JPH021494A - 有機錫化合物の除去方法 - Google Patents
有機錫化合物の除去方法Info
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- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 title abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- -1 silicate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B lithium magnesium sodium silicate Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Na+].[Na+].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3 XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B 0.000 abstract description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 abstract description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 abstract description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 abstract 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N butyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn]=O BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- SDTDHTCWRNVNAJ-UHFFFAOYSA-L dimethyltin(2+);diacetate Chemical compound CC(=O)O[Sn](C)(C)OC(C)=O SDTDHTCWRNVNAJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- ODOPKAJVFRHHGM-UHFFFAOYSA-N phenyltin Chemical compound [Sn]C1=CC=CC=C1 ODOPKAJVFRHHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L (z)-but-2-enedioate;dibutyltin(2+) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC ZBBLRPRYYSJUCZ-GRHBHMESSA-L 0.000 description 1
- BEOSQUOYHDCDNU-UHFFFAOYSA-L 4,4-dibutyl-1,3,2,4-dioxathiastannetane 2,2-dioxide Chemical compound CCCC[Sn]1(CCCC)OS(=O)(=O)O1 BEOSQUOYHDCDNU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PXMJCECEFTYEKE-UHFFFAOYSA-N Benzenepropanoic acid, 3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy-, methyl ester Chemical compound COC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 PXMJCECEFTYEKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000426 Microplastic Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYBDMPYGULOWLP-UHFFFAOYSA-N S1SCC=C1.C(CCC)[Sn]CCCC Chemical compound S1SCC=C1.C(CCC)[Sn]CCCC CYBDMPYGULOWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dioctyl)stannyl] acetate Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCCCCC CQQXCSFSYHAZOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YLFRJROMPGNJRP-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(3-sulfanylpropanoyloxy)stannyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound [O-]C(=O)CCS.[O-]C(=O)CCS.CCCC[Sn+2]CCCC YLFRJROMPGNJRP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 238000003321 atomic absorption spectrophotometry Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L copper;2-amino-3-[(2-amino-2-carboxylatoethyl)disulfanyl]propanoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C(N)CSSCC(N)C([O-])=O QUQFTIVBFKLPCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- WFLLPKDDXLHZLQ-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dioctyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](OCCCC)(OCCCC)CCCCCCCC WFLLPKDDXLHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UROKUKHYYXBCQE-UHFFFAOYSA-L dibutyl(diphenoxy)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Sn](CCCC)(CCCC)OC1=CC=CC=C1 UROKUKHYYXBCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N dimethyl(oxo)tin Chemical compound C[Sn](C)=O WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N dioctyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCC LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OCCN(C)C)C1=CC=CC=C1 ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYXRBVIJBDYNQU-UHFFFAOYSA-N diphenyl(sulfanylidene)tin Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](=S)C1=CC=CC=C1 CYXRBVIJBDYNQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCFJBIXMNOVSH-UHFFFAOYSA-N dyphylline Chemical group O=C1N(C)C(=O)N(C)C2=C1N(CC(O)CO)C=N2 KSCFJBIXMNOVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WDQNIWFZKXZFAY-UHFFFAOYSA-M fentin acetate Chemical compound CC([O-])=O.C1=CC=CC=C1[Sn+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WDQNIWFZKXZFAY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KGHLYBKDIPRXHA-UHFFFAOYSA-N octyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]=O KGHLYBKDIPRXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000010451 perlite Substances 0.000 description 1
- 235000019362 perlite Nutrition 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N tetrabutyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CCCC AFCAKJKUYFLYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N tetraphenylstannane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071127 thioglycolate Drugs 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機錫化合物の工業上有用な除去方法に関する
。
。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕モノおよ
びジ有機錫化合物は工業的に価値が高く、ポリ塩化ビニ
ル樹脂用安定剤、’ffa合成触媒、カチオン電着塗装
触媒またはそれらの合成中間体などとして多用され、ま
た、トリ有機錫化合物は農薬などの分野で重要な位置を
しめている。特に、近年、有機錫オキサイドはエステル
交換法などの有機合成反応において、触媒として重用さ
れている。
びジ有機錫化合物は工業的に価値が高く、ポリ塩化ビニ
ル樹脂用安定剤、’ffa合成触媒、カチオン電着塗装
触媒またはそれらの合成中間体などとして多用され、ま
た、トリ有機錫化合物は農薬などの分野で重要な位置を
しめている。特に、近年、有機錫オキサイドはエステル
交換法などの有機合成反応において、触媒として重用さ
れている。
ところで、これら有)a錫化合物を製造する場合には副
生ずる有機錫化合物を除去すること、また、有機合成反
応において触媒として使用する場合、生成した反応混合
物から除去することが必要である。しかしながら、有機
錫化合物を洗浄、濾過、蒸留、再結晶などの通常の方法
により除去することには種々の難点があった。
生ずる有機錫化合物を除去すること、また、有機合成反
応において触媒として使用する場合、生成した反応混合
物から除去することが必要である。しかしながら、有機
錫化合物を洗浄、濾過、蒸留、再結晶などの通常の方法
により除去することには種々の難点があった。
すなわち、有機錫化合物は通常、水不溶性または水難溶
性のため有機層に溶解しており、水洗浄のみによって反
応系から除去することはほとんど不可能である。また、
アルカリ水溶液を用いて対応する水酸化物にするなどし
て、溶媒に不溶性の化合物に変えて濾過する方法もある
が、水酸化物の粒子形が微細であり、濾過効率が悪<、
1j、過に長時間を要し、工業上問題である。このよう
なことから、蒸留操作により目的物を分取して、有機錫
化合物を残香として得る方法または再結晶などの手段に
より母液中に残す方法などが採られてきていた。ところ
が、これらの方法はいずれも特殊な装置を要することな
どの設備上の問題があり、また、有機錫化合物の除去率
、目的物の収率などの点で工業的に満足できる結果が得
られていないのが実状である。
性のため有機層に溶解しており、水洗浄のみによって反
応系から除去することはほとんど不可能である。また、
アルカリ水溶液を用いて対応する水酸化物にするなどし
て、溶媒に不溶性の化合物に変えて濾過する方法もある
が、水酸化物の粒子形が微細であり、濾過効率が悪<、
1j、過に長時間を要し、工業上問題である。このよう
なことから、蒸留操作により目的物を分取して、有機錫
化合物を残香として得る方法または再結晶などの手段に
より母液中に残す方法などが採られてきていた。ところ
が、これらの方法はいずれも特殊な装置を要することな
どの設備上の問題があり、また、有機錫化合物の除去率
、目的物の収率などの点で工業的に満足できる結果が得
られていないのが実状である。
−iに、有a錫化合物を触媒とする反応では目的物が好
収率、好品質で得られることから、特別な精製手段を用
いることなく、この触媒を除去することができれば、目
的物はそのまま製品として使用し得るのである。したが
って、本発明は有機錫化合物含有液から簡便かつ効率よ
く、有機錫化合物を除去する方法を提供することを目的
としている。
収率、好品質で得られることから、特別な精製手段を用
いることなく、この触媒を除去することができれば、目
的物はそのまま製品として使用し得るのである。したが
って、本発明は有機錫化合物含有液から簡便かつ効率よ
く、有機錫化合物を除去する方法を提供することを目的
としている。
上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討した
結果、吸着剤を用いて、有機錫化合物を吸着させること
により容易に有機錫化合物のみを除去し得ることを見出
し、本発明を完成させるに至った・ 本発明は、有機錫化合物含有液へ吸着剤を加えて、有機
錫化合物のみを吸着させ除去することを特徴とする有a
錫化合物の除去方法に関する。
結果、吸着剤を用いて、有機錫化合物を吸着させること
により容易に有機錫化合物のみを除去し得ることを見出
し、本発明を完成させるに至った・ 本発明は、有機錫化合物含有液へ吸着剤を加えて、有機
錫化合物のみを吸着させ除去することを特徴とする有a
錫化合物の除去方法に関する。
本発明を通用し得る有機錫化合物としては、有機錫ハラ
イド(有機錫ハライド、有機錫ブロマイド、有機錫アイ
オダイドなど)、有機錫ハライド、有Ja錫酸、有機錫
ハイドロオキサイド、有8!錫スルフイソド、有機錫メ
ルカプタン、有a SR硫酸塩、有機錫アルコキサイド
(アルコキサイド部は炭素数1〜8個のアルキル基を含
む)、有機錫カルボン酸、その塩(アルカリ金属、アル
カリ土類金属、銅、亜鉛、アルミニウムなどの塩)、も
しくはエステル(エステル部は炭素数1〜8個のアルキ
ル、アリール、アラルキル基を含む)または有機錫チオ
アルカン酸エステル(エステル部は炭素数1〜8個のア
ルキル基を含む)などが挙げられ、各々モノ−、ジーお
よびトリー有機錫化合物が含まれる。置換基としては炭
素数1〜8個のアルキル基(メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オク
チル、2−エチルヘキシル、l、l、3,3テトラメチ
ルブチルなどが挙げられ、特にブチル、オクチルが好ま
しい)、炭素数3〜7個のシクロアルキル(シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチ
ルなどが挙げられ、特にシクロヘキシルが好ましい)、
フェニル、置換フェニル(置換基としては、好ましくは
炭素数1〜8個のアルキル基が挙げられる)、アラルキ
ル(ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、2−フヱニ
ルヘキシル、ネオフィルなど)などの炭素数1〜18個
の炭化水素基を意味する。
イド(有機錫ハライド、有機錫ブロマイド、有機錫アイ
オダイドなど)、有機錫ハライド、有Ja錫酸、有機錫
ハイドロオキサイド、有8!錫スルフイソド、有機錫メ
ルカプタン、有a SR硫酸塩、有機錫アルコキサイド
(アルコキサイド部は炭素数1〜8個のアルキル基を含
む)、有機錫カルボン酸、その塩(アルカリ金属、アル
カリ土類金属、銅、亜鉛、アルミニウムなどの塩)、も
しくはエステル(エステル部は炭素数1〜8個のアルキ
ル、アリール、アラルキル基を含む)または有機錫チオ
アルカン酸エステル(エステル部は炭素数1〜8個のア
ルキル基を含む)などが挙げられ、各々モノ−、ジーお
よびトリー有機錫化合物が含まれる。置換基としては炭
素数1〜8個のアルキル基(メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オク
チル、2−エチルヘキシル、l、l、3,3テトラメチ
ルブチルなどが挙げられ、特にブチル、オクチルが好ま
しい)、炭素数3〜7個のシクロアルキル(シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチ
ルなどが挙げられ、特にシクロヘキシルが好ましい)、
フェニル、置換フェニル(置換基としては、好ましくは
炭素数1〜8個のアルキル基が挙げられる)、アラルキ
ル(ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、2−フヱニ
ルヘキシル、ネオフィルなど)などの炭素数1〜18個
の炭化水素基を意味する。
これら有機錫化合物としては、具体的にはたとえば、ジ
メチル錫オキサイド、ジブチル錫オキサイド、ジオクチ
ル錫オキサイド、ビス1、ジブチル錫オキサイド、モノ
ブチル錫オキサイド°、モツプチル錫酸、モノメチル錫
酸、モノオクチル錫酸、モノフェニル錫酸などの有機錫
酸化物、ジプチル錫スルフイソド、ジフェニル錫スルフ
イツトなどの有機錫硫化物、モノブチル錫トリクロリl
゛、ジブチル錫ジブロミト、モノフェニル錫トリプロミ
ドなどの有機錫ハロゲン化物、ジブチル錫スルフェート
などの有機錫硫酸塩、ジメチル錫ジアセテート、ジメチ
ル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、トリフ
ェニル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエートなどの有機
錫カルボン酸エステル、ジプチル錫チオグリコレート、
ジブチル錫β−メルカプトプロピオネート オアルカン酸エステル、ジブチル錫ジチオールなどの有
1ffiglメルカプタン、ジオクチル錫ジメトキサ・
イド、ジオクチル錫ジブトキサイド、ジブチル錫ジフェ
ノキサイドなどの有機錫アルコキサイドやフェノキサイ
ド、テトラブチル錫、テトラフェニル錫などのテトラア
ルキルまたはテトラアリール錫が挙げられるが、もちろ
んこれらに限定されるものではない。
メチル錫オキサイド、ジブチル錫オキサイド、ジオクチ
ル錫オキサイド、ビス1、ジブチル錫オキサイド、モノ
ブチル錫オキサイド°、モツプチル錫酸、モノメチル錫
酸、モノオクチル錫酸、モノフェニル錫酸などの有機錫
酸化物、ジプチル錫スルフイソド、ジフェニル錫スルフ
イツトなどの有機錫硫化物、モノブチル錫トリクロリl
゛、ジブチル錫ジブロミト、モノフェニル錫トリプロミ
ドなどの有機錫ハロゲン化物、ジブチル錫スルフェート
などの有機錫硫酸塩、ジメチル錫ジアセテート、ジメチ
ル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、トリフ
ェニル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエートなどの有機
錫カルボン酸エステル、ジプチル錫チオグリコレート、
ジブチル錫β−メルカプトプロピオネート オアルカン酸エステル、ジブチル錫ジチオールなどの有
1ffiglメルカプタン、ジオクチル錫ジメトキサ・
イド、ジオクチル錫ジブトキサイド、ジブチル錫ジフェ
ノキサイドなどの有機錫アルコキサイドやフェノキサイ
ド、テトラブチル錫、テトラフェニル錫などのテトラア
ルキルまたはテトラアリール錫が挙げられるが、もちろ
んこれらに限定されるものではない。
これら有機錫化合物含有液としては、有機錫化合物を製
造して得られる混合液、または有機錫化合物を触媒とし
て用いた反応により得られる混合液などがある。これら
は、通常有機溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類、クロロメタン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる)に溶解している。
造して得られる混合液、または有機錫化合物を触媒とし
て用いた反応により得られる混合液などがある。これら
は、通常有機溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類、クロロメタン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる)に溶解している。
有機錫化合物を吸着させために用いられる吸着剤として
は、合成シリカ塩、具体的には合成ケイ酸マグネシウム
または天然シリカ塩、具体的には酸性ケイ酸アルミニウ
ム(酸性白土)、またはシリカゲル、さらにはシリカア
ルミナ化合物などのケイ酸化合物が挙げられる。
は、合成シリカ塩、具体的には合成ケイ酸マグネシウム
または天然シリカ塩、具体的には酸性ケイ酸アルミニウ
ム(酸性白土)、またはシリカゲル、さらにはシリカア
ルミナ化合物などのケイ酸化合物が挙げられる。
有機錫化合物含有液へ吸着剤を添加し、約10分から数
時間、約30℃から約150℃に加熱することにより、
有機錫化合物の吸着剤表面への吸着が完了する。なお、
必要により濾過助剤(ケイソウ上、パーライト、セルロ
ース、アスベスト、プラスチック粒、マグネシア、セソ
コウ、活性炭、酸性白土、ツルカフロックなど)が使用
される。
時間、約30℃から約150℃に加熱することにより、
有機錫化合物の吸着剤表面への吸着が完了する。なお、
必要により濾過助剤(ケイソウ上、パーライト、セルロ
ース、アスベスト、プラスチック粒、マグネシア、セソ
コウ、活性炭、酸性白土、ツルカフロックなど)が使用
される。
吸着剤の使用量は有機錫化合物に対して、約20〜10
0部(重量)、好ましくは30〜70部(重量)でよく
、また、濾過助剤の有機錫化合物に対しての使用量は約
1〜10部(重量)、好ましくは3〜7部(重量)がよ
い。
0部(重量)、好ましくは30〜70部(重量)でよく
、また、濾過助剤の有機錫化合物に対しての使用量は約
1〜10部(重量)、好ましくは3〜7部(重量)がよ
い。
こうして得られた錫化合物の吸着剤は濾過などの簡便な
方法により、はぼ完全に分離することができる。また、
必要に応じて遠心沈降操作などにより得た上澄み液を濾
過するとより効果的である。
方法により、はぼ完全に分離することができる。また、
必要に応じて遠心沈降操作などにより得た上澄み液を濾
過するとより効果的である。
このようにして得た有機層は必要に じ、本発明を反復
実施することにより、有機錫化合物の濃度を低減させる
ことができる。
実施することにより、有機錫化合物の濃度を低減させる
ことができる。
本発明により有機錫化合物が除去された反応生成物液は
、そのまま目的物として使用できるし、再結晶、蒸留、
カラムクロマトグラフなどの常法により目的物を単離、
精製することができる。
、そのまま目的物として使用できるし、再結晶、蒸留、
カラムクロマトグラフなどの常法により目的物を単離、
精製することができる。
本発明を実施することにより、反応系がら不要な有機錫
化合物を10ppmの濃度にまで、はぼ完全に除去する
ことができ、また、特別な装置も不要であることから操
作もきわめて簡便であり、さらに目的物はほとんど除去
されないことから、工業的にすぐれた方法である。
化合物を10ppmの濃度にまで、はぼ完全に除去する
ことができ、また、特別な装置も不要であることから操
作もきわめて簡便であり、さらに目的物はほとんど除去
されないことから、工業的にすぐれた方法である。
以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、
本発明はこれらにより限定されるものではない。錫残存
量は原子吸光光度法によった。
本発明はこれらにより限定されるものではない。錫残存
量は原子吸光光度法によった。
実施例1
3−(3,5−ジ第3級ブチルー4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸メチル182.7g(0、625モル
)とペンタエリスリトール19.3 g(0,142モ
ル)およびジブチル錫オキサイド0.9 g (0,0
036モル)からテトラキス〔3(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシメ
チルコメタンを合成した。そのトルエン溶液300gへ
合成ケイ酸マグネシウム(水沢化学型)45gを加え、
室温で1時間撹拌する。濾過して有機層を分取した。錫
残存量は2ppmであった(除去率99.9%)。
ル)プロピオン酸メチル182.7g(0、625モル
)とペンタエリスリトール19.3 g(0,142モ
ル)およびジブチル錫オキサイド0.9 g (0,0
036モル)からテトラキス〔3(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシメ
チルコメタンを合成した。そのトルエン溶液300gへ
合成ケイ酸マグネシウム(水沢化学型)45gを加え、
室温で1時間撹拌する。濾過して有機層を分取した。錫
残存量は2ppmであった(除去率99.9%)。
実施例2
実施例1において、ジブチル錫オキサイドの代わりにモ
ノブチル錫オキサイドを使用する。錫残存量は6ppm
であった(除去率99.7%)。
ノブチル錫オキサイドを使用する。錫残存量は6ppm
であった(除去率99.7%)。
実施例3
3−(3,5−ジ第3級ブチルー4−ヒドロキシフェノ
ール)プロピオン酸メチル124.8g(0,427モ
ル)とオクタデシルアルコール8868g(0,328
モル)およびモノブチル錫オキサイド0.13g(0,
0007モル)からオクタデシル3− (3,5−ジ第
3級ブチル−4−ヒドロキジフェニル)プロピオネート
を製造した。その融解液214gへ合成ケイ酸マグネシ
ウム(水沢化学製)35gを加え、室温で0.5時間撹
拌する。
ール)プロピオン酸メチル124.8g(0,427モ
ル)とオクタデシルアルコール8868g(0,328
モル)およびモノブチル錫オキサイド0.13g(0,
0007モル)からオクタデシル3− (3,5−ジ第
3級ブチル−4−ヒドロキジフェニル)プロピオネート
を製造した。その融解液214gへ合成ケイ酸マグネシ
ウム(水沢化学製)35gを加え、室温で0.5時間撹
拌する。
濾過して有機層を分取した。錫残存量は3ppmであっ
た(除去率99.2%)。
た(除去率99.2%)。
Claims (3)
- (1)有機錫化合物含有液へ吸着剤を加え、有機錫化合
物のみを吸着させて除去することを特徴とする有機錫化
合物の除去方法。 - (2)吸着剤がケイ酸化合物であることを特徴とする請
求項1記載の方法。 - (3)吸着剤が天然シリカ塩、合成シリカ塩またはシリ
カアルミナ化合物であることを特徴とする請求項1記載
の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7283989A JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8090688 | 1988-03-31 | ||
JP63-80906 | 1988-03-31 | ||
JP7283989A JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH021494A true JPH021494A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26413972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7283989A Pending JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH021494A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0446174A2 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-11 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung eines Stabilisators für halogenhaltige Polymere |
CN104587975A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-06 | 北京大学深圳研究生院 | 一种生物吸附剂的制备方法以及生物吸附剂的应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5233619A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-14 | Technion Res & Dev Foundation | Method of direct preparation of nnacyl derivatives of alphaaaminoo gammaaketo acid and its new compound |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP7283989A patent/JPH021494A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5233619A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-14 | Technion Res & Dev Foundation | Method of direct preparation of nnacyl derivatives of alphaaaminoo gammaaketo acid and its new compound |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0446174A2 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-11 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung eines Stabilisators für halogenhaltige Polymere |
CN104587975A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-06 | 北京大学深圳研究生院 | 一种生物吸附剂的制备方法以及生物吸附剂的应用 |
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