JPH021421A - 3,3―ジメチルヘキス―5―エン―2―オン誘導体及びその製法 - Google Patents

3,3―ジメチルヘキス―5―エン―2―オン誘導体及びその製法

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JPH021421A
JPH021421A JP1014224A JP1422489A JPH021421A JP H021421 A JPH021421 A JP H021421A JP 1014224 A JP1014224 A JP 1014224A JP 1422489 A JP1422489 A JP 1422489A JP H021421 A JPH021421 A JP H021421A
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haloalkyl
hydrogen
halogen
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Jochen Wild
ヨヘン、ヴィルト
Thomas Liese-Sauer
トーマス、リーゼーザウアー
Norbert Goetz
ノルベルト、ゲツ
Hans Theobald
ハンス、テーオバルト
Bernd Wolf
ベルント、ヴォルフ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は以下の一般式(I) ハ H3CJ (式中、A及びBは上述の意味を存し、R”はヒドロキ
シ基或は公知のビレトロイド炭素残基を意味する)で表
されるビレトロイド乃至ビレトロイド中間生成物製造の
ために使用される。
(従来技術) 公知文献、例えばヨーロッパ特許出願公開95,047
号乃至西独特許出願公開3,441.370号公報には
、3−ビニル−1i!Jfi2.2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸が、以下の式(A )(式中、A及び
Bはそれぞれことにハロゲン或はハロアルキルを、Xは
水素或はハロゲンを、Hatは塩素或は臭素を意味する
)で表される化合物を出発材料として製造され得ること
が記載されている。しかしながら、この製造方法は化合
物(^)が加水分解し易いことと、若干の場合に目的物
を得難いことにおいて欠点がある。
以下の式(B) のβ−ヒドロキシケトンが「シンセシスJ  (Syn
thesis) 1981年、567−570頁に記載
されている。しかしながら、リチウムジイソプロピルア
ミンの存在下、−78℃におけるアルドール縮合による
その製造は、ことに工業的規模における反応に問題があ
る。
そこでこの分野における技術的WHi乃至本発明の目的
は、上記式(V)のビレトロイドを製造するための加水
分解し難い出発材料として効果的に使用することができ
、しかも簡単かつ廉価な方法で得られる化合物を提供す
ることである。
(発明の要約) しかるに、この技術的課題乃至本発明の目的は、上述し
た式(I)の新規な3.3−ジメチルへキス−5−工ン
−2−オン誘導体及びその製法により解決され乃至達成
され得ることが見出された。
(発明の構成) 式(りにおける各置換基はそれぞれ以下の通りである。
(^)は水素、ハロゲン、例えば弗素、塩素、臭素或は
沃素、ことに弗素、塩素或は臭素、C,−C。
のハロアルキル、好ましくはC3〜C4の弗素及び塩素
ハロアルキル、ことにCIala、CaHalas C
311altの或はC4Hals (各Halは相互に
無関係に塩素或は弗素を意味する)のようなC,−C,
の過ハロアルキル。具体的にはトリフルオルメチル、ト
リクロルメチル、ジクロルフルオルメチル、ジフルオル
クロルメチル、ペンタクロルエチル、ペンタフルオルエ
チル、ベルクロルブチルである。
(B)C1〜C4のハロアルキル、好ましくはC1〜C
4の弗素及び塩素ハロアルキル、ことにC11aL、C
2Hala、C3Ha17の或はC4Hale (各H
alは相互に無関係に塩素或は弗素を意味する)のよう
なC3〜C4の過ハロアルキル。具体的にはトリフルオ
ルメチル、トリクロルメチル、ジクロルフルオルメチル
、ジフルオルクロルメチル、ペンタクロルエチル、ペン
タフルオルメチル (X)水素或はハロゲン、例えば弗素、塩素、臭素、沃
素、ことに塩素或は臭素。
(R)水素或はアリールスルホニル、アルキルスルホニ
ルもしくはハロアルキルスルホニル、R′SO□−。た
だしR′はアリール、例えばフェニル、イナート基置換
フェニル、例えばノ10ゲン置換フェニル、シアン置換
フェニル、C1〜C4アルキル置1負フエニル、Cl〜
C4アルコキシ置換フェニル、具体的には例えばトリル
、p−クロルフェニル或はQ−ブロムフェニルを、R′
はまた分枝或は非分枝アルキル、例えばC,NC20の
アルキル、ことにC I”” C aのアルキル、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、インペンチ
ル、ことにメチル或はエチルを R Iはまた分枝或は
非分枝CI〜2oハロアルキル、ことにC.NC6のハ
ロアルキル、例えばC,〜CISのフルオルアルキル或
はクロルアルキル、ことにトリフルオルメチルを意味す
る。
本発明による式(I)の化合物は、貯蔵可能、蒸留可能
の、ことに式(^)の化合物と異なり加水分解に対して
安定な化合物である。
式( I )の3.3−ジメチルへキス−5−工ン−2
−オン誘導体を製造するための方法は以下の通りである
R及びXがそれぞれ水素である場合(vI求項■におけ
る式(IaL以下の反応式に示されるようi.:、l,
3−ジハロプロポキシ誘導体(II)を、ブレンステッ
ド酸と(n)に対して少なくとも等モル量の水との存在
下において、メチルイソプロピルケトン(III)と反
応させるのが有利である。
(ol          (ml         
        +fatこの方法の実用的可能性は、
前記した西独特許出願公開3,441,370号公報に
記載されている、トリハロゲ装置tfi3.3ージメチ
ルへキス−5−エン−2−オン誘導体の製法を参酌して
驚異的に高い。本発明による新化合物(’Ia)でなけ
れば、種々のハロゲン置換混合生成物が形成される。従
って、本発明反応の高い選択性ならびにヒドロキシケト
ン(Ia)の高収率は予見され得なかったものである。
化合物(Ia)の対加水分解安定性は有益である。これ
により、反応混合物中にα−ハロエーテル(II)がも
はや認められな(なるまで反応時間を調節し、しかも反
応条件下において目的化合物(I)は分解しないように
することが可能となるからである。
反応を行わせるため、化合物(II)及び(III)な
らびにブレンステッド酸11A及び水を任意の順序で混
合し、好ましくはIO乃至100℃、ことに30乃至7
0℃で反応させる。
十分に制御可能の定温反応を行わせるため、ことにモル
範囲以上のバッチで行う場合、ますケトン(■)、酸H
A及び水を導入し、混合物を反応温度まで加熱し、次い
で1,3−ジハロプロポキシ誘導体(n)を添加する。
式(n)の置換基R’は非分枝或は分枝C,〜Co。
アルキル、好ましくはC1〜C8ことにC I− C 
4アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル或は
tert−ブチル、アリール、ことにフェニル、1−ナ
フチル或は2−ナフチル、C7〜CaOアルアルキル、
例えばベンジル、フェネチル或はフェニル−n−プロピ
ルのようなフェニルアルキルである。
この基Pは反応条件下に不活性の置換基、例えばC,〜
C4アルキルを追加的に存することができる。
材料化合物(n)はヨーロッパ特許出願公開31,04
1号公報から部分的に公知であって、以下の反応式によ
り、対応するビニルエーテル(Vl) 、!:ハロ炭化
水素(■)から高収率で得られる。
(v+l      (vHl           
      (o)反応は慣用の遊離基開始剤の存在下
、或は照射により0乃至120℃、ことに10乃至70
℃の温度で、不活性溶媒の存在或は不存在下に行われる
この化合物(n)はメチルイソプロピルケトン(III
)との反応のため、蒸留による溶媒の除去或は精製を行
うことなくそのまま使用され得る。これが本発明方法の
ことに好ましい実施態様である。これによりα−ハロエ
ーテル(n)の取扱いを最小限に保ち得る゛からである
もちろん化合物(II)を精製して、或は不活性溶媒、
例えば不活性ハロ炭化水素、ことに後続反応のため化合
物(n)の合成に使用されるハロ炭化水素に溶解させて
使用することも可能である。
(n)と(m)の反応を行わせるための溶媒の添加は絶
対的に必要ではないが、反応条件下に不活性の溶媒、例
えばハロ炭化水素、ことにテトラクロルメタン、メチレ
ンクロリド、トリフルオルトリクロルエタン、クロロホ
ルム、ペンタフルオルトリクロルプロパン エン、キシレン、ペンタン、ヘキサンのような炭化水素
を添加することができる。
適当な酸H^は塩酸、臭素酸或は硫酸のような無機酸で
あって、無水形態で使用することもできるが、水溶液と
して使用するのが好ましい。
またを機酸H^、例えば蟻酸、醋酸、プロピオン酸のよ
うなカルボン酸、しゆう酸のようなジカルボン酸、メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−)ルエンスル
ホン酸のようなスルホン酸を使用することもできる。ま
た酸性イオン交換樹脂を使用することも可能である。
酸HAは反応の過程で消費されるものではなく、反応に
際して当量のハロゲン化水素を形成するので、その使用
量は臨界的でない。しかしながら、誘導期の遷延を回避
するため、(■)に対して少なくとも10モル%から1
0モル当量の酸H^を使用するのが好ましい。それ以上
の使用は可能であるが、経済的でない。
水の使用量は少なくとも1モルでなければならないが、
反応混合物中の生成ハロゲン化水素酸を吸収するため、
これより過剰量を使用するのが好ましい。(n)に対し
て一般に1乃至100モル、ことに2乃至50モル″が
使用される。
(II)及び(III)は一般に等モル比で使用□され
るが、(■)を過剰量使用することもで″きる。
(n)の過剰量使用は、副生物の形成及びα−ハロエー
テル(II)の毒性から不適当である。過剰量の(II
I)は反応後の蒸留により目的生成物から簡単に除去さ
れ得る。
式(I)中、Rが水素であるβ−ヒドロキシケトンは、
慣用の方法によりRがアリールスルホニル、アルキルス
ルホニル或はハロアルキルスルホニルであるβ−ヒドロ
キシケトン(I)に変換され得る。これは前者を式(f
V )、R’ −SO2−Hal C式中 、Reは前
述の意味を有し、Halは弗素、塩素或は臭素、ことに
塩素を意味する)のハロゲン化スルホニルと塩基の存在
下に反応させることにより行われる。
使用される塩基はハロゲン化スルホニルの加水分解をも
たらさないものであれば慣用のいかなる剤でもよい。好
ましいのは、3級アミン、ことにCI−Ca)リアルキ
ルアミン或はピリジン乃至アルキル置換ピリジンのよう
な塩基性へテロ芳香族化合物゛である。
例えば以下のようなアミン、すなわちトリメチルアミン
、トリエチルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、ピリジン或は2.3−もしくは4
−メチルビリジンのような置換ピリジン或は2.6−ジ
メチルピリジンのようなジメチルピリジンが使用される
塩基の使用量は、(■)に対して少なくとも1モル当量
であるが、(I)の1モルに対して若干過剰量、例えば
1.05乃至1.1モルを使用するのが好ましい。
例えば4−(N.N−ジメチルアミノ)ピリジンのよう
なアシル化触媒を、触媒的1、例えば0、01乃至1モ
ル%添加するのが好ましい。
反応は溶媒の存在或は不存在下に行われる。適当な溶媒
はベンゼン、トルエン或は石油エーテルのような炭化水
素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素のような
塩化炭化水素、ジオキサン、 TFIFのようなエーテ
ル或は塩基自体である。
式(I)のXがハロゲンである化合物は、とのXが水素
である化合物(I)を、不活性溶媒の存在或は不存在下
において、ハロゲン化剤と反応させて得られる。使用さ
れ得るハロゲン化剤は塩素、臭素、塩化スルフリル、臭
化スルフリル或はN−ハロゲン化物、例えばN−ブロム
スクシンイミド(NBS) 、N−クロルスクシンイミ
ド(NCS)である。
反応は慣用の聾様で不活性希釈剤中において行われる。
これは、例えばメチレンクロリド、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロルエタン、高塩化炭化水素のような塩化
炭化水素、醋酸のようなカルボン酸、或は石油エーテル
のような脂肪族炭化水素である。
ハロゲン化は必要に応じて触媒、例えば塩化水素、臭化
水素のようなハロゲン化水素或は塩化アルミニウム、塩
化亜鉛、臭化アルミニウムのようなルイス酸の存在下に
行われる。
反応温度は+70°Cを晟えるべきでなく、好ましいの
は−10乃至+35°Cである。
一般に最大限1当量までのハロゲン化剤が添加されるが
、さらに分子のハロゲン化が生ずるのを防止するため理
論量以下の量を使用することもできる。仔利なハロゲン
化剤使用量は0.8乃至1モルである。
Xがハロゲンであり、Rがアリールスルホニル、アルキ
ルスルホニル或ははハロアルキルスルホニルである化合
物(I)は、塩基性条件下において2.2−1メチルン
ク口プロパン−1−カルボン酸及びその誘導体に転換さ
れ得る。
遊離カルボン酸が得られるか、或は所望のエステルが得
られるかは、環化過程において採用される塩基性条件に
依存することが見出された。
遊離カルボン酸は水酸化アルカリ金属或は水酸化アルカ
リ土類金属、例えばナトリウム、カリウム、リチウム、
カルシウム或はバリウムの各水酸化物を使用する際に得
られる。コストの観点から水酸化カリウム及び水酸化ナ
トリウムが好ましい。
しかしながら、水酸化ナトリウム及びカリウム−ter
t−ブチラードのような強塩基の存在下に、アルコキシ
ド乃至その他のフェノキンド或はアルコール、フェノー
ルが使用される場合には、これらアルコール乃至フェノ
ールの2,2−ジメチル−1−カルボン酸エステル(V
)が得られる。
適当なアルコールは、 1、分岐或は非分岐のC,−C,炭素鎖を存するアル)
−ル、例えばメタノール或はエタノール。
2、下記の式(B) で表されるアルコール。ただし、式中Stは二価酸素基
、二価硫黄基或はビニレン、 S2、SO及びS4はそれぞれ他と無関係に、水素、C
+〜C4アルキル、ハロゲン、CIA−04アルコキン
、ハロアルキル、ハロアルキル ン、フェニル、フェノキン、ベンジル及びフェニルチオ
の何れかであり、或はs2、s3及びS4のうちの何れ
か2個が相結合して、S2、S3及びS4がフェニル環
(ハロゲン、Cl−C4アルコキン及びc、〜c4アル
キルから選ばれる1乃至3個の置換基により置換される
ことができる)を合作する場合には、フェニル環の隣接
する2個の環炭素原子に結合される二価メチレンジオキ
シ基を形成する。
3、下記の式(C) で表されるアルコール。ただし、式中Uはハロゲン、C
1〜C4アルキル、C,−C,アルコキン、Cl−C4
アルキルチオ、C,−C4−アルキルスルホニル、トリ
フルオルメチル、3.4−メチレンツオキシ、塩素、弗
素或は臭素を、nは1或は2を、Wは水素、塩素或は弗
素を意味する。
4、下記の式(D) で表されるアルコール。ただし、式中SISは水素、C
8〜C4アルキル、Cl−C4アルコキシ、C0〜C4
アルケニル、Cl−C4アルケニルオキシ、フェニル或
はベンジルを、Saは水素、ハロゲン、C,−C4アル
キル、C8〜C4アルコキシ、C,#C4アルケニル、
C1〜C4アルケニルオキシ、Cl−C4アルキルチオ
、フェニル、フェノキシ、ベンゾイル、ニトロ或はシア
ノを意味する。
5、下記の式(E) を、nは3或は4を意味する。
式(IV)の生物学的活性ビレトロイドの製造について
ことに好ましいアルコールは、上記2乃至5のタイプで
ある。
これらアルコールの典型的な具体例は以下の通りである
で表されるアルコール。ただし、式中Zは水素、ハロゲ
ン、Cl−C4アルキル、Cl−04アルケニル、ベン
ジル、C1〜C4アルコキシ、C+〜C4アルケニルオ
キシ、C1〜C4アルキルチオ、アルキルスルホニル、
アルキルスルフィニル、トリフルオルメチル、アルキル
チオメチル、アルキルチオメチル、フェノキシ、ジアル
キルアミノメチル、ジアルキルアミノ、モノアルキルア
ミノ、アリールオキシアルキル或はアルケニルオキシア
ルキル適当なフェノールは例えば下記の構造(F)を何
する化合物である。ただし、式中Vは塩基性反応条件下
に安定である基であれば任意のものでよく、nは0乃至
5である。
■は、相互に無関係に、弗素或は塩素のようなハロゲン
、メチル、エチル、プロピル、ブチルのようなC8〜C
4アルキル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シのようなC1〜C4アルコキシ及びフェノキシ、こと
にp−もしくはm−フェノキシを意味する。
水酸化物が使用される場合、反応は水及び/或は不活性
希釈剤中で行なうのが好ましい。この目的のために適当
なものとしては、例えばメタノール、エタノール、te
rt−ブチルのようなアルコール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル、アセトン、ジメチルホルムアミドのようなケト
ンが挙げられる。しかしながら、また相転移触媒の存在
或は不存在下に、メチレンクロリド、石油エーテル、ジ
シクロヘキサン、トルエン、クロルベンゼンのような水
と混和され得ない溶媒を使用することも可能である。
アルコキシドが使用される場合には、反応は相応するア
ルコール或は不活性溶媒、例えばジオキサン或はTHF
のようなエーテル中で行うのが最も好ましい。
式(I)の出発材料1モルに対して、少なくとも2当量
のヒドロキシド、アルコキシド、フェノラートが使用さ
れる。一般的には3当量までの過剰量を使用するのが有
利である。(I)1モルに対し2乃至5モルを使用する
のが一般であって、さらに大爪の使用も可能であるが、
何の利点もない。
反応温度は比較的広い範囲で選ばれ得るが、反応は以外
にも極めて穏和な条件下に進行する。温度は一般に0乃
至150℃、ことに30乃至70℃が好ましい。
酸を得るのであれば、反応混合物はアルカリpHにおい
て抽出し、水性相を酸性化し、抽出をさらに行って処理
するのが好ましい。エステルを得るのであれば、精製は
蒸留により行う。あらかじめ反応混合物は水で希釈し%
 I)Hを中性とし、抽出に付される。
上述条件下において精製物は、約25ニア5乃至35:
65の割合において、酸或はエステル(V)のシス/ト
ランス混合物である。
式(I)の新規の3,3−ツメチルへキス−5−エン−
2−オン誘導体は、農薬、ことに殺虫剤、例えば米国特
許4,332.815号、同4.235.927号明細
書、ヨーロッパ特許出願公告3.336号、英国特許出
願公開2.000.764号、ヨーロッパ特許出願公開
31.199号、同200.943号各公報、ヨーロッ
パ特許145.179号明細書に記載されているような
CF3/CI酸組成を何するビレトロイドを合成する任
用な中間精製物である。
以下の実施例は零発をさらに詳細に説明するものであっ
て、ここに示される生成物の純度はガスクロマトグラフ
ィーで測定されたものである。
(A)出発材料(n)の製造 実施例1 (1−(n−ブトキシ)−1,3,3−)リフ1:lル
ー41 4,4−)リフルオルペンタン)。
1.1.1−トリクロル−2,2,2−トリフルオルペ
ンタン2 、06 kg及びアゾビスイソブチルニトリ
ル9.16gを還流下にn−ブチルビニルエーテルと混
合した。混合物をさらに6時間還流し、次いで未反応ペ
ルハロアルカンを減圧下に蒸留除去した。生成残渣には
生成物1.05kgが含有されていた。収率は理論量の
80%。
(B)本発明による化合物(I)の製造実施例2 (6−クロル−3,3−ジメチル−4−ヒドロキシ−7
,7,7−)リフルオルーヘプトー5−エンー2−オン
) 1−(n−ブトキン’) −1,3,3−)リクロルー
4.4.4−)リフルオルプロパン759g(2,6モ
ル)及びメチルイソプロピルケト7681g (7,9
モル)を、55°Cにおいて2時間にわたり濃塩酸20
01と混合した。この混合物を55℃においてさらに3
0分間撹拌し、次いで水で希釈し、有機相を分離した。
未反応メチルイソプロパツールケトンの除去を、蒸留、
次段減圧蒸留により行い、生成物580gを得た。収率
は理論量の90%。純度は96.7%。
実施例3 (6−クロル−3,3−ジメチル−4−メタンスルホニ
ルオキシ−7,7−7−)リフルオルーヘプトー5−エ
ン−2−オン) 6−クロル−3,3−ジメチル−4−ヒドロキシ−7,
7,7−)リフルオルーヘプトー5−エン−2−オン7
33g (3モル)、トリエチルアミン360g (3
,6モル)及び4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン!、5gを、トルエン1ノ中5℃においてメタンスル
ホニルクロリド378g (3,6モル)と混合した。
この混合物を25℃においてさらに3時間攪拌し、沈澱
物をibl別し、濾液を希塩酸及び飽和重炭酸ナトリウ
ム溶液で抽出した。有機相を乾爆し、濃縮して生成物9
48gを得た。融点50〜52℃。収率は理論量の97
.9%。純度は98.7%。
実施例4 (1−ブロム−6−クロル−3,3−ジメチル−4−メ
タンスルホニルオキシ−7 リフルオルーヘプトー5ー工ン−2−オン)6−クロル
−3,3−ジメチル−4−メタンスルホニルオキシ−7
、7.7−)リフルオルーヘプトー5ーエン−2−オン
720g ( 2.2モル)を、クロロホルム2ノ中、
20°Cにおイテ、臭素360g(2.2モル)と混合
した。混合物を20″Cにおいてさらに2時間撹拌し、
次いで濃縮した。生成物781gを得た。収率は理論量
の87.2%。純度は82%で、■。
■ージブロムー6ークロルー3,3−ジメチル−4−メ
タンスルホニルオキシ−7、7.7−)リフルヘプトー
5ーエノン2.3%及び未反応出発材料15.7%が混
在。
出発材料は実施例6において後述するように回収し、臭
素化のために■使用可能である。
実施例5 (α−ハロエーテルの14mなしの合成)1、1−)ジ
クロル−2.2.2−1−リフルオルエタン1687g
 ( 9モル)及びインブチルビニルエーテル750g
 ( 7.5モル)を、アゾビスイソブチルニトリル7
gと混合し、混合物を4時間還流に付した。ガスクロマ
トグラフィー分析により、この混合物はα−クロルエー
テル66%を含有することが認められた。
この混合物をさらに精製することなく、メチルイソプロ
ピルケトン1.9g(22モル)及び50%ln塩酸3
ノから成る50℃の溶液に添加し、ガスクロマトグラフ
ィーによりα−クロルエーテルが認められなくなるまで
60℃において撹拌した。反応混合物を水で希釈し、有
機相を分離、乾燥、蒸留した。第1カツトは未反応トリ
クロルトリフルオルエタン及びメチルイソプロピルケト
ンならびに目的生成物のインブタノールを含宵するが、
これらは精留により分離され得る。
主留分は1 、19 kgの生成物から成るものであっ
た。収率はビニルエーテルに対して理論量の65%。純
度は98.7%。
(C)2.2−ジメチルシクロプロピル−1−カルホー
1− ’/ル酸及びそのエステルの製造実施例6 (3−(2−クロル−3,3,3−トリフルオルプロプ
−1−エン−1−イル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸) 1−ブロム−6−クロル−3,3−ジメチル−4−メタ
ンスルホニルオキシ−7,7,7−)リフルオルヘブト
ー5−エンー2−オン602g (1,5モル)及び6
−クロル−3,3−ジメチル−4−メタンスルホニルオ
キシ−7 オルヘプトー5ー工ン−2−オンI15g(0.35モ
ル)を含をする、実施例4により得られた混合物を、水
酸化ナトリウム10%水溶液1.2中、70〜80℃に
おいて、澄明溶液がもたらされるまで約15分間撹拌し
た。
この混合物を冷却し、メチレンクロリドで抽出した。抽
出物を乾燥、濃縮して、実施例4に記載の臭素化を行う
ために使用される6−クロル−3、 3−ジメチル−4
−メタンスルホニル−7。
7、7−)リフルオルヘプトー5ー工ン−2−オン10
5gが回収された。
水性アルカリ相を塩酸で酸性化し、沈澱生成物をメチレ
ンクロリドで抽出分離して、シス−3−(Z−2−クロ
ル−3.3.3−)リフルオルプロプー1ー工ンー1ー
イル)−2.2−ジメチルシクロプロパンカルポンa 
92gと、トランス−3− (Z−2−クロル−3.3
.3−)リプルオルプロプ−1−工ンー1ーイル)−2
.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸206gを合
作する結晶体341gを得た。収率は理論量の82%。
実施例7 (3−フェノキシベンジル−3−(2−クロル−3.3
.3−)リフルオルプロプー1ーエンー1ーイル)−2
.2−ジメチルシクロプロパンカルボキシラート) ジオキサン50mlに溶解させた3−フェノキシベンジ
ルアルコール66 501に溶□解させたナトリウムヒドリド7、2g(0
.1モル)゛に′80℃において滴下添加.した。混合
物を80°Cにおいてガス発生が終息するまで撹拌した
。次いで混合物を25℃に冷却し、これにジオキサン5
01に1−ブロム−6−クロル−3.3−ジメチル−4
−メタンスルホニルオキシ−7.7.7−)リフルオル
ヘプトー5ーエンー2ーオン40.2g(0.1モル)
を溶解させた溶液を滴下添加した。
2時間後、室温においてこの混合物を水に注下し、水性
混合物をメチレンクロリドで抽出した。
過剰アルコールを減圧蒸留により(シリカゲルクロマト
グラフィーでも可)生成物から分離して、回収フェノキ
シベンジルアルコール40gと、3′−フェノキシベン
ジル−3− (2−クロル−3。
3、3−トリフルオルプロプ−1−工ン−1−イル)−
2.2−ジメチルシクロ−3.3.3−)リフルオルプ
ロプー1ーエンー1ーイル)−2。
2−ジメチルシクロプロパンカルボキシラート24、3
gとを得た。収率は理論量の57%。
実施例8 (メチル−3−(2−クロル−3.3.3−)リフルオ
ルプロプー1ーエンー1ーイル)−2−ジメチルシクロ
プロパンカルボキシラート)ナトリウムメトキシドの3
0%メタノール溶液90gを、メタノール1θ01中1
−ブロム−6−クロル−3.3−ジメチル−4−メタン
スルホニルオキシー7.7.7−1リフルオルヘプト−
5−エン−2−オン40g (0,1モル)に滴下添加
した。この混合物を、出発材料がガスクロマトグラフィ
ーでもはや認められなくなるまで(約4時間を要する)
、50°Cに加熱した。次いで混合物を水に注下し、こ
の水性混合物をIN塩酸でpH7とし、メチレンクロリ
ドで抽出した。残渣の蒸留により生成物18.4gを得
た。収率は理論量の72%。
代理人弁理士  1)代 然 治

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)以下の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表され、式中Aが水素、ハロゲン或はC_1〜C_4
    ハロアルキル、BがC_1〜C_4ハロアルキル、Xが
    水素或はハロゲン、Rが水素、アリールスルホニル、ア
    ルキルスルホニル或はハロアルキルスルホニルを意味す
    る3,3−ジメチルヘキス−5−エン−2−オン誘導体
  2. (2)以下の一般式( I a) ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) で表され、式中Aが水素、ハロゲン或はC_1〜C_4
    ハロアルキル、BがC_1〜C_4ハロアルキルを意味
    する3,3−ジメチルヘキス−5−エン−2−オン誘導
    体の製法であって、以下の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表され、A及びBが上記したものを意味し、Yが臭素
    或は塩素、R^1がC_1〜C_2_0アルキル、アリ
    ール或はC_7〜C_2_0アルアルキルを意味する1
    ,3−ジハロプロポキシ誘導体を、ブレンステッド酸と
    (II)に対して少なくとも等モル量の水との存在下にお
    いて、イソプロピルメチルケトン(III)と反応させる
    ことを特徴とする製法。
  3. (3)以下の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表され、式中A、B及びXが請求項( I )に記載さ
    れた意味を有し、Rがアリールスルホニル、アルキルス
    ルホニル或はハロアルキルスルホニルを意味する3,3
    −ジメチルヘキス−5−エン−2−オン誘導体の製法で
    あって、Rが水素である一般式( I )の3,3−ジメ
    チルヘキス−5−エン−2−オン誘導体を、塩基の存在
    下において、以下の一般式(IV) R′−SO_2−Hal(IV) で表され、式中Halが弗素、塩素或は臭素、R′がア
    ルキル、アリール或はハロアルキルを意味する、スルホ
    ニルハロゲン化物と反応させることを特徴とする方法。
  4. (4)以下の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表され、式中A、B及びRが請求項(1)に記載され
    た意味を有し、Xがハロゲンを意味する、3,3−ジメ
    チルヘキス−5−エン−2−オン誘導体の製法であって
    、3,3−ジメチルヘキス−5−エン−2−オン誘導体
    ( I )(ただし式中Xは水素を意味する)をそれ自体
    公知慣用の方法でハロゲン化することを特徴とする製法
JP1014224A 1988-01-27 1989-01-25 3,3―ジメチルヘキス―5―エン―2―オン誘導体及びその製法 Pending JPH021421A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5576087A (en) * 1992-09-18 1996-11-19 Canon Kabushiki Kaisha Magneto-optical recording medium

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106916107B (zh) * 2015-12-28 2019-11-05 联化科技(上海)有限公司 一种吡唑类化合物的制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2957889A (en) * 1956-08-01 1960-10-25 Union Carbide Corp Beta-alkoxycarbonyl compounds and process for manufacture of same
DE3361336D1 (en) * 1982-05-05 1986-01-09 Bayer Ag Process for the preparation of 3-vinyl-substituted 2,2-dimethyl-cyclopropane-1-carboxylic acids or their esters, and intermediate products therefor
DE3216790A1 (de) * 1982-05-05 1983-11-10 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von 3-(2-arylvinyl)-2,2-dimethyl-cyclopropan-1-car- bonsaeure bzw. ihren estern und neue zwischenprodukte dafuer
DE3441370A1 (de) * 1984-11-13 1986-05-22 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von halogenierten 3,3-dimethyl-5-hexen-2-onen

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5576087A (en) * 1992-09-18 1996-11-19 Canon Kabushiki Kaisha Magneto-optical recording medium

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DE3802273A1 (de) 1989-08-03
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US4939303A (en) 1990-07-03

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