１５上に対して扉１２．１２・・・を、適宜にスライド
移動させる。この作動によって、エア吸込口１５上には
複数のエア吸込口１５．１５・・・が形成されるように
なり、また、前記システムダクト１０上に対しエア吸込
口１５．１５・・・の位置及び面積を適宜に変化させる
ことができるようになる。これによって、クリーンルー
ム４０内の全体エア量を調整することができるようにな
る。
１５上に対して扉１２．１２・・・を、適宜にスライド
移動させる。この作動によって、エア吸込口１５上には
複数のエア吸込口１５．１５・・・が形成されるように
なり、また、前記システムダクト１０上に対しエア吸込
口１５．１５・・・の位置及び面積を適宜に変化させる
ことができるようになる。これによって、クリーンルー
ム４０内の全体エア量を調整することができるようにな
る。
従って、生産装置２５を任意の位置に変更した場合であ
っても、前記層１２．１２・・・を適宜に移動させるこ
とによってクリーンルーム４０内のエア流を安定に保つ
ことができるようになる。
っても、前記層１２．１２・・・を適宜に移動させるこ
とによってクリーンルーム４０内のエア流を安定に保つ
ことができるようになる。
尚、本件実施例では１段構成のエア吸込用システムダク
ト１０について説明したが、第５図に示す第２実施例で
示すようにエア吸込用システムダクト１０．１０を２段
構成配置しても良い。これによってクリーンルーム４０
内の全体エア量をこまかく調整することができるように
なる。
ト１０について説明したが、第５図に示す第２実施例で
示すようにエア吸込用システムダクト１０．１０を２段
構成配置しても良い。これによってクリーンルーム４０
内の全体エア量をこまかく調整することができるように
なる。
以上説明したように本発明に係るクリーンルームの床下
ダクト構造によれば、エア吸込ダクトのエア吸込口にス
ライド移動自在な扉を設け、生産装置の位置に応じて前
記層を移動し、エア吸込口の位置及び面積を適宜に調節
するようにしたので、生産装置が任意位置に変更した場
合であっても、ルーム内のエア層流化を容易に実施する
ことができる。
ダクト構造によれば、エア吸込ダクトのエア吸込口にス
ライド移動自在な扉を設け、生産装置の位置に応じて前
記層を移動し、エア吸込口の位置及び面積を適宜に調節
するようにしたので、生産装置が任意位置に変更した場
合であっても、ルーム内のエア層流化を容易に実施する
ことができる。
第１図は本発明に係るクリーンルームの床下ダクト構造
がクリーンルームに使用された場合の一実施例を示す斜
視図、第２図は本発明に係るクリーンルームの床下ダク
ト構造の第１実施例を示す正面、第３図は第２図におけ
るＡ−Ａ斜視図、第４図は第３図におけるＢ部要部構造
図、第５図は本発明に係るクリーンルームの床下ダクト
構造の第２実施例を示す正面図である。 １０・・・システムダクト、 １２・・・扉、 １
４・レール部、１５・・・吸気口、 １６・・・固定
サポート、１８・・・グレーチング、 ２０・・・吸
込ダクト、２５・・・生産装置、 ３０・・・エリア。 出願人 日立プラント建設株式会社 第 図 第 図 第 図 第 図
がクリーンルームに使用された場合の一実施例を示す斜
視図、第２図は本発明に係るクリーンルームの床下ダク
ト構造の第１実施例を示す正面、第３図は第２図におけ
るＡ−Ａ斜視図、第４図は第３図におけるＢ部要部構造
図、第５図は本発明に係るクリーンルームの床下ダクト
構造の第２実施例を示す正面図である。 １０・・・システムダクト、 １２・・・扉、 １
４・レール部、１５・・・吸気口、 １６・・・固定
サポート、１８・・・グレーチング、 ２０・・・吸
込ダクト、２５・・・生産装置、 ３０・・・エリア。 出願人 日立プラント建設株式会社 第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 天井面に取付けられた高性能フィルタを通して清浄エア
をルーム内に吹き出すと共に、床下チャンバに備えたダ
クトで、ルーム内のエアを吸い込んで排気するクリーン
ルームに於いて、 前記ダクトの側面に形成したエア吸込口にスライド移動
自在な複数の扉を設け、ルーム内に配置される生産装置
等の配置位置に応じて前記扉をエア吸込口にスライド移
動させてエア吸込口の位置及び面積を調節自在にしたこ
とを特徴とするクリーンルームの床下ダクト構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30567388A JPH0650193B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | クリーンルームの床下ダクト構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30567388A JPH0650193B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | クリーンルームの床下ダクト構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02150656A true JPH02150656A (ja) | 1990-06-08 |
| JPH0650193B2 JPH0650193B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=17947977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30567388A Expired - Fee Related JPH0650193B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | クリーンルームの床下ダクト構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0650193B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5518451A (en) * | 1993-08-28 | 1996-05-21 | Meissner & Wurst GmbH & Co. Lufttechnisch Anlagen Gebaude- und Verfahrenstechnik | Clean room system |
| US5681219A (en) * | 1995-03-28 | 1997-10-28 | Advanced Micro Devices | Exhaust shroud and skirt apparatus and method |
-
1988
- 1988-12-01 JP JP30567388A patent/JPH0650193B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5518451A (en) * | 1993-08-28 | 1996-05-21 | Meissner & Wurst GmbH & Co. Lufttechnisch Anlagen Gebaude- und Verfahrenstechnik | Clean room system |
| US5681219A (en) * | 1995-03-28 | 1997-10-28 | Advanced Micro Devices | Exhaust shroud and skirt apparatus and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0650193B2 (ja) | 1994-06-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |