JPH029890A - 有機錫化合物の除去法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は有機錫化合物の工業上有用な除去法に関する。

〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕モノおよ
びジ有機錫化合物は工業的に価値が高く、ポリ塩化ビニ
ル樹脂用安定剤、有機合成触媒、カチオン電着塗装触媒
またはそれらの合成中間体などとして多用され、また、
トリ有機錫化合物は農薬などの分野で重要な位置をしめ
ている。特に、近年、有機錫オキサイドはエステル交換
法などの有機合成反応において、触媒として重用されて
いる。

ところで、これら有機錫化合物を製造する場合には副生
ずる有機錫化合物を除去すること、また、有機合成反応
において触媒として使用する場合、生成した反応混合物
から除去することが必要である。しかしながら、有機錫
化合物を洗浄、濾過、蒸留、再結晶などの通常の方法に
より除去することには種々の難点があった。

すなわち、有機錫化合物は通常、水不溶性または水難溶
性のため有機層に溶解しており、水洗浄のみによって反
応系から除去することはほとんど不可能である。また、
アルカリ水溶液を用いて対応する水酸化物にするなどし
て、溶媒に不溶性の化合物に変えて濾過する方法もある
が、水酸化物の粒子形が微細であり、濾過効率が悪く、
濾過に長時間を要し、工業上問題である。このようなこ
とから、莫留操作により目的物を分取して、有機錫化合
物を残金として得る方法、または再結晶などの手段によ
り母液中に残す方法などが採られてきていた。ところが
、これらの方法はいずれも特殊な装置を要することなど
の設備上の問題があり、また、有機錫化合物の除去率、
目的物の収率などの点で工業的に満足できる結果が得ら
れていないのが実状である。

一般に、有機錫化合物を触媒とする反応では目的物が好
収率、好品質で得られることから、特別な精製手段を用
いることなく、この触媒を除去することができれば、目
的物はそのまま製品として使用しうるのである。したが
って、本発明は有機錫化合物含有液から簡便かつ効率よ
く、有機錫化合物を除去する方法を提供することを目的
としている。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討した
結果、鉱酸類または有機酸類を用いて水溶性の塩を形成
させ、有機錫化合物を水層へ抽出することにより容易に
有機錫化合物を除去し得ることを見出し、本発明を完成
させるに至った。

本発明は、有機錫化合物含有液へ鉱酸または有機酸水溶
液を加えて、生成する水溶性の塩を水層へ抽出し、除去
することを特徴とする有機錫化合物の除去法に関する。

本発明を通用し得るを機錫化合物としては、を機錫ハラ
イド（有機錫クロライド、有機錫クロライド、有機錫ア
イオダイドなど）、有機錫オキサイド、有機錫酸、有機
錫ハイドロオキサイド、有機スルフィド、有機錫メルカ
プタン、有機錫硫酸塩、有機錫アルコキサイド（アルコ
キサイド部は炭素数１〜８個のアルキル基を含む）、有
機錫カルボン酸、その塩（アルカリ金属、アルカリ土類
金属、銅、亜鉛、アルミニウムなどの塩）、もしくはエ
ステル（エステル部は炭素数１〜８個のアルキル、了り
−ル、アラルキル基を含む）または有機錫チオアルカン
酸エステル（エステル部は炭素数１〜８個のアルキル基
を含む）などが挙げられ、各々モノ−、ジーおよびトリ
ー有機錫化合物が含まれる。置換基としては炭素数１〜
８個のアルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル、２
−エチルヘキシル、１．１，３．３−テトラメチルブチ
ルなどが挙げられ、特にブチル、オクチルが好ましい）
、炭素数３〜７個のシクロアルキル（シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへブチルなど
が挙げられ、特にシクロヘキシルが好ましい）、フェニ
ル、置換フェニル（置換基としては、好ましくは炭素数
１〜８個のアルキル基が挙げられる）、アラルキル（ベ
ンジル、ベンズヒドリル、トリチル、２フエニルヘキシ
ル、ネオフィルなど）などの炭素数１〜１８個の炭化水
素基を意味する。

これら有機錫化合物としては、具体的には例えば、ジメ
チル錫オキサイド、ジメチル錫オキサイド、ジオクチル
錫オキサイド、ビストリブチル錫オキサイド、モノブチ
ル錫オキサイド、モツプチル錫酸、モノメチル錫酸、モ
ノオクチル錫酸、モノフェニル錫酸などの有機錫酸化物
、ジブチル錫スルフィフド、ジフェニル錫スルフィソド
などの有機錫硫化物、モノブチル錫トリクロリド、ジブ
チル錫ジブロミド、モノフェニル錫トリプロミドなどの
有機錫ハロゲン化物、ジブチル錫スルフェートなどの有
機錫硫酸塩、ジメチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジア
セテート、ジオクチル錫ジアセテート、トリフェニル錫
アセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジ
ラウレート、ジブチル錫マレエートなどの有機錫カルボ
ン酸エステル、ジブチル錫チオグリコレート、ジブチル
錫β−メルカプトプロピオネートなどの有機錫チオアル
カン酸エステル、ジブチル錫ジチオールなどの有機錫メ
ルカプタン、ジオクチル錫ジメトキサイド、ジオクチル
錫ジブトキサイド、ジブチル錫ジフェノキサイドなどの
有機錫アルコキサイドやフェノキサイド、テトラブチル
錫、テトラフェニル錫などのテトラアルキルまたはテト
ラアリール錫が挙げられるが、もちろんこれらに眼定さ
れるものではない。

これら有機錫化合物含有液としては、有機錫化合物を製
造して得られる混合液または有機錫化合物を触媒として
用いた反応により得られる混合液などがある。これらは
、通常有機溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、り００メタン、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、クロロヘンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素などが挙げられ、これらは水を含んでいて
もよい）に溶解している。

有機錫化合物と反応して水溶性の塩を形成させるために
用いられる酸としては鉱酸（塩酸、リン酸、硝酸）また
は有機酸（シュウ酸、クエン酸）が挙げられる。

錫化合物の水溶性塩は有機錫化合物含有液に、鉱酸また
は有機酸を添加し、約１０分から数時間、約３０℃から
約８０℃に加熱することにより生成される。なお、有機
酸の使用量は有機錫化合物に対して、約０．３〜１００
倍モル、好ましくは１〜５０倍モルでよく、また、水の
使用量は溶液量に対し約１〜１００重量％、好ましくは
３〜３０重量％がよい。

こうして生成した錫化合物の水溶性塩は分液操作により
、有機層に溶けている目的物からほぼ完全に分離するこ
とができる。このようにして得た有機層は必要に応じ、
本発明を反復実施することにより、有機錫化合物の濃度
を低減させることができる。

本発明により有機錫化合物が除去された反応生成物液は
、そのまま目的物として使用できるし、再結晶、蒸留、
カラムクロマトグラフなどの常法により目的物を単離、
精製することができる。

〔作用および発明の効果〕

本発明を実施することにより、反応系から不要な有機錫
化合物を１０ｐｐｍ以下の濃度にまで、はぼ完全に除去
することができ、また特別な装置も不要であることから
操作もきわめて簡便であり、さらに目的物はほとんど除
去されないことから、工業的に優れた方法である。

〔実施例〕

以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、
本発明はこれらにより限定されるものではない。錫残存
量は原子吸光光度法によった。

実施例１ ３−（３，５−ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸メチル１８２．７ｇ（０，６２５モル
）とペンタエリスリトール１９．３　ｇ（０，１４２モ
ル）およびモノブチルチンオキサイド０．９　ｇ　（０
，００３６モル）から、テトラキス〔３（３，５−ジ第
３級ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオ
キシメチルコメタンを合成した。そのトルエン１容液３
００ｇへ５％シュウ酸７５ｇ（０，０３０モル）を加え
、よく振盪する。

分液して有機層を分取した。錫残存量は７ｐｐｍであっ
た（除去率９９．７％）。

実施例２ ３−　（３，５−ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸メチル１２４．８ｇ（０、４２７モ
ル）とオクタデシルアルコール８８．８ｇ（０，３２８
モル）およびモノブチルチンオキサイド０．１３ｇ（０
，０００７モル）から、オクタデシル−３−（３，５−
ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ートを合成した。その融解液２１４ｇへ５％シュウ酸１
０．５ｇ　（０，００４モル）を加え、よく振盪した。

分液して有機層を分取した。錫残存量は４ｐｐｍであっ
た（除去率９９．０％）。

実施例３ 実施例１．２におけるシュウ酸の代わりに、塩酸、リン
酸、クエン酸を用いて同様に処理したところ、いずれも
錫除去率は９９．０％以上であった。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）有機錫化合物含有液へ酸の水溶液を加え、不要の
   錫化合物のみを選択的に水層へ抽出することを特徴とす
   る有機錫化合物の除去法。