JPH02132639A - 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 - Google Patents
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ.産業上の利用分野
本発明は磁気テープ、磁気シート等の磁気記録媒体の製
造方法及びその装置に関するものである。
造方法及びその装置に関するものである。
口.従来技術
一iに、磁気テープ等の磁気記録媒体は、磁性粉、バイ
ンダー樹脂等からなる磁性塗料を支持体上に塗布、乾燥
することによって製造される。
ンダー樹脂等からなる磁性塗料を支持体上に塗布、乾燥
することによって製造される。
磁気記録媒体の製造において、特にオーディオ・テープ
、ビデオテープなどでは磁性層塗布後に磁場中での配向
処理及び乾燥処理を行って高性能化をはかっている。こ
のための従来技術として、特公昭45−21547号、
特公昭52 − 2602号、特公昭56−36496
号、特開昭52−141612号、特開昭59−711
33号、特開昭60 − 76023号各公報などに示
されているように、配向部と乾燥部の複合化あるいは配
向部の多段化、乾燥過程のコントロールなどの例がある
。しかしながら、近年のビデオテーブの高性能化とりわ
けハード面からの要請により、ビデオテーブのますます
の高抗磁力化、高充填化が必要となってきている。又ビ
デオデッキのヘッド部の高精度化に伴い、ビデオテープ
の表面性の制御も従来の単なる鏡面化、平滑化技術では
対応しきれない。高速摺動時にヘッドとビデオテープの
相互の損耗を防ぎつつ、高出力を得るための表面成形技
術も未だ明確にはなっていない。
、ビデオテープなどでは磁性層塗布後に磁場中での配向
処理及び乾燥処理を行って高性能化をはかっている。こ
のための従来技術として、特公昭45−21547号、
特公昭52 − 2602号、特公昭56−36496
号、特開昭52−141612号、特開昭59−711
33号、特開昭60 − 76023号各公報などに示
されているように、配向部と乾燥部の複合化あるいは配
向部の多段化、乾燥過程のコントロールなどの例がある
。しかしながら、近年のビデオテーブの高性能化とりわ
けハード面からの要請により、ビデオテーブのますます
の高抗磁力化、高充填化が必要となってきている。又ビ
デオデッキのヘッド部の高精度化に伴い、ビデオテープ
の表面性の制御も従来の単なる鏡面化、平滑化技術では
対応しきれない。高速摺動時にヘッドとビデオテープの
相互の損耗を防ぎつつ、高出力を得るための表面成形技
術も未だ明確にはなっていない。
ハ.発明の目的
本発明の目的は、配向と乾燥とを高精度に制御し、量産
時の性能の不均一を抑制できる、磁気記録媒体の製造方
法及びその装置を提供することである。
時の性能の不均一を抑制できる、磁気記録媒体の製造方
法及びその装置を提供することである。
ヘッドによる記録、再生に最適な表面形状を有する塗膜
が得られるような、磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことである。
が得られるような、磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことである。
二.発明の構成
本発明は、磁性塗料を支持体上に塗布し、この磁性塗料
塗布層に磁場による配向処理と乾燥処理とを施すように
した磁気記録媒体の製造方法において、前記乾燥処理を
開始する前に複数箇所で前記配向処理を行い、これらの
複数箇所での配向処理のうちの最初の配向処理と最後の
配向処理との間に予備乾燥処理を行い、かつこの予備乾
燥処理中の前記磁性塗料塗布層の乾燥勾配を制御したこ
とを特徴とする磁気媒体の製造方法に係るものである。
塗布層に磁場による配向処理と乾燥処理とを施すように
した磁気記録媒体の製造方法において、前記乾燥処理を
開始する前に複数箇所で前記配向処理を行い、これらの
複数箇所での配向処理のうちの最初の配向処理と最後の
配向処理との間に予備乾燥処理を行い、かつこの予備乾
燥処理中の前記磁性塗料塗布層の乾燥勾配を制御したこ
とを特徴とする磁気媒体の製造方法に係るものである。
また、本発明は、磁性塗料を支持体上に塗布するだめの
塗布部と;この磁性塗料塗布層に乾燥処理を施すための
本乾燥部と;前記磁性塗料塗布層に磁場による配向処理
を施すために前記本乾燥部の上流側に設けられた複数の
配向部と;互いに区分された複数の乾燥領域からなりか
つ前記複数の配向部のうち最上流側の配向部と最下流側
の配向部との間に設けられた予備乾燥部とを有する磁気
記録媒体の製造装置に係るものである。
塗布部と;この磁性塗料塗布層に乾燥処理を施すための
本乾燥部と;前記磁性塗料塗布層に磁場による配向処理
を施すために前記本乾燥部の上流側に設けられた複数の
配向部と;互いに区分された複数の乾燥領域からなりか
つ前記複数の配向部のうち最上流側の配向部と最下流側
の配向部との間に設けられた予備乾燥部とを有する磁気
記録媒体の製造装置に係るものである。
また、本発明は、磁性塗料を支持体上に塗布し、この磁
性塗料塗布層に磁場による配向処理と乾燥処理とを施す
ようにした磁気記録媒体の製造方法において、前記乾燥
処理を開始する前に複数箇所で前記配向処理を行い、こ
れらの複数箇所での配向処理のうち最初の配向処理のた
めの磁場強度を前記の複数箇所での配向処理のうち最後
の配向処理のための磁場強度と同等又はそれ以下とした
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に係るもので
ある。
性塗料塗布層に磁場による配向処理と乾燥処理とを施す
ようにした磁気記録媒体の製造方法において、前記乾燥
処理を開始する前に複数箇所で前記配向処理を行い、こ
れらの複数箇所での配向処理のうち最初の配向処理のた
めの磁場強度を前記の複数箇所での配向処理のうち最後
の配向処理のための磁場強度と同等又はそれ以下とした
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に係るもので
ある。
ここで、「磁性塗料塗布層の乾燥勾配を制御」するとは
、予備乾燥処理の時間的経過又は予備乾燥処理部内にお
ける空間的移動につれ、磁性塗料塗布層中の固形分濃度
が上昇していくその度合をいう。
、予備乾燥処理の時間的経過又は予備乾燥処理部内にお
ける空間的移動につれ、磁性塗料塗布層中の固形分濃度
が上昇していくその度合をいう。
「同等」とは、実質的に同程度の磁場強度であることを
いい、誤差範囲を許容するものである。
いい、誤差範囲を許容するものである。
ホ.実施例
以下、本発明の実施例を説明する。
第1図は、本実施例による磁気記録媒体の製造方法を実
施する装置を示すものである。
施する装置を示すものである。
即ち、長尺で帯状の非磁性支持体1を繰出し口−ル6か
ら送り、巻取りロール8で巻き取るが、この間に、1に
はまず塗布部2において磁性塗料9を表面に塗布する。
ら送り、巻取りロール8で巻き取るが、この間に、1に
はまず塗布部2において磁性塗料9を表面に塗布する。
塗布部2から支持体移送方向の下流側に向けて、前段配
向磁石3、後段配向磁石5、乾燥ゾーン7を設ける。乾
燥ゾーン7は、公知のようにノズルから熱風を導出する
方式のものであってよいが、それらは図示簡略化のため
省略した。
向磁石3、後段配向磁石5、乾燥ゾーン7を設ける。乾
燥ゾーン7は、公知のようにノズルから熱風を導出する
方式のものであってよいが、それらは図示簡略化のため
省略した。
前段配向磁石3の上流側に図示しないスムーザーを設置
してもよい。そして、前段配向部3の磁場強度は後段配
向部5の磁場強度と同等か又はそれ以下とされる。
してもよい。そして、前段配向部3の磁場強度は後段配
向部5の磁場強度と同等か又はそれ以下とされる。
非磁性支持体1は、磁性塗膜9が未乾燥のまま、スムー
ザーによって平滑化され、また、磁性塗料9の性質によ
って低粘度化されて前段配向磁石3により所望方向に配
向され、引き続いて後段配向磁石5により再度配向され
る。
ザーによって平滑化され、また、磁性塗料9の性質によ
って低粘度化されて前段配向磁石3により所望方向に配
向され、引き続いて後段配向磁石5により再度配向され
る。
ここで注目すべきことは、乾燥処理の前に二段階配向を
していることであり、かつ前段配向磁石の磁場強度を後
段配向磁石の磁場強度に対し同等以下としたことであり
ーかかる特異な配向方法を選定したところ、磁性塗膜の
表面形状が飛躍的に改善され、摺動ノイズの低減、高S
/N比が得られ、高精度のフエライトリングヘッド等に
適合する磁気記録媒体を提供できたのである。この理由
は定かではないが、塗布液の凝集状態の制御が関係して
いるものと思われる。仮に、前段配向磁石を後段配向磁
石よりも強くすると、塗液の凝集傾向がでて、表面性が
向上しない。
していることであり、かつ前段配向磁石の磁場強度を後
段配向磁石の磁場強度に対し同等以下としたことであり
ーかかる特異な配向方法を選定したところ、磁性塗膜の
表面形状が飛躍的に改善され、摺動ノイズの低減、高S
/N比が得られ、高精度のフエライトリングヘッド等に
適合する磁気記録媒体を提供できたのである。この理由
は定かではないが、塗布液の凝集状態の制御が関係して
いるものと思われる。仮に、前段配向磁石を後段配向磁
石よりも強くすると、塗液の凝集傾向がでて、表面性が
向上しない。
前段配向磁石3、後段配向磁石5としては、単極永久磁
石、同極対向永久磁石、電磁石等が使用される。前段配
向磁石3の磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉の抗磁
力の1〜3倍とするのが好ましく、後段配向磁石5の磁
場強度は磁性塗料9に用いた磁性扮の抗磁力の1〜3倍
とするのが好ましい。これら配向磁石としては、平均磁
束密度300〜5000Gauss程度のものが好適に
使用される。
石、同極対向永久磁石、電磁石等が使用される。前段配
向磁石3の磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉の抗磁
力の1〜3倍とするのが好ましく、後段配向磁石5の磁
場強度は磁性塗料9に用いた磁性扮の抗磁力の1〜3倍
とするのが好ましい。これら配向磁石としては、平均磁
束密度300〜5000Gauss程度のものが好適に
使用される。
後段配向磁石5の磁場強度は前段配向磁石3の磁場強度
の1.0〜1.9倍とすると好ましく、1.10〜1.
9倍とすると更に好ましい。
の1.0〜1.9倍とすると好ましく、1.10〜1.
9倍とすると更に好ましい。
第2図は、他の実施例の製造方法に使用する製造装置を
示すものである。
示すものである。
本例の装置は第1図のものと共通している部分もあるが
、前段配向磁石3Aと後段配向磁石5Aの磁場強度の相
互関係については定められていない。また、前段配向磁
石3Aと後段配向磁石5Aとの間には、予備乾燥部4が
設けられ、ここで前段配向を終えた磁性塗料塗布層が予
備乾燥される。
、前段配向磁石3Aと後段配向磁石5Aの磁場強度の相
互関係については定められていない。また、前段配向磁
石3Aと後段配向磁石5Aとの間には、予備乾燥部4が
設けられ、ここで前段配向を終えた磁性塗料塗布層が予
備乾燥される。
この予備乾燥部4内には、非磁性支持体1の上下側にそ
れぞれ多数の微小乾燥ゾーン4aが設けられ、各微小乾
燥ゾーン4aは隔壁4bにより隣り合った微小乾燥ゾー
ンから区分されている。各微小乾燥ゾーン4a内には図
示しない公知の乾燥手段、例えば熱風導出ノズルが設置
され、各熱風導出ノズルはそれぞれ所定の送風機へと連
結されている。熱風の温度及び導出速度は予め設定して
おけばよい。これにより、前段配向部3Aにより配向さ
れた磁性塗料塗布層は、予備乾燥部4の各微小乾燥ゾー
ン4aで予め設定された乾燥条件に置かれる。従って、
予備乾燥部4内の各位置での磁性塗料塗布層の乾燥の度
合、乾燥勾配を予め精密に設定することができ、これま
でにない精度で乾燥勾配を制御できる。これにより、磁
気記録媒体を量産しても、乾燥状態が不均一となること
はなく、後段配向部5aを通過する際の乾燥状態が均一
となるので、配向の度合いが不均一となることもない。
れぞれ多数の微小乾燥ゾーン4aが設けられ、各微小乾
燥ゾーン4aは隔壁4bにより隣り合った微小乾燥ゾー
ンから区分されている。各微小乾燥ゾーン4a内には図
示しない公知の乾燥手段、例えば熱風導出ノズルが設置
され、各熱風導出ノズルはそれぞれ所定の送風機へと連
結されている。熱風の温度及び導出速度は予め設定して
おけばよい。これにより、前段配向部3Aにより配向さ
れた磁性塗料塗布層は、予備乾燥部4の各微小乾燥ゾー
ン4aで予め設定された乾燥条件に置かれる。従って、
予備乾燥部4内の各位置での磁性塗料塗布層の乾燥の度
合、乾燥勾配を予め精密に設定することができ、これま
でにない精度で乾燥勾配を制御できる。これにより、磁
気記録媒体を量産しても、乾燥状態が不均一となること
はなく、後段配向部5aを通過する際の乾燥状態が均一
となるので、配向の度合いが不均一となることもない。
しかも、前段配向磁石3Aで予備的に配向した後、上記
予備乾燥を行い、この後に後段配向磁石5Aで配向して
いるので、前段配向磁石3Aにより低粘度のうちに配向
させ、次に予備乾燥により粘度が高くなり、粒子の流動
が抑えられた時点で再び配向させうる。従って、粒子の
凝集を抑えつつ、効果的に配向させうる。
予備乾燥を行い、この後に後段配向磁石5Aで配向して
いるので、前段配向磁石3Aにより低粘度のうちに配向
させ、次に予備乾燥により粘度が高くなり、粒子の流動
が抑えられた時点で再び配向させうる。従って、粒子の
凝集を抑えつつ、効果的に配向させうる。
前段配向磁石3Aの磁場強度は、後段配向磁石5Aの磁
場強度と同等又はそれ以下であることが好ましい。予備
乾燥部で乾燥させて粘度が高くなり、粒子の流動が抑え
られて回転運動に近づいてきた時点で、より強力な後段
配向磁石5Aにより凝集を起こすことなく配向し易いか
らである。
場強度と同等又はそれ以下であることが好ましい。予備
乾燥部で乾燥させて粘度が高くなり、粒子の流動が抑え
られて回転運動に近づいてきた時点で、より強力な後段
配向磁石5Aにより凝集を起こすことなく配向し易いか
らである。
前段配向磁石3A、後段配向磁石5Aとしても、単極永
久磁石、同極対向永久磁石、電磁石等が使用される。前
段配向磁石3Aの磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉
の抗磁力の1〜3倍とするのが好ましく、後段配向磁石
5Aの磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉の抗磁力の
1〜3倍とするのが好ましい。これら配向磁石としては
、平均磁束密度300〜5000Gauss程度のもの
が好適に使用される。後段配向磁石5Aの磁場強度は前
段配向磁石3Aの磁場強度の1.0〜1.9倍とすると
好ましく、1.10〜1.9倍とすると更に好ましい。
久磁石、同極対向永久磁石、電磁石等が使用される。前
段配向磁石3Aの磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉
の抗磁力の1〜3倍とするのが好ましく、後段配向磁石
5Aの磁場強度は磁性塗料9に用いた磁性粉の抗磁力の
1〜3倍とするのが好ましい。これら配向磁石としては
、平均磁束密度300〜5000Gauss程度のもの
が好適に使用される。後段配向磁石5Aの磁場強度は前
段配向磁石3Aの磁場強度の1.0〜1.9倍とすると
好ましく、1.10〜1.9倍とすると更に好ましい。
磁性塗料塗布層9が前段配向磁石3Aを通過する際の塗
布層9の固形分比率は10〜60重量%とするのが好ま
しく、磁性塗料塗布層9が後段配向磁石5Aを通過する
際の塗布層9の固形分比率は10〜98重景%とするこ
とが好ましい。固形分比率が10重量%未満であると、
磁性粉の凝集が起こり易く、粉落ちが生じ易くなる。配
向部3A通過時の固形分濃度(すなわち、塗布時の固形
分粘度)が60重量%よりも高いと、高粘度のため塗布
に支障をきたし易い。配向部5A通過時の固形分濃度が
98重量%よりも高いと、配向部5Aの配向効果が少な
くなる。乾燥ゾーン7の出口Aにおいては、塗布部2に
供給された塗布液中の溶剤量の99%以上までを乾燥さ
せるのが好ましい。
布層9の固形分比率は10〜60重量%とするのが好ま
しく、磁性塗料塗布層9が後段配向磁石5Aを通過する
際の塗布層9の固形分比率は10〜98重景%とするこ
とが好ましい。固形分比率が10重量%未満であると、
磁性粉の凝集が起こり易く、粉落ちが生じ易くなる。配
向部3A通過時の固形分濃度(すなわち、塗布時の固形
分粘度)が60重量%よりも高いと、高粘度のため塗布
に支障をきたし易い。配向部5A通過時の固形分濃度が
98重量%よりも高いと、配向部5Aの配向効果が少な
くなる。乾燥ゾーン7の出口Aにおいては、塗布部2に
供給された塗布液中の溶剤量の99%以上までを乾燥さ
せるのが好ましい。
第3図、第4図は、上記の方法で製造される磁気記録媒
体の二例の各断面図を示している。図中の18は上記磁
性塗料9が乾燥硬化してなる磁性層であり、また13は
磁性層形成後に必要に応じて設けられたバックコート層
(BC層)であり、14は磁性層形成前に設けられた下
引き層である。
体の二例の各断面図を示している。図中の18は上記磁
性塗料9が乾燥硬化してなる磁性層であり、また13は
磁性層形成後に必要に応じて設けられたバックコート層
(BC層)であり、14は磁性層形成前に設けられた下
引き層である。
磁性層18に用いられる磁性粉、特に強磁性粉としては
、7−FezO+,Co含有の7 FezO+.F
e 3 0 a, C o含有のF e203+
r F eox,Co含有のr − F e O x
( X =1.33〜1.50) ,Cry2,Co
−Ni−P合金,Co−Ni−Fe−B合金,Fe−N
i−Zn合金,Ni−Co合金,Co−Ni−Fe合金
など、公知の強磁性微粉末が使用でき、具体的には、特
公昭44−14090号、特公昭45−18372号、
特公昭47 − 22062号、特公昭47 − 33
89014号などに記載されている。これら強磁性微粉
末の粒子サイズは約0.01〜1ミクロンの長さで、軸
長/軸幅の比は、1/1〜50/1程度である。又、こ
れらの強磁性微粉末の比表面積は、1ボ/g〜60rr
T/g程度である。これらの強磁性微粉末の表面に、後
に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目
的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、吸着させ
てもよい。
、7−FezO+,Co含有の7 FezO+.F
e 3 0 a, C o含有のF e203+
r F eox,Co含有のr − F e O x
( X =1.33〜1.50) ,Cry2,Co
−Ni−P合金,Co−Ni−Fe−B合金,Fe−N
i−Zn合金,Ni−Co合金,Co−Ni−Fe合金
など、公知の強磁性微粉末が使用でき、具体的には、特
公昭44−14090号、特公昭45−18372号、
特公昭47 − 22062号、特公昭47 − 33
89014号などに記載されている。これら強磁性微粉
末の粒子サイズは約0.01〜1ミクロンの長さで、軸
長/軸幅の比は、1/1〜50/1程度である。又、こ
れらの強磁性微粉末の比表面積は、1ボ/g〜60rr
T/g程度である。これらの強磁性微粉末の表面に、後
に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目
的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、吸着させ
てもよい。
また本発明に使用する強磁性微粉末としては、板状六方
晶のバリウムフエライトも使用でき.る。
晶のバリウムフエライトも使用でき.る。
バリウムフェライトの粒子サイズは約0.001〜1ミ
クロンの直径で厚みが直径の1/2〜1/2oである。
クロンの直径で厚みが直径の1/2〜1/2oである。
バリウムフェライトの比重は4〜6g/ccで、比表面
積は1rrr/g〜60rrf/gである。これらの強
磁性微粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電
防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中
で含浸させて、吸着させてもよい。
積は1rrr/g〜60rrf/gである。これらの強
磁性微粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電
防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中
で含浸させて、吸着させてもよい。
特に強磁性合金粉末の例としては、強磁性合金粉末中の
金属分が75重量%以上であり、そして金属分の80重
量%以上が少なくとも1種類の強磁性金属あるいは合金
(例、Fe,Co,Ni,Fe−Co,Fe−Ni,F
e−Afl,Fe−AN−Ni,Fe−Zn Fe−
An−Zn,Co−Ni,Co−Ni−Fe)であり、
該金属分の20重量%以下の範囲内で他の成分(例、A
ffi,Si,S,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Cu
,Zn,Y,Mo,Rh,Pd,Ag,Sn,Sb,T
e,Ba,Ta,W,Re,Au,Hg,Pb,Bi,
La,Ce,Pr,Nd,B,P)を含むことのある合
金を挙げることができる。また、上記強磁性金属が少量
の水、水酸化物または酸化物を含むものであってもよい
。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり
、本発明で用いる強磁性粉末の代表例である強磁性合金
粉末についてもこれら公知の方法に従って製造すること
ができる。
金属分が75重量%以上であり、そして金属分の80重
量%以上が少なくとも1種類の強磁性金属あるいは合金
(例、Fe,Co,Ni,Fe−Co,Fe−Ni,F
e−Afl,Fe−AN−Ni,Fe−Zn Fe−
An−Zn,Co−Ni,Co−Ni−Fe)であり、
該金属分の20重量%以下の範囲内で他の成分(例、A
ffi,Si,S,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Cu
,Zn,Y,Mo,Rh,Pd,Ag,Sn,Sb,T
e,Ba,Ta,W,Re,Au,Hg,Pb,Bi,
La,Ce,Pr,Nd,B,P)を含むことのある合
金を挙げることができる。また、上記強磁性金属が少量
の水、水酸化物または酸化物を含むものであってもよい
。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり
、本発明で用いる強磁性粉末の代表例である強磁性合金
粉末についてもこれら公知の方法に従って製造すること
ができる。
すなわち、強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下
記の方法を挙げることができる。
記の方法を挙げることができる。
(a) 複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素
などの還元性気体で還元する方法: (b) 酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してF
eあるいはFe−Co粒子などを得る方法:(C)
金属力ルボニル化合物を熱分解する方法=(d) 強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法: (e) 水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出さ
せたのち水銀と分離する方法: (f) 金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉
末を得る方法: 強磁性合金粉末を使用する場合に、その形状にとくに制
限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される。
などの還元性気体で還元する方法: (b) 酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してF
eあるいはFe−Co粒子などを得る方法:(C)
金属力ルボニル化合物を熱分解する方法=(d) 強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法: (e) 水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出さ
せたのち水銀と分離する方法: (f) 金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉
末を得る方法: 強磁性合金粉末を使用する場合に、その形状にとくに制
限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される。
この強磁性合金粉末の比表面積(S BET)は40
rd/g以上であることが好ましく、さらに45ホ/g
以上のものを使用することが特に好ましい。
rd/g以上であることが好ましく、さらに45ホ/g
以上のものを使用することが特に好ましい。
磁性層、BC(バックコート)層の結合剤として、公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、紫外線硬
化型樹脂、電子線硬可樹脂及びこれらの混合物を使用で
きる。
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、紫外線硬
化型樹脂、電子線硬可樹脂及びこれらの混合物を使用で
きる。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150゜C以下、平均
分子量が10000〜300000、重合度が約50〜
1000程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスヂレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ナイロンーシリコン系樹脂、ニトロセルロースーボリア
ミド樹脂、ポリフッ力ビニル、塩化ビニリデンアクリ口
ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体(セルロースアセテートブチレート、セルロー
スダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロ
ースブロビオネート、ニトロセルロース等)、スチレン
ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。
分子量が10000〜300000、重合度が約50〜
1000程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステルスヂレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ナイロンーシリコン系樹脂、ニトロセルロースーボリア
ミド樹脂、ポリフッ力ビニル、塩化ビニリデンアクリ口
ニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体(セルロースアセテートブチレート、セルロー
スダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロ
ースブロビオネート、ニトロセルロース等)、スチレン
ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。
分子中に−SO.M基、− C O O MJJ、−0
M基、−OS03M基、 ニル系共重合体、ポリエステル樹脂も好ましい。
M基、−OS03M基、 ニル系共重合体、ポリエステル樹脂も好ましい。
特に親水基が好ましい。
ここで、Mは水・素、又はアルカリ金属(Li,Na,
K等)、M′は水素、アルカリ金属(Li,Na,K等
)又は炭化水素基を示す。
K等)、M′は水素、アルカリ金属(Li,Na,K等
)又は炭化水素基を示す。
上記の官能基と共にエボキシ基を含む塩化ビニル系共重
合体も使用できる(特願昭60 − 288935 )
。
合体も使用できる(特願昭60 − 288935 )
。
結合剤の好ましい組み合わせとしては上記官能基を有す
る塩化ビニル系共重合体とポリウレタンとの組み合わせ
も好ましい。
る塩化ビニル系共重合体とポリウレタンとの組み合わせ
も好ましい。
ポリウレタンとしてはポリエステルボリウレクン、ポリ
エーテルポリウレタン、ポリエステルエーテルポリウレ
タン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリカーボネ
ートポリウレタンが好ましく、特に前記官能基を有する
ポリウレタンが特に好ましい。
エーテルポリウレタン、ポリエステルエーテルポリウレ
タン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリカーボネ
ートポリウレタンが好ましく、特に前記官能基を有する
ポリウレタンが特に好ましい。
親水基含有結合剤の具体例としては一COOH基含有ポ
リウレタン(三洋化成社製rTIM−3005」)、S
OsNa含有ポリウレタン(東洋紡社製rUR8300
J、rUR−8600J ) 、一COOH基含有塩
化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン社製400x
llO A) 、S Os N a含有ポリエステル(
東洋紡社製[バイロン530J ) 、−S○3Na含
有塩化ビニル1217!i共重合体(日本ゼオン社製r
MR−110J)などが挙げられる。親水基含有量は1
〜10000当1/10bgの範囲が好ましい。又分子
量は3000〜200,000が好ましい。
リウレタン(三洋化成社製rTIM−3005」)、S
OsNa含有ポリウレタン(東洋紡社製rUR8300
J、rUR−8600J ) 、一COOH基含有塩
化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン社製400x
llO A) 、S Os N a含有ポリエステル(
東洋紡社製[バイロン530J ) 、−S○3Na含
有塩化ビニル1217!i共重合体(日本ゼオン社製r
MR−110J)などが挙げられる。親水基含有量は1
〜10000当1/10bgの範囲が好ましい。又分子
量は3000〜200,000が好ましい。
これらの結合剤の単独又は組み合わされたものが使われ
、強磁性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉
末100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲
で使用される。
、強磁性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉
末100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲
で使用される。
硬化剤は、エポキシーボリアミド、エボキシポリカルボ
ン酸、ボリイミン、ポリイソシアR. 一トが使用され
る。特にポリイソシアネートが好ましく分子中に=N=
C=O基を2個以上有する脂肪族、芳香族、あるいは脂
環式化合物から選ばれたジ、トリ及びテトライソシアネ
ートなどである。
ン酸、ボリイミン、ポリイソシアR. 一トが使用され
る。特にポリイソシアネートが好ましく分子中に=N=
C=O基を2個以上有する脂肪族、芳香族、あるいは脂
環式化合物から選ばれたジ、トリ及びテトライソシアネ
ートなどである。
これらのイソシアネートとしては、エタンジイソシアネ
ート、ブタンジイソシアネート、ヘキザンジイソシアネ
ート、2 2−ジメチルペンクンジイソシアネート、2
,2.1−1−リメチルベンタイジイソシアネート、デ
カンジイソシアネート、ω,ω −ジイソシアネート−
1.3−ジメチルベンゾール、ω,ω′−ジイソシアネ
ート−1.2−ジメチルシク口ヘキサン、ω,ω′ジイ
ソシアネート−1.4−ジエチルヘンゾール、ω,ωジ
イソシアネート−1.5−ジメチルナフタリン、ω.ω
′−ジイソシアネートーn−プロビルビフエニル、■,
3−フェニレンジイソシアネート、l−メチルベンゾー
ル−2.4−ジイソシアネート、1 3−ジメチルベン
ゾール−2,6ージイソシアネート、ナフタリン−1.
4−ジイソシアネート、1,1′−ジナフチル−2.2
′ジイソシアネート、ビフェニル2.4′−ジイソシア
ネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4.4′−ジ
イソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソ
シアネート、2,2′−ジメチルジフェニルメタン−4
4′−ジイソシアネート、3,3′−ジメトキシジフ
ェニルメタン−4,4′ジイソシアネート、4.4′−
ジエトキシジフエニルメタン−4.4′−ジイソシアネ
ート、1一メチルベンゾール−2.4.6−}リイソシ
アネート、1,3.5−トリメチルベンゾール−2.4
.6−1−リイソシアネート、ジフェニルメタン−2.
4.4’−1−リイソシアネート、トリフエニルメタン
−4.4’,4“一トリイソシアネート、トリレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフチレンジイソシアネートな
ど;これらのイソシアネートの2量体または3量体、ま
たはこれらのインシアネートと2価または3価のポリア
ルコールとの付加生成物である。これらは、例えばトリ
メチルブロバンとトリレンジイソシアネートあるいはヘ
キサンメチレンジイソシアネートなどとの付加生成物で
ある。
ート、ブタンジイソシアネート、ヘキザンジイソシアネ
ート、2 2−ジメチルペンクンジイソシアネート、2
,2.1−1−リメチルベンタイジイソシアネート、デ
カンジイソシアネート、ω,ω −ジイソシアネート−
1.3−ジメチルベンゾール、ω,ω′−ジイソシアネ
ート−1.2−ジメチルシク口ヘキサン、ω,ω′ジイ
ソシアネート−1.4−ジエチルヘンゾール、ω,ωジ
イソシアネート−1.5−ジメチルナフタリン、ω.ω
′−ジイソシアネートーn−プロビルビフエニル、■,
3−フェニレンジイソシアネート、l−メチルベンゾー
ル−2.4−ジイソシアネート、1 3−ジメチルベン
ゾール−2,6ージイソシアネート、ナフタリン−1.
4−ジイソシアネート、1,1′−ジナフチル−2.2
′ジイソシアネート、ビフェニル2.4′−ジイソシア
ネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4.4′−ジ
イソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソ
シアネート、2,2′−ジメチルジフェニルメタン−4
4′−ジイソシアネート、3,3′−ジメトキシジフ
ェニルメタン−4,4′ジイソシアネート、4.4′−
ジエトキシジフエニルメタン−4.4′−ジイソシアネ
ート、1一メチルベンゾール−2.4.6−}リイソシ
アネート、1,3.5−トリメチルベンゾール−2.4
.6−1−リイソシアネート、ジフェニルメタン−2.
4.4’−1−リイソシアネート、トリフエニルメタン
−4.4’,4“一トリイソシアネート、トリレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフチレンジイソシアネートな
ど;これらのイソシアネートの2量体または3量体、ま
たはこれらのインシアネートと2価または3価のポリア
ルコールとの付加生成物である。これらは、例えばトリ
メチルブロバンとトリレンジイソシアネートあるいはヘ
キサンメチレンジイソシアネートなどとの付加生成物で
ある。
これらの硬化剤は、結合剤100重量部に対して10〜
60重量部の範囲内の量で使用される。
60重量部の範囲内の量で使用される。
これらポリイソシアネート類の市販されている商品名と
しては、コロネートL、コロネートHL、コロネート2
030,コロネート2031、ミリオネートMR、ミリ
オネートMTL(日本ポリウレタンQl製)、タケネー
トD−102、タケネートD−110N、タケネートD
−200、タケネートD−202 (武田薬品g(1
)製)、デスモジュールし、デスモジュールIL、デス
モジュールN1デスモジュールHL(住友バイエル社製
)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利
用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用
するごとができる。
しては、コロネートL、コロネートHL、コロネート2
030,コロネート2031、ミリオネートMR、ミリ
オネートMTL(日本ポリウレタンQl製)、タケネー
トD−102、タケネートD−110N、タケネートD
−200、タケネートD−202 (武田薬品g(1
)製)、デスモジュールし、デスモジュールIL、デス
モジュールN1デスモジュールHL(住友バイエル社製
)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利
用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用
するごとができる。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無
限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものがよい。
200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無
限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものがよい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキ
シーポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、
高分子社ポリエステル樹脂とイソシアネートプレボリマ
ーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネー
トブレボリマーの混合物、ポリエステルボリオールとポ
リイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹
脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリフエ
ニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂及びこれらの混合物等である。
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキ
シーポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、
高分子社ポリエステル樹脂とイソシアネートプレボリマ
ーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネー
トブレボリマーの混合物、ポリエステルボリオールとポ
リイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹
脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/トリフエ
ニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂及びこれらの混合物等である。
これらの結合剤の単独又は組み合わされたものが使われ
、ほかに添加剤が加えられる。強磁性微粉末と結合剤と
の混合割合は重量比で強磁性微粉末100重量部に対し
て結合剤5〜300重量部の、範囲がよい。
、ほかに添加剤が加えられる。強磁性微粉末と結合剤と
の混合割合は重量比で強磁性微粉末100重量部に対し
て結合剤5〜300重量部の、範囲がよい。
バック層の粉体と結合剤の混合割合は重量比で粉体10
0重量部に対して結合剤30〜300重里部の範囲で使
用される。これらの熱可塑、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸.スル
フィン酸,スルホン酸,燐酸,硫酸エステル基.燐酸エ
ステル基などの酸性基、アミノ酸頚;アミノスルホン酸
類,アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類,ア
ルキルベタイン型等の両性頻基.アミノ基,イミノ基,
イミド基,アミド基等、又水酸基,アルコシル基,千オ
ール基,ハロゲン基,シリル基,シロキサン基を通常一
種以上六種以内含み、各々の官能基は樹脂1g当りI
XIO−6eq〜I XIO−”eqを含んでよい。
0重量部に対して結合剤30〜300重里部の範囲で使
用される。これらの熱可塑、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸.スル
フィン酸,スルホン酸,燐酸,硫酸エステル基.燐酸エ
ステル基などの酸性基、アミノ酸頚;アミノスルホン酸
類,アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類,ア
ルキルベタイン型等の両性頻基.アミノ基,イミノ基,
イミド基,アミド基等、又水酸基,アルコシル基,千オ
ール基,ハロゲン基,シリル基,シロキサン基を通常一
種以上六種以内含み、各々の官能基は樹脂1g当りI
XIO−6eq〜I XIO−”eqを含んでよい。
磁性層、バックコート層に研磨剤を含有させてもよい。
研磨剤としては一般に使用される研磨使用をもつ材料で
熔融アルミナ,α−アルミナ,炭化ケイ素.酸化クロム
.酸化セリウム,コランダム,人造ダイヤモンド,α一
酸化鉄,ザクロ石1エメリー(主成分:コランダムと磁
鉄K),ガーネット.ケイ石,窒化ケイ素,窒化硼素,
炭化モリブデン,炭化硼素,炭化タングステン,チタン
カーバイド,トリポリ.ケイソウ土,ドロマイト等で、
好ましくはモース硬度6以上の材料が1乃至4種迄の組
み合わせで使用される。これらの研磨剤は平均粒子サイ
ズが0.01〜5ミクロンの大きさのものが使用され、
特に好ましくは0.05〜5ミクロンである。
熔融アルミナ,α−アルミナ,炭化ケイ素.酸化クロム
.酸化セリウム,コランダム,人造ダイヤモンド,α一
酸化鉄,ザクロ石1エメリー(主成分:コランダムと磁
鉄K),ガーネット.ケイ石,窒化ケイ素,窒化硼素,
炭化モリブデン,炭化硼素,炭化タングステン,チタン
カーバイド,トリポリ.ケイソウ土,ドロマイト等で、
好ましくはモース硬度6以上の材料が1乃至4種迄の組
み合わせで使用される。これらの研磨剤は平均粒子サイ
ズが0.01〜5ミクロンの大きさのものが使用され、
特に好ましくは0.05〜5ミクロンである。
これらの研磨剤は結合剤100重量部に対して0.00
1〜20重量部の範囲で添加される。
1〜20重量部の範囲で添加される。
磁性層やバックコート層にはまた潤滑剤を用いてもよく
潤滑剤としては、シリコンオイル,グラファイト.二硫
化モリブデン,チッカ硼素,フッ力黒鉛,フッ素アルコ
ール,ポリオレフィン(ポリエチレンワックス等),ポ
リグリコール(ポリエチレンオキシドワックス等),ア
ルキル燐酸エステル,ポリフエニルエーテル.二硫化タ
ングステン,炭素数10〜20の一塩基性脂肪酸と炭素
数3〜12個の一価のアルコールもしくは二価のアルコ
ール,三価のアルコール,四価のアルコール,六価のア
ルコールのいずれか1つもしくは2つ以上とから成る脂
肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基性脂肪酸と
該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜28個と成
る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エテスル類等
が使用できる。又、炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪
酸アミド、脂肪酸アルコールも使用できる。これら有機
化合物潤滑剤の具体的な例としては、カブリル酸ブチル
,カプリル酸オクチル,ラウリン酸エチル,ラウリン酸
プチル.ラウリン酸オクチル,ミリスチン酸エチル,ミ
リスチン酸プチル2 ミリスチン酸オクチル,パルミチ
ン酸エチル.バルミチン酸ブチル,バルミチン酸オクチ
ル,ステアリン酸エチル,ステアリン酸ブチル.ステア
リン酸オクチル,ステアリン酸アミル,アンヒドロソル
ビタンモノステアレート,アンヒドロソルビクンジステ
アレート,アンヒドロソルビタントリステアレート,ア
ンヒドロソルビクンテトラステアレート,オレイルアル
コール,ラウリルアルコール,カプリル酸,カブリン酸
1 ラウリン酸,ミリスチン酸,バルミチン酸,ステア
リン酸.オレイン酸.エライジン酸,リノール酸,リノ
レン酸,ステアロール酸等がある。また本発明に使用さ
れる潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独で使用出来
、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、さびどめ剤(
ナフテン酸アルケニルコハク酸,ジラウリルフォスフェ
ート等)、油性剤(ナタネ油,ラウリルアルコール等)
、極圧剤(ジベンジルスルフィド,トリクレジルフォス
フエ},}リブチルホスファイト等)、清浄分散剤,粘
度指数向上剤,流動点降下剤,泡どめ剤等がある。これ
らの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.05〜2
0重量部の範囲で添加しうる。
潤滑剤としては、シリコンオイル,グラファイト.二硫
化モリブデン,チッカ硼素,フッ力黒鉛,フッ素アルコ
ール,ポリオレフィン(ポリエチレンワックス等),ポ
リグリコール(ポリエチレンオキシドワックス等),ア
ルキル燐酸エステル,ポリフエニルエーテル.二硫化タ
ングステン,炭素数10〜20の一塩基性脂肪酸と炭素
数3〜12個の一価のアルコールもしくは二価のアルコ
ール,三価のアルコール,四価のアルコール,六価のア
ルコールのいずれか1つもしくは2つ以上とから成る脂
肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基性脂肪酸と
該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜28個と成
る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エテスル類等
が使用できる。又、炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪
酸アミド、脂肪酸アルコールも使用できる。これら有機
化合物潤滑剤の具体的な例としては、カブリル酸ブチル
,カプリル酸オクチル,ラウリン酸エチル,ラウリン酸
プチル.ラウリン酸オクチル,ミリスチン酸エチル,ミ
リスチン酸プチル2 ミリスチン酸オクチル,パルミチ
ン酸エチル.バルミチン酸ブチル,バルミチン酸オクチ
ル,ステアリン酸エチル,ステアリン酸ブチル.ステア
リン酸オクチル,ステアリン酸アミル,アンヒドロソル
ビタンモノステアレート,アンヒドロソルビクンジステ
アレート,アンヒドロソルビタントリステアレート,ア
ンヒドロソルビクンテトラステアレート,オレイルアル
コール,ラウリルアルコール,カプリル酸,カブリン酸
1 ラウリン酸,ミリスチン酸,バルミチン酸,ステア
リン酸.オレイン酸.エライジン酸,リノール酸,リノ
レン酸,ステアロール酸等がある。また本発明に使用さ
れる潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独で使用出来
、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、さびどめ剤(
ナフテン酸アルケニルコハク酸,ジラウリルフォスフェ
ート等)、油性剤(ナタネ油,ラウリルアルコール等)
、極圧剤(ジベンジルスルフィド,トリクレジルフォス
フエ},}リブチルホスファイト等)、清浄分散剤,粘
度指数向上剤,流動点降下剤,泡どめ剤等がある。これ
らの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.05〜2
0重量部の範囲で添加しうる。
帯電防止剤としてカーボンブラックを磁性層やバック層
に含有させてもよい。
に含有させてもよい。
本発明の磁性層やバック層に使用されるカーボンブラッ
クはゴム用ファーネス.ゴム用サーマル,カラー用ブラ
ック,アセチレンブラック等を用いる事ができる。これ
らカーボンブラックの米国における略称の具体例を示す
とSAF,ISAF,I TSAF,T,HAF,SP
F,FF,FEF,HMF,GPF,APF,SRF,
MPF,ECF,SCF,CF,FT,MT,HCC,
HCF,MCF,LFF,RCF等があり、米国のAS
TM規格のD 1765−82aに分類されているも
のを使用することができる。本発明に使用されるこれら
カーポンブラックの平均粒子サイズは10〜1000ミ
リミクロン(電子顕微鏡)、窒素吸着法比表面積は1
〜800rrf/ g . P Hは6〜11(JIS
規格K − 6221−1982法)、DBP吸油量は
10〜400mI!./100g ( J I S規格
K − 6221−1982法)である。
クはゴム用ファーネス.ゴム用サーマル,カラー用ブラ
ック,アセチレンブラック等を用いる事ができる。これ
らカーボンブラックの米国における略称の具体例を示す
とSAF,ISAF,I TSAF,T,HAF,SP
F,FF,FEF,HMF,GPF,APF,SRF,
MPF,ECF,SCF,CF,FT,MT,HCC,
HCF,MCF,LFF,RCF等があり、米国のAS
TM規格のD 1765−82aに分類されているも
のを使用することができる。本発明に使用されるこれら
カーポンブラックの平均粒子サイズは10〜1000ミ
リミクロン(電子顕微鏡)、窒素吸着法比表面積は1
〜800rrf/ g . P Hは6〜11(JIS
規格K − 6221−1982法)、DBP吸油量は
10〜400mI!./100g ( J I S規格
K − 6221−1982法)である。
媒体に使用されるカーボンブラックのサイズは、塗布膜
の表面電気抵抗を下げる目的で10〜100 ミリミク
ロンのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御す
るときに50〜1000ミリミクロンのカーボンブラッ
クを用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカーボンブラック(100ミリミクロン以下)を、粗
面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラ
ック(50ミリミクロン以上)を用いる。このようにカ
ーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求さ
れる目的に応じて使い分けられる。また、これらのカー
ボンブラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用してもよい。
の表面電気抵抗を下げる目的で10〜100 ミリミク
ロンのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御す
るときに50〜1000ミリミクロンのカーボンブラッ
クを用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカーボンブラック(100ミリミクロン以下)を、粗
面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラ
ック(50ミリミクロン以上)を用いる。このようにカ
ーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求さ
れる目的に応じて使い分けられる。また、これらのカー
ボンブラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用してもよい。
また、カーポンブラックを製造するときの炉の温度を2
000゜C以上で処理して表面の一部をグラファイト化
したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラック
として中空カーボンブラックを使用することもできる。
000゜C以上で処理して表面の一部をグラファイト化
したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラック
として中空カーボンブラックを使用することもできる。
これらのカーボンブラックは磁性層の場合強磁性微粉末
100重量部に対して0.1〜20重量部で用いること
が望ましい。本発明に使用出来るカーボンブラックは例
えば「カーボンブラック便覧」、カーボンプラック協会
編、(昭和46年発行)を参考にすることが出来る。
100重量部に対して0.1〜20重量部で用いること
が望ましい。本発明に使用出来るカーボンブラックは例
えば「カーボンブラック便覧」、カーボンプラック協会
編、(昭和46年発行)を参考にすることが出来る。
磁気記録媒体には帯電防止剤として前記したカーボンブ
ラックの代わり又はそれと共にグラファイト,カーポン
ブラックグラフトポリマー等の導電性粉末;サボニン等
の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系.グリセリ
ン系.グリシドール系.多価アルコール,多価アルコー
ルエステル,アルキルフェノールEO付加体等のノニオ
ン界面活性剤;高級アルキルアミン類,環状アミン,ヒ
ダントイン誘導体.アミドアミン,エステルアミド.第
四級アンモニウム塩類,ビリジンそのほかの複素環類,
ホスホニウムまたはスルホニウム頚,等のカチオン界面
活性剤;カルボン酸,スルホン酸.燐酸.硫酸エステル
基,燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活
性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸頻.アミノアルコ
ールの硫酸または燐酸エステル類,アルキルベタイン型
等の両性界面活性剤等を使用してもよい。
ラックの代わり又はそれと共にグラファイト,カーポン
ブラックグラフトポリマー等の導電性粉末;サボニン等
の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系.グリセリ
ン系.グリシドール系.多価アルコール,多価アルコー
ルエステル,アルキルフェノールEO付加体等のノニオ
ン界面活性剤;高級アルキルアミン類,環状アミン,ヒ
ダントイン誘導体.アミドアミン,エステルアミド.第
四級アンモニウム塩類,ビリジンそのほかの複素環類,
ホスホニウムまたはスルホニウム頚,等のカチオン界面
活性剤;カルボン酸,スルホン酸.燐酸.硫酸エステル
基,燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活
性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸頻.アミノアルコ
ールの硫酸または燐酸エステル類,アルキルベタイン型
等の両性界面活性剤等を使用してもよい。
これらの界面活性剤は単独または混合して添加しても良
い。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが
、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の改
良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合もあ
る。
い。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが
、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の改
良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合もあ
る。
本発明で用いる非磁性支持体としてはテープとして使用
する場合には支持体の厚み2.5〜100 ミクロン程
度、好ましくは3〜70ミクロン程度が良い。ディスク
もしくはカード状の場合は厚みが0.5〜10mm程度
であり、ドラムの場合は円筒状で用いる事も出来る。素
材としてはポリエチレンテレフタレート,ポリエチレン
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等ポ
リオレフィン類,セルローストリアセテート セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体,ポリ塩化ビニ
ル等のビニル系樹脂類.ポリカーボネート,ポリアミド
,ポリスルホン等のプラスチック等が用いられる。
する場合には支持体の厚み2.5〜100 ミクロン程
度、好ましくは3〜70ミクロン程度が良い。ディスク
もしくはカード状の場合は厚みが0.5〜10mm程度
であり、ドラムの場合は円筒状で用いる事も出来る。素
材としてはポリエチレンテレフタレート,ポリエチレン
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等ポ
リオレフィン類,セルローストリアセテート セルロー
スダイアセテート等のセルロース誘導体,ポリ塩化ビニ
ル等のビニル系樹脂類.ポリカーボネート,ポリアミド
,ポリスルホン等のプラスチック等が用いられる。
これらの支持体は塗布に先立って,コロナ放電処理,プ
ラズマ処理,下塗処理,熱処理,除塵埃処理,金属蒸着
処理,アルカリ処理をおこなってもよい。
ラズマ処理,下塗処理,熱処理,除塵埃処理,金属蒸着
処理,アルカリ処理をおこなってもよい。
本発明の磁気記録媒体は、上記成分を有機溶媒を用いて
分散、混練し、非磁性支持体に塗布し、必要に応じて配
向した後に乾燥して得られる。乾燥後、必要により平面
処理を施してもよい。
分散、混練し、非磁性支持体に塗布し、必要に応じて配
向した後に乾燥して得られる。乾燥後、必要により平面
処理を施してもよい。
本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン.メヂルエチルケトン,メ
チルイソブチルケトン2 シクロヘキサノン,イソホロ
ン,テトラヒド口フラン等のケトン系;メタノール,エ
タノール,プロパノール,ブタノール.イソブチルアル
コール,イソプロビルアルコール,メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系;酢酸メチル,酢酸エチル,
酢酸ブチル,酢酸イソブチル.酢酸イソプロビル乳酸エ
チル,酢酸グリコール・モノエチルエーテル等のエステ
ル系;エーテル.グリコールジメチルエーテル,グリコ
ールモノエチルエーテル,ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン.トルエン,キシレン.クレゾー
ル,クロルベンゼン,スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロライド.エチレンクロライド
,四塩化炭素, クロロホルム,エチレンクロルヒドリ
ン.ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素, N, N
ジメチルホルムアルデヒド.ヘキサン等のものが使用で
きる。
ては、任意の比率でアセトン.メヂルエチルケトン,メ
チルイソブチルケトン2 シクロヘキサノン,イソホロ
ン,テトラヒド口フラン等のケトン系;メタノール,エ
タノール,プロパノール,ブタノール.イソブチルアル
コール,イソプロビルアルコール,メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系;酢酸メチル,酢酸エチル,
酢酸ブチル,酢酸イソブチル.酢酸イソプロビル乳酸エ
チル,酢酸グリコール・モノエチルエーテル等のエステ
ル系;エーテル.グリコールジメチルエーテル,グリコ
ールモノエチルエーテル,ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン.トルエン,キシレン.クレゾー
ル,クロルベンゼン,スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロライド.エチレンクロライド
,四塩化炭素, クロロホルム,エチレンクロルヒドリ
ン.ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素, N, N
ジメチルホルムアルデヒド.ヘキサン等のものが使用で
きる。
混純の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。磁性塗料の調製には
通常の混練機、例えば、二本ロールミル,三本ロールミ
ル,ポールミル.ベブルミル,トロンミル,サンドグラ
インダー, Szegvari(ツエグバリ)アトライ
ター,高速インペラー,分散機,高速ストーンミル,高
速度衝撃ミル.ディスバー.ニーダー,高速ミキサー,
リボンブレンダー,コニーダー,インテンシブミキサー
,タンブラー.プレンダー,ディスパーザー,ホモジナ
イザー,単軸スクリュー押し出し機.二輪スクリュー押
し出し機,及び超音波分散機などを用いることができる
。
などは適宜設定することができる。磁性塗料の調製には
通常の混練機、例えば、二本ロールミル,三本ロールミ
ル,ポールミル.ベブルミル,トロンミル,サンドグラ
インダー, Szegvari(ツエグバリ)アトライ
ター,高速インペラー,分散機,高速ストーンミル,高
速度衝撃ミル.ディスバー.ニーダー,高速ミキサー,
リボンブレンダー,コニーダー,インテンシブミキサー
,タンブラー.プレンダー,ディスパーザー,ホモジナ
イザー,単軸スクリュー押し出し機.二輪スクリュー押
し出し機,及び超音波分散機などを用いることができる
。
支持体上へ前記の磁気記録層やバック層を塗布する方法
としてはエアードクターコート ブレードコート,エア
ナイフコート,スクイズコート,含浸コート,リバース
ロールコート.トランスファーロールコート.グラビヤ
コート.キスコートキャスコート,スプレイコート,等
が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体
的説明は朝倉書店発行の「コーティング工学」253頁
〜277頁(昭和46年3月20日発行)に詳細に記載
されている。
としてはエアードクターコート ブレードコート,エア
ナイフコート,スクイズコート,含浸コート,リバース
ロールコート.トランスファーロールコート.グラビヤ
コート.キスコートキャスコート,スプレイコート,等
が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体
的説明は朝倉書店発行の「コーティング工学」253頁
〜277頁(昭和46年3月20日発行)に詳細に記載
されている。
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要により層中の磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向さ
せる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。こ
のときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜800
m/分でおこなわれ、乾燥温度が20゜C〜120゜C
で制御される。必要により表面平滑化加工を施したり、
所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録体を製
造する。
必要により層中の磁性粉末を直ちに乾燥しながら配向さ
せる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。こ
のときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜800
m/分でおこなわれ、乾燥温度が20゜C〜120゜C
で制御される。必要により表面平滑化加工を施したり、
所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録体を製
造する。
次に、本発明の方法を第1図、第2図に示した装置で実
施した具体的な例を説明する。下記の例において「部」
はすべて「重量部」を表す。
施した具体的な例を説明する。下記の例において「部」
はすべて「重量部」を表す。
■土
まず、下記組成からなる磁性塗料を調製した。
Co 7 Fez03 100
部抗磁力 (Hc 750 0 e )比表面積 4
5ボ/g (BET値) 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 10部(マレ
イン酸3%含有) 熱可塑性ポリウレタン 8部( N
2304 ) ステアリン酸 2部プチル
ステアレート 1部α一A zz
03 5部メチルエチル
ケトン 150部メチルイソブチルケ
トン 150部トルエン
80部即ち、この組成物をサンドミ
ルで十分に混合分散し、更に多官能イソシアネート(日
本ポリウレタン社製コロネー1−L)を2部添加して磁
性塗料を調製した。この磁性塗料を厚さ15μmのポリ
エチレンテレフタレートのベース(非磁性支持体1)の
表面に、乾燥厚み4.5μmになるように精密に制1卸
して塗布した。これをスーパーカレンダー処理して1/
2inch幅に裁断した。なお、BC層を形成するには
、BC層用塗料を磁性層の反対側の磁性体面に乾燥厚さ
1μmになるように塗布する。
部抗磁力 (Hc 750 0 e )比表面積 4
5ボ/g (BET値) 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 10部(マレ
イン酸3%含有) 熱可塑性ポリウレタン 8部( N
2304 ) ステアリン酸 2部プチル
ステアレート 1部α一A zz
03 5部メチルエチル
ケトン 150部メチルイソブチルケ
トン 150部トルエン
80部即ち、この組成物をサンドミ
ルで十分に混合分散し、更に多官能イソシアネート(日
本ポリウレタン社製コロネー1−L)を2部添加して磁
性塗料を調製した。この磁性塗料を厚さ15μmのポリ
エチレンテレフタレートのベース(非磁性支持体1)の
表面に、乾燥厚み4.5μmになるように精密に制1卸
して塗布した。これをスーパーカレンダー処理して1/
2inch幅に裁断した。なお、BC層を形成するには
、BC層用塗料を磁性層の反対側の磁性体面に乾燥厚さ
1μmになるように塗布する。
第1図に示す製造装置を用い、前段配向磁石3、後段配
向磁石5の磁界強度を下記表−1に示すように種々変更
し、乾燥ゾーン7の出口Aの時点で乾燥が柊了するよう
に設定し、比較例(1)〜(3)、実施例4〜l3の各
試料を得た。
向磁石5の磁界強度を下記表−1に示すように種々変更
し、乾燥ゾーン7の出口Aの時点で乾燥が柊了するよう
に設定し、比較例(1)〜(3)、実施例4〜l3の各
試料を得た。
測定は以下のように行った。
角型比 :VSMにより測定した。
表面粗さ :中心線平均表面粗さRaをカソト・オフ0
.08mmで測定した。
.08mmで測定した。
S/N比 :−シバソク社製ノイズメーターを使用し、
比較例1のビデオテープを基準 テープ(OdB)として、S/N比 の差を求めた。ハイパスフィルター 10KHz、ローパスフィルター4.2MHzで、VT
Rデッキとして、 JVCのH R − S6000を用いた。
比較例1のビデオテープを基準 テープ(OdB)として、S/N比 の差を求めた。ハイパスフィルター 10KHz、ローパスフィルター4.2MHzで、VT
Rデッキとして、 JVCのH R − S6000を用いた。
摺動ノイズ二デッキとしてH R − 3 6000を
用い、ヒューレットバッカード社のスペク トラムアナライザーにより、4MHz〜8MHzのノイ
ズレベルを、比較例 (1)を基準(OdB)としたとき の相対値として示した。負で絶対値 の大きいもの程、ノイズレベルが低 減され、良好なものであることを示 す。
用い、ヒューレットバッカード社のスペク トラムアナライザーにより、4MHz〜8MHzのノイ
ズレベルを、比較例 (1)を基準(OdB)としたとき の相対値として示した。負で絶対値 の大きいもの程、ノイズレベルが低 減され、良好なものであることを示 す。
: VTRデッキとしてH R −7000を用い、静
止画像をモニターしながら、 出力が6dB以上低下するまでの再 生時間を測定した。
止画像をモニターしながら、 出力が6dB以上低下するまでの再 生時間を測定した。
:上記各測定値よりビデオテープとし
ての性能を◎、○、Δ、×で表した。
スチル
総合評価
(以下余白)
.fLL
例1において、磁性塗料の組成を下記のように変えた。
他は例1と同様にして、下記表−2に示す各試料を得た
。
。
Co−1−F ex Ox 100
部抗磁力 (llc 650 0 e )比表面積
40M/g (BET値) 塩化ビニル系共重合体 10部熱可塑
性ポリウレタン (N : 2304) ステアリン酸 プチルステアレート α−Affi20, メヂルエヂルケトン 10部 シク口へキサノン 150部トル
エン 100部これら各
試料について、例1と同様の測定を行った。但し、S/
N比、摺動ノイズは、共に比較例14のビデオテープを
基準テープ(OdB)として測定した。結果を表−2に
示す。
部抗磁力 (llc 650 0 e )比表面積
40M/g (BET値) 塩化ビニル系共重合体 10部熱可塑
性ポリウレタン (N : 2304) ステアリン酸 プチルステアレート α−Affi20, メヂルエヂルケトン 10部 シク口へキサノン 150部トル
エン 100部これら各
試料について、例1と同様の測定を行った。但し、S/
N比、摺動ノイズは、共に比較例14のビデオテープを
基準テープ(OdB)として測定した。結果を表−2に
示す。
(以下余白)
±1
例1において、磁性塗料の組成を下記のように変えた。
他は例lと同様にして、下記表−3に示す各試料を得た
。
。
鉄系金属磁性粉末 100部抗磁力
(tlc 900 0 e )比表面積 35イ/
g 塩化ビニル系共重合体(例2と同じ) 7部エポキ
シ基、スルホン酸金属塩基含有 熱可望性ポリウレタン 13部スルホ
ン酸金属塩基含有 ステアリン酸 3部プチルス
テアレート 1部α一AI!20
, 5部メチルエチルケトン
120部シクロへキサノン
80部トルエン
100部これら各試料について、例1と同様の
測定を行った。但し、S/N比、摺動ノイズは、共に比
較例25のビデオテープを基準テープ(O d B)と
して測定した。結果を表−3に示す。
(tlc 900 0 e )比表面積 35イ/
g 塩化ビニル系共重合体(例2と同じ) 7部エポキ
シ基、スルホン酸金属塩基含有 熱可望性ポリウレタン 13部スルホ
ン酸金属塩基含有 ステアリン酸 3部プチルス
テアレート 1部α一AI!20
, 5部メチルエチルケトン
120部シクロへキサノン
80部トルエン
100部これら各試料について、例1と同様の
測定を行った。但し、S/N比、摺動ノイズは、共に比
較例25のビデオテープを基準テープ(O d B)と
して測定した。結果を表−3に示す。
くスルホン酸金属塩基含有ポリウレタン〉ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル0.5モルと酸性亜硫酸
ナトリウム1.5モルを溶媒として水を用いて温度10
0″Cで6時間反応させて、スルホン酸塩基含有多官能
性単量体を得た。次にアジピン酸1.5モルと、1.4
−ブタンジオール1.7モル、上記スルホン酸塩基多官
能性単量体0.06モルを仕込み150〜200゜Cで
約3時間かけて昇温し、更に200゜Cで4時間反応し
、3〜5llImHgで未反応の原料を除き、酸価2以
下まで反応した。得られた共重合ポリエステルの分子量
はMw2500であった。共重合ポリエステル165g
をメチルエチルケトン300部に溶解し、ジフエニルメ
タンジイソシアナート80部を加えて、80″Cで2時
間反応し、1,′4−ブタンジオール20部を加えて、
さらに2時間反応し、■,3−ブタンジオール4部を加
えて1時間反応した。得られたポリウレタンの分子量は
M−w=6,5万、Mn=2.3万であった。
リコールジグリシジルエーテル0.5モルと酸性亜硫酸
ナトリウム1.5モルを溶媒として水を用いて温度10
0″Cで6時間反応させて、スルホン酸塩基含有多官能
性単量体を得た。次にアジピン酸1.5モルと、1.4
−ブタンジオール1.7モル、上記スルホン酸塩基多官
能性単量体0.06モルを仕込み150〜200゜Cで
約3時間かけて昇温し、更に200゜Cで4時間反応し
、3〜5llImHgで未反応の原料を除き、酸価2以
下まで反応した。得られた共重合ポリエステルの分子量
はMw2500であった。共重合ポリエステル165g
をメチルエチルケトン300部に溶解し、ジフエニルメ
タンジイソシアナート80部を加えて、80″Cで2時
間反応し、1,′4−ブタンジオール20部を加えて、
さらに2時間反応し、■,3−ブタンジオール4部を加
えて1時間反応した。得られたポリウレタンの分子量は
M−w=6,5万、Mn=2.3万であった。
また、表−1〜表−3の各ビデオテープについて、前段
配向磁石強度を横軸とし、後段配向磁石強度を縦軸とし
、各試料の総合評価(◎、○、Δ、×)を対応する座標
上に記入した。この結果を第5図〜第7図に示す。ここ
で、第5図には表−1の結果を、第6図には表−2の結
果を、第7図には表−3の結果をそれぞれ記入した。第
5図〜第7図で、実線は、後段、前段の配向磁石が同強
度であるグラフを示し、実線矢印で示す側が本実施例の
範囲である。一点鎖線のグラフは、前段、後段配向磁石
の強度が磁性粉の抗磁力と等しいことを表す。二点鎖線
のグラフは、前段、後段配向磁石の強度が磁性粉の抗磁
力の3倍と等しいことを表す。
配向磁石強度を横軸とし、後段配向磁石強度を縦軸とし
、各試料の総合評価(◎、○、Δ、×)を対応する座標
上に記入した。この結果を第5図〜第7図に示す。ここ
で、第5図には表−1の結果を、第6図には表−2の結
果を、第7図には表−3の結果をそれぞれ記入した。第
5図〜第7図で、実線は、後段、前段の配向磁石が同強
度であるグラフを示し、実線矢印で示す側が本実施例の
範囲である。一点鎖線のグラフは、前段、後段配向磁石
の強度が磁性粉の抗磁力と等しいことを表す。二点鎖線
のグラフは、前段、後段配向磁石の強度が磁性粉の抗磁
力の3倍と等しいことを表す。
(a)、後段配向磁石の磁場強度は、前段配向磁石の磁
場強度と同等かそれ以上である必要がある。
場強度と同等かそれ以上である必要がある。
(b)、各配向部の磁場強度は、磁性粉の抗磁石の1〜
3倍であることが好ましい。後段配向磁力の強度が磁性
粉の抗磁力の3倍を越えるとS/N比があまり向上しな
い。配向磁石が弱いときには、角型比が向上せず、性能
に限界がある。
3倍であることが好ましい。後段配向磁力の強度が磁性
粉の抗磁力の3倍を越えるとS/N比があまり向上しな
い。配向磁石が弱いときには、角型比が向上せず、性能
に限界がある。
■土
第2図に示す製造装置を用いて試料を製造した。
すなわち、例1に挙げた磁性塗料を用い、予備乾燥部4
を動作させ、かつ実施例13と同様に前段配向磁石3A
、後段配向磁石5Aの磁界強度を設定し、下記表−4に
示す実施例36〜39の各試料を得た。また、例lの磁
性塗料において、溶媒の量を下記に示すように変更し、
実施例40の試料を得た。
を動作させ、かつ実施例13と同様に前段配向磁石3A
、後段配向磁石5Aの磁界強度を設定し、下記表−4に
示す実施例36〜39の各試料を得た。また、例lの磁
性塗料において、溶媒の量を下記に示すように変更し、
実施例40の試料を得た。
但し、実施例36〜40の製造に際しては、予備乾燥部
4の各微小乾燥ゾーン4aの熱風温度、風量を調節し、
予備乾燥部4の入口Bと出口Cとの間での固形分重量比
(百分率比)が第8図に示すように変化するようにした
。第8図において、横軸は入口Bから出口Cまでの予備
乾燥部4内の通過距離を示す(但し、予備乾燥部4の全
長を10/10とする。)。縦軸は、磁性塗料塗布層中
の固形分比率を示す。
4の各微小乾燥ゾーン4aの熱風温度、風量を調節し、
予備乾燥部4の入口Bと出口Cとの間での固形分重量比
(百分率比)が第8図に示すように変化するようにした
。第8図において、横軸は入口Bから出口Cまでの予備
乾燥部4内の通過距離を示す(但し、予備乾燥部4の全
長を10/10とする。)。縦軸は、磁性塗料塗布層中
の固形分比率を示す。
これら各試料について、角型比、表面粗さ、RF出力、
走行耐久性を測定し、下記表−4にその結果を示した。
走行耐久性を測定し、下記表−4にその結果を示した。
ープを400回走行させ、粉落ちの有
無等を調べた。Oは走行不良、粉落
ちのないことを表す。
更に、例1で示した比較例(1)、(2).(3)の試
料についても、同様の測定を行い、結果を表−4に示し
た。
料についても、同様の測定を行い、結果を表−4に示し
た。
更に、例1で示した磁性塗料において、溶媒の量を下記
のように変更した以外は、同様にして磁性塗料を製造し
た。そして、比較例(1)と同様の配向条件で配向し、
予備乾燥部4を動作させないようにして、比較例(41
)、(42)の各試料を製造した。これら各試料につい
ても、前記と同様の測定を行い、結果を表−4に示した
。
のように変更した以外は、同様にして磁性塗料を製造し
た。そして、比較例(1)と同様の配向条件で配向し、
予備乾燥部4を動作させないようにして、比較例(41
)、(42)の各試料を製造した。これら各試料につい
ても、前記と同様の測定を行い、結果を表−4に示した
。
(以下余白)
RF出力 :ビクターH R − 37000にて測定
した。
した。
走行耐久性=40゜C、80%の温湿度条件下で試料テ
以上の結果より、実施例の試料によれば、角型比、RF
出力、走行耐久性共に良好である。特に、後段配向磁石
側(出口C側)に近い位置で乾燥勾配が急な方が、更に
良好な特性が得られる。
以上の結果より、実施例の試料によれば、角型比、RF
出力、走行耐久性共に良好である。特に、後段配向磁石
側(出口C側)に近い位置で乾燥勾配が急な方が、更に
良好な特性が得られる。
以上に述べた実施例において、配向磁石の個数は2以上
とすることができるが、それらの配置は種々変更してよ
い。
とすることができるが、それらの配置は種々変更してよ
い。
へ.発明の効果
第一の発明によれば、乾燥処理前に複数箇所で配向処理
を行っており、かつ最初の配向処理と最後の配向処理の
間で予備乾燥処理を行っているので、低粘度の状態で配
向したものを、より粒子の流動が抑えられた状態で再び
配向できる。しかも、予備乾燥処理中の乾燥勾配を制御
しているので、量産時に乾燥の度合が不均一とならず、
後配向の度合がこれに起因して不均一となることもない
。
を行っており、かつ最初の配向処理と最後の配向処理の
間で予備乾燥処理を行っているので、低粘度の状態で配
向したものを、より粒子の流動が抑えられた状態で再び
配向できる。しかも、予備乾燥処理中の乾燥勾配を制御
しているので、量産時に乾燥の度合が不均一とならず、
後配向の度合がこれに起因して不均一となることもない
。
第二の発明によれば、予備乾燥部が互いに区分された複
数の乾燥領域からなっているので、予備乾燥時の乾燥勾
配を精確に制御できる。
数の乾燥領域からなっているので、予備乾燥時の乾燥勾
配を精確に制御できる。
第三の発明によれば、乾燥処理前に複数箇所で配向処理
を行っており、このうち最初の配向処理の磁場強度を最
後の配向処理の磁場強度と同等又はそれ以下としている
ので、塗布液の凝集を抑制しつつ、効果的に配向を行え
る。これにより、磁性層の表面性を改善し、摺動ノイズ
の低減、高S/Nが可能となる。
を行っており、このうち最初の配向処理の磁場強度を最
後の配向処理の磁場強度と同等又はそれ以下としている
ので、塗布液の凝集を抑制しつつ、効果的に配向を行え
る。これにより、磁性層の表面性を改善し、摺動ノイズ
の低減、高S/Nが可能となる。
図面は本発明の実施例を説明するためのものであって、
第1図、第2図はそれぞれ磁気記録媒体の製造プロセス
フロ一図、 第3図、第4図はそれぞれ磁気記録媒体の一例を示す部
分拡大断面図、 第5図、第6図、第7図はそれぞれ前段、後段配向磁石
強度と試料テープの総合評価との関係を示すグラフ、 第8図は各試料の乾燥勾配を示すグラフである。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・非磁性支持体 2・・・・・・・・・塗布部 3、3A・・・・・・・・・前段配向磁石4・・・・・
・・・・予備乾燥部 4a・・・・・・・・・微小乾燥ゾーン5、5A・・・
・・・・・・後段配向磁石7・・・・・・・・・本乾燥
部 9・・・・・・・・・磁性塗料(磁性塗料塗布層)18
・・・・・・・・・磁性層 である。
フロ一図、 第3図、第4図はそれぞれ磁気記録媒体の一例を示す部
分拡大断面図、 第5図、第6図、第7図はそれぞれ前段、後段配向磁石
強度と試料テープの総合評価との関係を示すグラフ、 第8図は各試料の乾燥勾配を示すグラフである。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・非磁性支持体 2・・・・・・・・・塗布部 3、3A・・・・・・・・・前段配向磁石4・・・・・
・・・・予備乾燥部 4a・・・・・・・・・微小乾燥ゾーン5、5A・・・
・・・・・・後段配向磁石7・・・・・・・・・本乾燥
部 9・・・・・・・・・磁性塗料(磁性塗料塗布層)18
・・・・・・・・・磁性層 である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁性塗料を支持体上に塗布し、この磁性塗料塗布層
に磁場による配向処理と乾燥処理とを施すようにした磁
気記録媒体の製造方法において、前記乾燥処理を開始す
る前に複数箇所で前記配向処理を行い、これらの複数箇
所での配向処理のうちの最初の配向処理と最後の配向処
理との間に予備乾燥処理を行い、かつこの予備乾燥処理
中の前記磁性塗料塗布層の乾燥勾配を制御したことを特
徴とする磁気媒体の製造方法。 2、磁性塗料を支持体上に塗布するための塗布部と;こ
の磁性塗料塗布層に乾燥処理を施すための本乾燥部と;
前記磁性塗料塗布層に磁場による配向処理を施すために
前記本乾燥部の上流側に設けられた複数の配向部と;互
いに区分された複数の乾燥領域からなりかつ前記複数の
配向部のうち最上流側の配向部と最下流側の配向部との
間に設けられた予備乾燥部とを有する磁気記録媒体の製
造装置。 3、磁性塗料を支持体上に塗布し、この磁性塗料塗布層
に磁場による配向処理と乾燥処理とを施すようにした磁
気記録媒体の製造方法において、前記乾燥処理を開始す
る前に複数箇所で前記配向処理を行い、これらの複数箇
所での配向処理のうち最初の配向処理のための磁場強度
を前記の複数箇所での配向処理のうち最後の配向処理の
ための磁場強度と同等又はそれ以下としたことを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28539488A JPH02132639A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28539488A JPH02132639A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02132639A true JPH02132639A (ja) | 1990-05-22 |
Family
ID=17690969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28539488A Pending JPH02132639A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 磁気記録媒体の製造方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02132639A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118562A (en) * | 1990-09-24 | 1992-06-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Vibration damper having extended temperature range and low temperature shock resistance |
US5763019A (en) * | 1996-02-13 | 1998-06-09 | Kao Corporation | Method of manufacturing magnetic recording medium |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP28539488A patent/JPH02132639A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118562A (en) * | 1990-09-24 | 1992-06-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Vibration damper having extended temperature range and low temperature shock resistance |
US5763019A (en) * | 1996-02-13 | 1998-06-09 | Kao Corporation | Method of manufacturing magnetic recording medium |
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