JPH02141597A - スルーホールめっき前処理方法 - Google Patents
スルーホールめっき前処理方法Info
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- JPH02141597A JPH02141597A JP29573788A JP29573788A JPH02141597A JP H02141597 A JPH02141597 A JP H02141597A JP 29573788 A JP29573788 A JP 29573788A JP 29573788 A JP29573788 A JP 29573788A JP H02141597 A JPH02141597 A JP H02141597A
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 16
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 10
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 6
- -1 accelerator Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 abstract 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/422—Plated through-holes or plated via connections characterised by electroless plating method; pretreatment therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプリント配線板のスルーホールめっきの前処理
方法に関する。
方法に関する。
2、脱気処理が脱脂、銅面粗化、硫酸浸漬、キャタリス
ト、アクセレータ及び水洗処理の1部又は全部から成る
液体浸漬処理工程で行われる請求項1記載のスルーホー
ルめっき前処理方法。
ト、アクセレータ及び水洗処理の1部又は全部から成る
液体浸漬処理工程で行われる請求項1記載のスルーホー
ルめっき前処理方法。
プリント配線板では回路間を電気的に接続するためスル
ーホールめっきを行っている。スルーポールめっきの前
処理方法は例えば日本めっき技術研究会線、実用めっき
(1)第502真にあるように脱脂→水洗→銅面粗化→
水洗→硫酸浸漬→水洗→キャタリスト→水洗→アクセレ
ーター→水洗が主要工程でありこの前処理の後にスルー
ホールに対する無電解銅めっきを行う。
ーホールめっきを行っている。スルーポールめっきの前
処理方法は例えば日本めっき技術研究会線、実用めっき
(1)第502真にあるように脱脂→水洗→銅面粗化→
水洗→硫酸浸漬→水洗→キャタリスト→水洗→アクセレ
ーター→水洗が主要工程でありこの前処理の後にスルー
ホールに対する無電解銅めっきを行う。
前処理の最も重要な目的の1つが上記キャタリスト工程
によるめっき触媒の付与であり、触媒が付着しない場合
はその部分にめっきが析出せずめっきボイド不良となっ
てしまう。またスルーホール内に気体が残っていてめっ
き液がスルーホール内に浸入しない場合もめっきボイド
不良となる。
によるめっき触媒の付与であり、触媒が付着しない場合
はその部分にめっきが析出せずめっきボイド不良となっ
てしまう。またスルーホール内に気体が残っていてめっ
き液がスルーホール内に浸入しない場合もめっきボイド
不良となる。
これらの原因として処理液のぬれ不良があり、ぬれを良
くするためにスルーホール内の気体を除去することが重
要である。
くするためにスルーホール内の気体を除去することが重
要である。
現在、揺動以外の特別なスルーホール内気体除去方法は
一般的ではない。しかし、配線の高密度化に伴いスルー
ホール径が小さく、板厚が大きくなり、従ってプリント
配線板の穴のアスペクト比(板厚/スルホール径)が大
きくなる傾向にある。
一般的ではない。しかし、配線の高密度化に伴いスルー
ホール径が小さく、板厚が大きくなり、従ってプリント
配線板の穴のアスペクト比(板厚/スルホール径)が大
きくなる傾向にある。
このため、スルーホール内の気体を除去することがより
困難になる。特に、アスペクト比が3以下、スルーホー
ル径が0.5 u++++以下となるとスルーホール内
に銅が析出しないめっきボイドが発生しゃずくなりボイ
ドが大きい場合断線不良になるという問題がある。
困難になる。特に、アスペクト比が3以下、スルーホー
ル径が0.5 u++++以下となるとスルーホール内
に銅が析出しないめっきボイドが発生しゃずくなりボイ
ドが大きい場合断線不良になるという問題がある。
めっきボイドの対策としては特開昭53−46781号
公報あるいは、特開昭53−46702号公報にあるよ
うに基板に低周波振動あるいは機械的衝撃を与える方法
がある。しかし、めっきボイドの発生率が2X10−5
%程度であり約104個のスルーホールを有するプリン
ト配線板にとってはまだ不充分である。
公報あるいは、特開昭53−46702号公報にあるよ
うに基板に低周波振動あるいは機械的衝撃を与える方法
がある。しかし、めっきボイドの発生率が2X10−5
%程度であり約104個のスルーホールを有するプリン
ト配線板にとってはまだ不充分である。
また、特開昭62−232190号公報にあるようにス
ルーホール内に水又は水に可溶な液体の飽和蒸気を満た
し、次に飽和蒸気を水に溶解させることによりスルーホ
ール内の気体を除去する方法がある。
ルーホール内に水又は水に可溶な液体の飽和蒸気を満た
し、次に飽和蒸気を水に溶解させることによりスルーホ
ール内の気体を除去する方法がある。
この方法ではめっきボイドの発生率が2.5 X 10
4%以下であり、より効果が大きくなっている。
4%以下であり、より効果が大きくなっている。
しかし、蒸気源として水を使うため基板を100°C近
い水蒸気又は水にさらすことになり、基板が吸水し耐熱
性が低下する恐れがある。また、めっきレジストを使用
するパターンめっきにはレジストの耐熱性が劣るため適
用が困難である。
い水蒸気又は水にさらすことになり、基板が吸水し耐熱
性が低下する恐れがある。また、めっきレジストを使用
するパターンめっきにはレジストの耐熱性が劣るため適
用が困難である。
本発明の目的は従来の方法の問題点を解消したスルーホ
ール内の気体を除去することができ、めっきボイドの発
生を抑制するプリント配線板のスルーホールめっき前処
理方法を提供することにある。
ール内の気体を除去することができ、めっきボイドの発
生を抑制するプリント配線板のスルーホールめっき前処
理方法を提供することにある。
本発明は、プリント配線板にスルーホールめっきを行う
際の前処理工程において、被めっき物を処理液中又は気
相中に置いて前処理の系内を減圧してスルーホール内の
気体を除去し、次に被めっき物を処理液中に置いて前処
理の系内を大気圧に戻してスルーボール内に処理液を満
たす被めっき物の脱気処理を行うことを特徴とするスル
ーホールめっき前処理方法を提供するものである。
際の前処理工程において、被めっき物を処理液中又は気
相中に置いて前処理の系内を減圧してスルーホール内の
気体を除去し、次に被めっき物を処理液中に置いて前処
理の系内を大気圧に戻してスルーボール内に処理液を満
たす被めっき物の脱気処理を行うことを特徴とするスル
ーホールめっき前処理方法を提供するものである。
スルーホールめっき前処理工程には、例えば前述したよ
うに、脱脂→水洗→銅面粗化→水洗→硫酸浸漬→水洗→
キャタリスト→水洗−→アクセレーター→水洗の処理が
ある。これらの処理はめっきの種類によって若干異なる
が脱脂、銅面粗化、硫酸浸漬、キャタリスト、アクセレ
ーター、水洗の各処理の1部又は全部からなっている。
うに、脱脂→水洗→銅面粗化→水洗→硫酸浸漬→水洗→
キャタリスト→水洗−→アクセレーター→水洗の処理が
ある。これらの処理はめっきの種類によって若干異なる
が脱脂、銅面粗化、硫酸浸漬、キャタリスト、アクセレ
ーター、水洗の各処理の1部又は全部からなっている。
これらの工程は水溶液浸漬処理であるためスルーホール
内の気体を除去して処理液を満たす必要がある。本発明
における脱気処理はこの工程中いずれの処理液を用いる
場合においても適用できる。この処理は被めっき物を処
理液中又は気相中に置いて処理の系内を減圧をしてスル
ーホール内の気体を除去し、次に被めっき物を処理液中
でに置いて系内を大気圧に戻しスルーホール内に処理液
を満たずことにより行われる。めっき前処理の一般的方
法に用いられる装置の一例を第2図に示すが大気圧に開
放されている処理槽3中の処理液4にラック1に搭載さ
れた被めっき物5が浸漬され揺動装置2によって揺動さ
れ処理される。本発明の方法に用いられる装置は例えば
第2図に示す通り、密閉容器6、配管7、圧力計8、弁
9、真空ポンプ10の設備を追加し、これにより減圧機
能を有している。この装置内に被めっき物を投入し、次
に系内を減圧しスルーホール内の気体を除去する。この
とき被めっき物は処理液中にあっても気相中にあっても
効果は同しである。圧力はアスペクト比(板厚/スルー
ポール径)をaとしたときに2/3a気圧以下にずこよ
が好ましい。次に弁を開いて、処理槽内を大気圧に戻し
、スルーホール内を処理液で満たず。次に、被めっき物
を取り出し次工程を行う。本発明に用いる処理槽と密閉
容器、配管等は1気圧の圧力変化に耐え得ればよく、真
空ポンプは0.02気圧程度まで減圧できればよいので
通常の真空ポンプが使用できる。本発明においてはスル
ーホールのアスペクト比に応じて減圧後の圧力を選択す
ることにより効果的に脱気処理が行われる。
内の気体を除去して処理液を満たす必要がある。本発明
における脱気処理はこの工程中いずれの処理液を用いる
場合においても適用できる。この処理は被めっき物を処
理液中又は気相中に置いて処理の系内を減圧をしてスル
ーホール内の気体を除去し、次に被めっき物を処理液中
でに置いて系内を大気圧に戻しスルーホール内に処理液
を満たずことにより行われる。めっき前処理の一般的方
法に用いられる装置の一例を第2図に示すが大気圧に開
放されている処理槽3中の処理液4にラック1に搭載さ
れた被めっき物5が浸漬され揺動装置2によって揺動さ
れ処理される。本発明の方法に用いられる装置は例えば
第2図に示す通り、密閉容器6、配管7、圧力計8、弁
9、真空ポンプ10の設備を追加し、これにより減圧機
能を有している。この装置内に被めっき物を投入し、次
に系内を減圧しスルーホール内の気体を除去する。この
とき被めっき物は処理液中にあっても気相中にあっても
効果は同しである。圧力はアスペクト比(板厚/スルー
ポール径)をaとしたときに2/3a気圧以下にずこよ
が好ましい。次に弁を開いて、処理槽内を大気圧に戻し
、スルーホール内を処理液で満たず。次に、被めっき物
を取り出し次工程を行う。本発明に用いる処理槽と密閉
容器、配管等は1気圧の圧力変化に耐え得ればよく、真
空ポンプは0.02気圧程度まで減圧できればよいので
通常の真空ポンプが使用できる。本発明においてはスル
ーホールのアスペクト比に応じて減圧後の圧力を選択す
ることにより効果的に脱気処理が行われる。
プリント配線板の高密度化に伴いアスペクト比が大きく
なる傾向にある。圧力の設定例を挙げると、現在は標準
板厚1.6 mmに対してスルーホール径を0.2〜0
.3 mmとすると、アスペクト比5.3〜8であり減
圧後の圧力を0.125〜0.083気圧以下とすれば
よい。また、板厚3.0 mmスルーホール径0.2
mmでアスペクト比が15の場合減圧後の圧力を0.0
44気圧以下にすればよい。
なる傾向にある。圧力の設定例を挙げると、現在は標準
板厚1.6 mmに対してスルーホール径を0.2〜0
.3 mmとすると、アスペクト比5.3〜8であり減
圧後の圧力を0.125〜0.083気圧以下とすれば
よい。また、板厚3.0 mmスルーホール径0.2
mmでアスペクト比が15の場合減圧後の圧力を0.0
44気圧以下にすればよい。
この脱気処理は少なくとも脱脂処理工程において行うの
が効果的である。
が効果的である。
プリント配線板のスルーポール内の気体の圧力は大気圧
であり、減圧を行うとボイル・シャルルの法則に従って
膨張する。そのため、大気圧ドでスルーホール内を満た
していた気体は膨張した分だけスルーホール外に出てゆ
く。次に処理液中で圧力を大気圧に戻すと、減圧下でス
ルーホール内を満たしていた気体は、ボイル・シャルル
の法則に従って体積が減少する。このとき、気体の体積
がスルーホールに内接する球の体積よりも小さくなると
処理液がスルーホール内壁をぬらずことができ同時にス
ルーホール内の気体を除去できる。
であり、減圧を行うとボイル・シャルルの法則に従って
膨張する。そのため、大気圧ドでスルーホール内を満た
していた気体は膨張した分だけスルーホール外に出てゆ
く。次に処理液中で圧力を大気圧に戻すと、減圧下でス
ルーホール内を満たしていた気体は、ボイル・シャルル
の法則に従って体積が減少する。このとき、気体の体積
がスルーホールに内接する球の体積よりも小さくなると
処理液がスルーホール内壁をぬらずことができ同時にス
ルーホール内の気体を除去できる。
さらに、本発明の方法によれば気体の圧力の変化によっ
てスルーホール内の気体を除去するため従来法の欠点で
あった基材の吸水の恐れがなく、またドライフィルムを
用いるパターンめっきにも適用することができる。
てスルーホール内の気体を除去するため従来法の欠点で
あった基材の吸水の恐れがなく、またドライフィルムを
用いるパターンめっきにも適用することができる。
〔実施例]
日立化成工業■製の銅張積層板MCL−E−67(板厚
3.0 mm )にφ0.2 mmスルーホール(アス
ペクト比15)を穴あけし硫酸スミア処理を行った後、
日立化成工業■製の日立無電解銅めっき薬品を使用して
スルーホールめっき前処理を行った。
3.0 mm )にφ0.2 mmスルーホール(アス
ペクト比15)を穴あけし硫酸スミア処理を行った後、
日立化成工業■製の日立無電解銅めっき薬品を使用して
スルーホールめっき前処理を行った。
このスルーホールめっき前処理は、脱脂処理としてクリ
ーナコンディショナーCLC201溶液に浸漬後、槽を
密閉し真空ポンプによって0.03気圧に減圧したまま
40゛Cで4分間処理した。次に穴あけ積層板を浸漬し
たまま圧力を大気圧に戻し1分後に水洗槽に移し水洗を
行った。次に、銅面粗化処理として200g/ffi過
硫酸アンモニウム溶液により25°Cで1分間処理し水
洗を行った。
ーナコンディショナーCLC201溶液に浸漬後、槽を
密閉し真空ポンプによって0.03気圧に減圧したまま
40゛Cで4分間処理した。次に穴あけ積層板を浸漬し
たまま圧力を大気圧に戻し1分後に水洗槽に移し水洗を
行った。次に、銅面粗化処理として200g/ffi過
硫酸アンモニウム溶液により25°Cで1分間処理し水
洗を行った。
次に、硫酸浸漬処理として10%硫酸溶液により25°
Cで2分間処理し水洗を行った。次に、:1−ヤタリス
ト処理としてPD201溶液に25°Cで4分間処理し
、HS 201. B溶液により25°Cで9分間処理
し水洗を行った。次にアクセレータ処理としてADP2
01に液に25°Cで4分間処理し水洗を行った。
Cで2分間処理し水洗を行った。次に、:1−ヤタリス
ト処理としてPD201溶液に25°Cで4分間処理し
、HS 201. B溶液により25°Cで9分間処理
し水洗を行った。次にアクセレータ処理としてADP2
01に液に25°Cで4分間処理し水洗を行った。
穴あけ銅張り積層板に無電解銅めっきをめっき厚35μ
mまで行った。その結果めっきボイドlこよるスルーポ
ール断線の発生率は1.0XIO”%以下であった。一
方、比較例として、前記脱脂処理としてクリーナーコン
ディショナC1,、C201溶液に大気圧のまま40°
Cで5分間処理した他は同一の方法でスルーホールめっ
きを行った場合めっきボイドによる断線の発生率は3.
[X 10−’%と約3倍であった。なお、無電解銅め
っきは下記の組成・成分のものを使用した。
mまで行った。その結果めっきボイドlこよるスルーポ
ール断線の発生率は1.0XIO”%以下であった。一
方、比較例として、前記脱脂処理としてクリーナーコン
ディショナC1,、C201溶液に大気圧のまま40°
Cで5分間処理した他は同一の方法でスルーホールめっ
きを行った場合めっきボイドによる断線の発生率は3.
[X 10−’%と約3倍であった。なお、無電解銅め
っきは下記の組成・成分のものを使用した。
硫酸銅(5水塩) 8.g/IE D T A
・2 N a 60 g / 1ホルマリン
37% 3 ml / I!pH 添加剤 液温 12.1〜12.4 若干 70°C 5被めっき物 7 配管 9弁 6 密閉容器 8 圧力計 10 真空ポンプ 〔発明の効果〕 本発明によればスルーホール内の気体を除去してスルー
ホールめっき前処理を行えるため、めっきボイドのない
スルーホールめっきを行うことができる。
・2 N a 60 g / 1ホルマリン
37% 3 ml / I!pH 添加剤 液温 12.1〜12.4 若干 70°C 5被めっき物 7 配管 9弁 6 密閉容器 8 圧力計 10 真空ポンプ 〔発明の効果〕 本発明によればスルーホール内の気体を除去してスルー
ホールめっき前処理を行えるため、めっきボイドのない
スルーホールめっきを行うことができる。
Claims (4)
- 1.プリント配線板にスルーホールめっきを行う際のめ
っき前処理工程において、被めっき物を処理液中又は気
相中に置いて前処理の系内を減圧してスルーホール内の
気体を除去し、次に被めっき物を処理液中に置いて前処
理の系内を大気圧に戻してスルーホール内に処理液を満
たす脱気処理を行うことを特徴とするスルーホールめっ
き前処理方法。 - 2.脱気処理が脱脂、銅面粗化、硫酸浸漬、キャタリス
ト、アクセレータ及び水洗処理の1部又は全部から成る
液体浸漬処理工程で行われる請求項1記載のスルーホー
ルめっき前処理方法。 - 3.脱気処理がスルーホールめっき前処理工程の少なく
とも脱脂処理で行われる請求項2記載のスルーホールめ
っき前処理方法。 - 4.脱気処理の減圧後の圧力をプリント配線板の穴のア
スペクト比(板厚/スルーホール 径)aで表現して2/3a気圧以下とする請求項1記載
のスルーホールめっき前処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29573788A JPH02141597A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | スルーホールめっき前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29573788A JPH02141597A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | スルーホールめっき前処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02141597A true JPH02141597A (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=17824518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29573788A Pending JPH02141597A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | スルーホールめっき前処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02141597A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006249530A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Fujitsu Ltd | 金属膜パターンの形成方法 |
JP2007262583A (ja) * | 1998-11-09 | 2007-10-11 | Ebara Corp | めっき方法及び装置 |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP29573788A patent/JPH02141597A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007262583A (ja) * | 1998-11-09 | 2007-10-11 | Ebara Corp | めっき方法及び装置 |
JP2006249530A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Fujitsu Ltd | 金属膜パターンの形成方法 |
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