JPH02149690A - 水素ガス供給装置 - Google Patents
水素ガス供給装置Info
- Publication number
- JPH02149690A JPH02149690A JP63304525A JP30452588A JPH02149690A JP H02149690 A JPH02149690 A JP H02149690A JP 63304525 A JP63304525 A JP 63304525A JP 30452588 A JP30452588 A JP 30452588A JP H02149690 A JPH02149690 A JP H02149690A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen gas
- gaseous hydrogen
- water
- pressure
- generating means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 84
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title abstract description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title abstract description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 abstract description 7
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は、水素ガス発生装置に関する。さらに詳しく
は、水電解式水素ガス発生手段を備えてなり、水素ガス
を一定流量で供給することができる水素ガス発生装置に
関する。
は、水電解式水素ガス発生手段を備えてなり、水素ガス
を一定流量で供給することができる水素ガス発生装置に
関する。
(ロ)従来の技術
従来から、水素ガスはガスクロマトグラフィのキャリア
ガスやFID%FPD等の検出器用ガスとして汎用され
ている。このような水素ガスの利用分野においては、水
素ガスはできるだけ安定した流量で供給されることがそ
の目的から望ましく、また、水素ボンベ等を用いずにで
きるだけ純粋な水素を長期間に亘って供給できることが
望まれる。
ガスやFID%FPD等の検出器用ガスとして汎用され
ている。このような水素ガスの利用分野においては、水
素ガスはできるだけ安定した流量で供給されることがそ
の目的から望ましく、また、水素ボンベ等を用いずにで
きるだけ純粋な水素を長期間に亘って供給できることが
望まれる。
そこで、最近、固体電解質を用い水を原料として電解法
でリアルタイムに水素ガスを発生させるモジュール、い
わゆる水電解式水素発生セル(「公害と対策」第18巻
第1θ号、公害対策技術同友会発行、1982年)を水
素ガス供給装置に利用することが行われている。
でリアルタイムに水素ガスを発生させるモジュール、い
わゆる水電解式水素発生セル(「公害と対策」第18巻
第1θ号、公害対策技術同友会発行、1982年)を水
素ガス供給装置に利用することが行われている。
かかる水素ガス供給装置は、上記水循環路を備えた水電
解式水素発生セルから延設されるガス供給路に、水分離
トラップ及び水吸収剤充填カラムからなる水分除去手段
と、圧力スイッチと、流路抵抗を制御する圧力レギュレ
ータとをこの順に付設してなるものである。そして、圧
力スイッチは、圧力の変動を補償すべく流路の開閉をリ
レー制御的に行って水素ガス供給流路を略一定に保つべ
く設けられたものである。
解式水素発生セルから延設されるガス供給路に、水分離
トラップ及び水吸収剤充填カラムからなる水分除去手段
と、圧力スイッチと、流路抵抗を制御する圧力レギュレ
ータとをこの順に付設してなるものである。そして、圧
力スイッチは、圧力の変動を補償すべく流路の開閉をリ
レー制御的に行って水素ガス供給流路を略一定に保つべ
く設けられたものである。
(ハ)発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記圧力スイッチは機賊的な一種のデジ
タルスイッチであるために流路を開く際の圧力と閉じる
際の圧力には一定の幅があり、この開閉間の圧力差によ
って水素ガス供給圧に振動が生じ、これが伝搬して供給
流量の変動が生じ易いという問題があった。
タルスイッチであるために流路を開く際の圧力と閉じる
際の圧力には一定の幅があり、この開閉間の圧力差によ
って水素ガス供給圧に振動が生じ、これが伝搬して供給
流量の変動が生じ易いという問題があった。
ことに、ガスクロマトグラフィやその検出器のキャリア
ガスの供給装置として用いる場合には、かかる流量の変
動は、ベースラインやバックグラウンドの変動につなが
るものであり、これをできるだけ回避することが望まれ
る。
ガスの供給装置として用いる場合には、かかる流量の変
動は、ベースラインやバックグラウンドの変動につなが
るものであり、これをできるだけ回避することが望まれ
る。
この発明は、かかる状況下なされたものであり、ことに
安定した流量で水素ガスを供給することができる水素ガ
ス供給装置を提供しようとするものである。
安定した流量で水素ガスを供給することができる水素ガ
ス供給装置を提供しようとするものである。
(ニ)課題を解決するための手段
かくしてこの発明によれば、電流可変電源を備えた水電
解式水素ガス発生手段と、この水素ガス発生手段から水
分除去手段を介して延設される水素ガス供給管と、この
水素ガス供給管の途中に所定間隔で付設された二つの圧
力センサと、この圧力センサ各々の出力の竿を検知し、
かつこの出力差が所定値に保たれるように上記水電解式
水素ガス発生手段における電流可変電源の供給電流を制
御しうる制御部とを備えてなる水素ガス供給装置が提供
される。
解式水素ガス発生手段と、この水素ガス発生手段から水
分除去手段を介して延設される水素ガス供給管と、この
水素ガス供給管の途中に所定間隔で付設された二つの圧
力センサと、この圧力センサ各々の出力の竿を検知し、
かつこの出力差が所定値に保たれるように上記水電解式
水素ガス発生手段における電流可変電源の供給電流を制
御しうる制御部とを備えてなる水素ガス供給装置が提供
される。
この発明は、水素ガス発生手段から延設される水素ガス
供給管に二つの圧力センサーを設けると共に、この圧力
センサーの出力差が一定に保たれるように直接水電解式
水素ガス発生手段の電流可変電源をフィードバック制御
するよう構成した点を最大の特徴とする。
供給管に二つの圧力センサーを設けると共に、この圧力
センサーの出力差が一定に保たれるように直接水電解式
水素ガス発生手段の電流可変電源をフィードバック制御
するよう構成した点を最大の特徴とする。
この発明における水電解式水素ガス発生手段としては、
前述した公知の水電解式水素ガス発生セルを利用するこ
とができ、水の電解により水素ガスを連続的に発生放出
できるものであればいずれも適用することができる。
前述した公知の水電解式水素ガス発生セルを利用するこ
とができ、水の電解により水素ガスを連続的に発生放出
できるものであればいずれも適用することができる。
この発明における水分除去手段としては、水分離トラッ
プ及び水吸収剤充填カラムをシリーズで組合わせたもの
が適しており、この水吸収剤としてはシリカゲル、塩化
カルシウム等の一般的な吸湿剤を用いることができる。
プ及び水吸収剤充填カラムをシリーズで組合わせたもの
が適しており、この水吸収剤としてはシリカゲル、塩化
カルシウム等の一般的な吸湿剤を用いることができる。
この発明における各々の圧力センサとしては、いわゆる
圧電型圧力センサ、半導体型圧力ヤンサ等の管路へ埋め
込み可能な小型のものを用いるのが適している。
圧電型圧力センサ、半導体型圧力ヤンサ等の管路へ埋め
込み可能な小型のものを用いるのが適している。
上記二つの圧力センサの付設位置は、共に上記水除去手
段の後段とされる。また両正カセンサは通常の水素ガス
供給流量(数10〜数100RQZ分)下で流路抵抗に
より充分に圧力差が生じる程度の間隔を6って付設する
のが適しており、この圧力差を確保するために両正力セ
ンサ間の管路には、細管等の抵抗管や前記した水吸収剤
充填カラムを介設するのが一つの好ましい態様である。
段の後段とされる。また両正カセンサは通常の水素ガス
供給流量(数10〜数100RQZ分)下で流路抵抗に
より充分に圧力差が生じる程度の間隔を6って付設する
のが適しており、この圧力差を確保するために両正力セ
ンサ間の管路には、細管等の抵抗管や前記した水吸収剤
充填カラムを介設するのが一つの好ましい態様である。
この発明における制御部は、上記両正力センサの出力差
を検知する比較回路及びこの出力差が所定値となるよう
リアルタイムに制御する電流可変電源の制御回路で構成
することができ、場合によってはマイクロコンピュータ
を用いて時分割制御することも可能である。なお上記所
定値は、外部入力により意図する水素ガス流量に応じて
変動設定できるように構成するのが適している。
を検知する比較回路及びこの出力差が所定値となるよう
リアルタイムに制御する電流可変電源の制御回路で構成
することができ、場合によってはマイクロコンピュータ
を用いて時分割制御することも可能である。なお上記所
定値は、外部入力により意図する水素ガス流量に応じて
変動設定できるように構成するのが適している。
(ホ)作用
二つの圧力センサの出力差は、この間の管路の抵抗と通
過する水素ガス流量の積に対応するため、この出力差は
水素ガス流量に比例する。従って、この出力差が一定と
なるように電流可変電源の電流をコントロールして水電
解式水素ガス発生手段からの水素ガス発生量を調整する
ことにより、水素ガス流量が一定に保たれることとなる
。そして電源電流のコントロールは上記二つの圧力セン
サによりリアルタイムに行われるため脈動等の現象が防
止されることとなる。
過する水素ガス流量の積に対応するため、この出力差は
水素ガス流量に比例する。従って、この出力差が一定と
なるように電流可変電源の電流をコントロールして水電
解式水素ガス発生手段からの水素ガス発生量を調整する
ことにより、水素ガス流量が一定に保たれることとなる
。そして電源電流のコントロールは上記二つの圧力セン
サによりリアルタイムに行われるため脈動等の現象が防
止されることとなる。
(へ)実施例
第1図に示すlは、この発明の水素ガス供給装置の一実
施例を示す構成説明図である。図に示すごとく、水素ガ
ス供給装置lは、電流可変電源21、水電解式水素発生
セル22、水槽23、セル22への水循環流路25及び
送液ポンプ24で構成される水電解式水素ガス発生手段
2と、水電解式水素発生セル22から水素ガス供給口8
へ延設される内径1xxのステンレス製の水素ガス供給
管3とから基本構成されてなる。ここで水電解式水素発
生セル22は、固体電解質としてナフイヨン(NAF
I ON” )膜を用いこの膜の両面に各々水流路を構
成する発泡ニッケル層を介して一対の電解用電極(Ti
製)を配設したモジュールを内蔵してなる口径84■、
厚み約3231111のステンレン製セルからなる。そ
してこの各電解用電極は電源2!に接続され、また水流
路は水循環流路25に接続されている。なお、セル22
の水素ガス発生量は、電解電流14Aで103村/分、
16Aで118112/分である。
施例を示す構成説明図である。図に示すごとく、水素ガ
ス供給装置lは、電流可変電源21、水電解式水素発生
セル22、水槽23、セル22への水循環流路25及び
送液ポンプ24で構成される水電解式水素ガス発生手段
2と、水電解式水素発生セル22から水素ガス供給口8
へ延設される内径1xxのステンレス製の水素ガス供給
管3とから基本構成されてなる。ここで水電解式水素発
生セル22は、固体電解質としてナフイヨン(NAF
I ON” )膜を用いこの膜の両面に各々水流路を構
成する発泡ニッケル層を介して一対の電解用電極(Ti
製)を配設したモジュールを内蔵してなる口径84■、
厚み約3231111のステンレン製セルからなる。そ
してこの各電解用電極は電源2!に接続され、また水流
路は水循環流路25に接続されている。なお、セル22
の水素ガス発生量は、電解電流14Aで103村/分、
16Aで118112/分である。
一方、水素ガス供給管3には、水分離トラップ41及び
シリカゲル充填カラム42からなる水分除去手段4、第
1圧カセンサ5A、シリカゲル充填カラム6及び第2圧
力センサ5Bがこの順で設けられている。ここで第1及
び第2圧力センサ5A、5Bとしては、各々市販の拡販
型半導体圧力センサ(圧力範囲0〜6 K9/ cta
’ )を用い、これを上記水素ガス供給管に埋設して取
り付けた。また両正カセンサの取付間隔は約10cmで
ある。
シリカゲル充填カラム42からなる水分除去手段4、第
1圧カセンサ5A、シリカゲル充填カラム6及び第2圧
力センサ5Bがこの順で設けられている。ここで第1及
び第2圧力センサ5A、5Bとしては、各々市販の拡販
型半導体圧力センサ(圧力範囲0〜6 K9/ cta
’ )を用い、これを上記水素ガス供給管に埋設して取
り付けた。また両正カセンサの取付間隔は約10cmで
ある。
そして、上記圧力センサ5A、5Bからの出力端子は制
御部7に接続されている。この制御部7は、両正カセン
サ5A、5Bの出力差(検知圧力差)を検出し、てこれ
が所定の一定値に保たれるように電[21からの電流を
無段階に制御する回路からなる。ここでこの制御部7と
電流可変電源21の具体的な回路構成を第2図に示した
。なお、図中9は圧力差を初期設定するボリューム(外
部人力手段)であり、水素ガス流量値に換算した目盛に
より意図する流量を直接設定できるよう構成されている
。なお10は両正カセンサの出力差の増幅用アンプ、!
lは初期設定値とのコンパレータを各々示す。
御部7に接続されている。この制御部7は、両正カセン
サ5A、5Bの出力差(検知圧力差)を検出し、てこれ
が所定の一定値に保たれるように電[21からの電流を
無段階に制御する回路からなる。ここでこの制御部7と
電流可変電源21の具体的な回路構成を第2図に示した
。なお、図中9は圧力差を初期設定するボリューム(外
部人力手段)であり、水素ガス流量値に換算した目盛に
より意図する流量を直接設定できるよう構成されている
。なお10は両正カセンサの出力差の増幅用アンプ、!
lは初期設定値とのコンパレータを各々示す。
この回路1とおいては、初期設定に比較して圧力差が小
さいとトランジスタQ、はカヅトオフの方向に向かい、
その結果コレクタ電位が上昇しくQ。
さいとトランジスタQ、はカヅトオフの方向に向かい、
その結果コレクタ電位が上昇しくQ。
のベース電位が上昇し)、トランジスタQ、を通じてセ
ル22へ供給される電流が増大される。
ル22へ供給される電流が増大される。
方圧力差が大きいと逆に電流が減少される。従って、設
定圧力差、すなわち意図する流量値に応じた電流がセル
22に供給されることとなる。
定圧力差、すなわち意図する流量値に応じた電流がセル
22に供給されることとなる。
かかる水素ガス供給装置lにおいては、水電解式水素発
生セル22から発生した水素ガスは、供給管3に導入さ
れ、水分離トラップ41.シリカゲル充填カラム42.
6を介して水素ガス供給口8へ供給されることとなるが
、前述したごとく、二つの圧力センサ5A、5Bを利用
した電解電流の制御によりセル22からの水素ガス発生
量が、水素ガス供給管3を通じての水素ガス供給流量が
一定となるように制御されるため、流量の周期的変動等
を生じない。従って、水素ガスを極めて安定に連続供給
できることとなり、ガスクロマトグラフィに利用した場
合には、ベースライン等の変動を生じることもない。
生セル22から発生した水素ガスは、供給管3に導入さ
れ、水分離トラップ41.シリカゲル充填カラム42.
6を介して水素ガス供給口8へ供給されることとなるが
、前述したごとく、二つの圧力センサ5A、5Bを利用
した電解電流の制御によりセル22からの水素ガス発生
量が、水素ガス供給管3を通じての水素ガス供給流量が
一定となるように制御されるため、流量の周期的変動等
を生じない。従って、水素ガスを極めて安定に連続供給
できることとなり、ガスクロマトグラフィに利用した場
合には、ベースライン等の変動を生じることもない。
なお、かかる水素ガス供給装置においては、セル22や
トラップ41の内部圧力が限界値を超えないように圧力
センサ、ことに圧力センサ5Aの値により電解電流の供
給を停止させる制御回路が付設されていてもよい。また
電解電流が許容値を超えないようにリミッタ回路が付設
されていてもよい。とくに実用上、このような安全回路
を付設するのが好ましい態様である。
トラップ41の内部圧力が限界値を超えないように圧力
センサ、ことに圧力センサ5Aの値により電解電流の供
給を停止させる制御回路が付設されていてもよい。また
電解電流が許容値を超えないようにリミッタ回路が付設
されていてもよい。とくに実用上、このような安全回路
を付設するのが好ましい態様である。
(ト)発明の効果
この発明の水素ガス供給装置によれば、流量の周期的変
動や脈動等を生じることなく水素ガスを安定に連続供給
することができる。
動や脈動等を生じることなく水素ガスを安定に連続供給
することができる。
従って、一定の水素ガス流量が要求される種々の機器用
の水素ガス供給装置として有用であり、ことにベースラ
インの変動が問題となるガスクロマトグラフィーにおけ
るキャリアガス、あるいはFID、FPD、FTD等の
検出器用水素の供給手段として有用である。
の水素ガス供給装置として有用であり、ことにベースラ
インの変動が問題となるガスクロマトグラフィーにおけ
るキャリアガス、あるいはFID、FPD、FTD等の
検出器用水素の供給手段として有用である。
第1図は、この発明の一実施例の水素ガス供給装置を示
す構成説明図、第2図は同じくその要部の回路構成図で
ある。 l・・・・・・水素ガス供給装置、 2・・・・・・水電解式水素ガス発生手段、21・・・
・・・電流可変電源、 22・・・・・・水電解式水素発生セル、23・・・・
・・水槽、 24・・・・・・送液ポンプ、25・・
・・・・水循環流路、 3・・・・・・水素ガス供給管、 4・・・・・・水分除去手段、 41・・・・・・水分離トラップ、 42.6・・・・・・シリカゲル充填カラム、5A・・
・・・・第1圧カセンサ、 5B・・・・・・第2圧力センサ、 7・・・・・・制御部、 8・・・・・・水素ガス供
給口、9・・・・・・ボリューム、lO・・・・・・増
幅用アンプ、l!・・・・・・コンパレータ。
す構成説明図、第2図は同じくその要部の回路構成図で
ある。 l・・・・・・水素ガス供給装置、 2・・・・・・水電解式水素ガス発生手段、21・・・
・・・電流可変電源、 22・・・・・・水電解式水素発生セル、23・・・・
・・水槽、 24・・・・・・送液ポンプ、25・・
・・・・水循環流路、 3・・・・・・水素ガス供給管、 4・・・・・・水分除去手段、 41・・・・・・水分離トラップ、 42.6・・・・・・シリカゲル充填カラム、5A・・
・・・・第1圧カセンサ、 5B・・・・・・第2圧力センサ、 7・・・・・・制御部、 8・・・・・・水素ガス供
給口、9・・・・・・ボリューム、lO・・・・・・増
幅用アンプ、l!・・・・・・コンパレータ。
Claims (1)
- 1、電流可変電源を備えた水電解式水素ガス発生手段と
、この水素ガス発生手段から水分除去手段を介して延設
される水素ガス供給管と、この水素ガス供給管の途中に
所定間隔で付設された二つの圧力センサと、この圧力セ
ンサ各々の出力の差を検知し、かつこの出力差が所定値
に保たれるように上記水電解式水素ガス発生手段におけ
る電流可変電源の供給電流を制御しうる制御部とを備え
てなる水素ガス供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63304525A JPH02149690A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 水素ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63304525A JPH02149690A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 水素ガス供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02149690A true JPH02149690A (ja) | 1990-06-08 |
Family
ID=17934066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63304525A Pending JPH02149690A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 水素ガス供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02149690A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07506899A (ja) * | 1992-02-28 | 1995-07-27 | ザ ダウ ケミカル カンパニー | 膜式流体分離装置 |
KR100957219B1 (ko) * | 2007-11-20 | 2010-05-11 | 삼성전기주식회사 | 수소 발생 장치 및 이를 구비한 연료 전지 발전기 |
JP2011046979A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Honda Motor Co Ltd | 高圧水電解装置のシール検査方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5734493A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Tokyo Shibaura Electric Co | Handling device of neutron instrumentation tube |
JPS5734494A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Doryokuro Kakunenryo | Fast breeder cooling system |
JPS5848209A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-22 | Sony Corp | 情報信号有無判別回路装置 |
JPS60129618A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 同位体元素混合ガスの流量・組成測定方法 |
JPS6217486U (ja) * | 1985-07-18 | 1987-02-02 | ||
JPS6249163A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-03 | 松下電器産業株式会社 | 金属水素化物利用冷暖房給湯装置 |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP63304525A patent/JPH02149690A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5734494A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Doryokuro Kakunenryo | Fast breeder cooling system |
JPS5734493A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Tokyo Shibaura Electric Co | Handling device of neutron instrumentation tube |
JPS5848209A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-22 | Sony Corp | 情報信号有無判別回路装置 |
JPS60129618A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 同位体元素混合ガスの流量・組成測定方法 |
JPS6217486U (ja) * | 1985-07-18 | 1987-02-02 | ||
JPS6249163A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-03 | 松下電器産業株式会社 | 金属水素化物利用冷暖房給湯装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07506899A (ja) * | 1992-02-28 | 1995-07-27 | ザ ダウ ケミカル カンパニー | 膜式流体分離装置 |
KR100957219B1 (ko) * | 2007-11-20 | 2010-05-11 | 삼성전기주식회사 | 수소 발생 장치 및 이를 구비한 연료 전지 발전기 |
JP2011046979A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Honda Motor Co Ltd | 高圧水電解装置のシール検査方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0217005Y2 (ja) | ||
US5037518A (en) | Apparatus and method for generating hydrogen and oxygen by electrolytic dissociation of water | |
WO2004091279A3 (en) | Fuel cell power plant having a fuel concentration sensor cell | |
JP2014159543A (ja) | メタンガス濃縮装置 | |
US4097851A (en) | Sensitivity compensated fire detector | |
KR20010106255A (ko) | 다중-비율의 충전 특성을 가지는 가스 생성 시스템 | |
WO2018150562A1 (ja) | 電気伝導度検出器及びイオンクロマトグラフ | |
JPS5833037B2 (ja) | 活性汚泥排水浄化法及び装置 | |
JPH02149690A (ja) | 水素ガス供給装置 | |
US4622125A (en) | Oxygen concentration control system | |
US3617734A (en) | Detection system for monitoring gaseous components in air | |
JPS61279678A (ja) | 流量制御装置 | |
US1944804A (en) | Method and device for purifying aqueous liquids by treatment with chlorine | |
EP4306949A1 (en) | Electrochemical gas sensor, ozone generator, and humidifier | |
US4268367A (en) | Electrolytic process for the sterilization of liquids | |
JPS63214599A (ja) | 液化天然ガス気化設備の制御装置 | |
JPH0349185B2 (ja) | ||
JP2000193634A (ja) | 酸素濃度検出装置 | |
SU1017686A1 (ru) | Устройство дл автоматического управлени процессом нейтрализации кислых сточных вод | |
JPS60241667A (ja) | 燃料電池の負荷制御装置 | |
RU98102163A (ru) | Установка для обработки воды ионами серебра | |
JPH0679279A (ja) | アルカリイオン成水器 | |
JPS61202212A (ja) | レベル制御装置 | |
JPH0640591Y2 (ja) | 水素発生装置 | |
JPS61213402A (ja) | ボイラの燃焼空気量制御装置 |