JPH11283240A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH11283240A JPH11283240A JP8178298A JP8178298A JPH11283240A JP H11283240 A JPH11283240 A JP H11283240A JP 8178298 A JP8178298 A JP 8178298A JP 8178298 A JP8178298 A JP 8178298A JP H11283240 A JPH11283240 A JP H11283240A
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- Japan
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- magnetic
- layer
- recording medium
- resin
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁変換特性、走行耐久性に優れた磁気記録
媒体用を得る。 【解決手段】 非磁性支持体上の少なくとも片面に、強
磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けるか、あ
るいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁性塗布層
を設け、さらにその上に強磁性粉体を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体が芳香族ポリアミドであり、前記非磁性支持体と
下層非磁性層との間、もしくは下層非磁性層を有しない
場合には非磁性支持体と磁性層の間に下記の式(1)お
よび式(2)で示される反復構成単位の共重合比がモル
比で、75/25〜95/5である3級アミノ基を有す
る共重合ポリアミドを含有する下塗り層を設けた磁気記
録媒体である。 【化1】
媒体用を得る。 【解決手段】 非磁性支持体上の少なくとも片面に、強
磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けるか、あ
るいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁性塗布層
を設け、さらにその上に強磁性粉体を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体が芳香族ポリアミドであり、前記非磁性支持体と
下層非磁性層との間、もしくは下層非磁性層を有しない
場合には非磁性支持体と磁性層の間に下記の式(1)お
よび式(2)で示される反復構成単位の共重合比がモル
比で、75/25〜95/5である3級アミノ基を有す
る共重合ポリアミドを含有する下塗り層を設けた磁気記
録媒体である。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】非磁性支持体上の少なくとも
片面に、強磁性微粉末と結合剤とを分散させてなる磁性
層を設けるか、または非磁性粉体と結合剤とを分散させ
てなる非磁性塗布層を非磁性支持体上にさらに磁性層を
設けた磁気記録媒体において極めて優れた電磁変換特
性、密着性および走行耐久性を持つ磁気記録媒体に関す
るものである。
片面に、強磁性微粉末と結合剤とを分散させてなる磁性
層を設けるか、または非磁性粉体と結合剤とを分散させ
てなる非磁性塗布層を非磁性支持体上にさらに磁性層を
設けた磁気記録媒体において極めて優れた電磁変換特
性、密着性および走行耐久性を持つ磁気記録媒体に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】本発明は、一般にオーディオ用、ビデオ
用、コンピュータ用等の磁気記録媒体として、非磁性支
持体上に強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設
けるかあるいは非磁性支持体上に非磁性粉体を結合剤中
に分散させた非磁性塗布層を設けさらにその上に強磁性
粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒
体が用いられている。近年、磁気記録分野では従来のア
ナログ記録から記録の劣化が少ないデジタル記録の実用
化が進展しているが、一般的にデジタル記録ではアナロ
グ記録に比べ多くの信号の記録が必要となるうえ、使用
される記録再生装置および記録媒体には高画質・高音質
であると同時に小型化・省スペース化が求められるため
により一層の高密度記録化が要求される。
用、コンピュータ用等の磁気記録媒体として、非磁性支
持体上に強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設
けるかあるいは非磁性支持体上に非磁性粉体を結合剤中
に分散させた非磁性塗布層を設けさらにその上に強磁性
粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒
体が用いられている。近年、磁気記録分野では従来のア
ナログ記録から記録の劣化が少ないデジタル記録の実用
化が進展しているが、一般的にデジタル記録ではアナロ
グ記録に比べ多くの信号の記録が必要となるうえ、使用
される記録再生装置および記録媒体には高画質・高音質
であると同時に小型化・省スペース化が求められるため
により一層の高密度記録化が要求される。
【0003】高密度記録を達成するためには記録信号の
短波長化や記録軌跡の狭トラック化が必要とされ、この
ために強磁性粉体の微粒子化、高充填化、媒体表面の超
平滑化などと同時に記録媒体への書き込み速度や読み込
み速度の短縮化が必要となりシリンダー回転数や磁気テ
ープの搬送速度の向上等が行われている。さらに、体積
密度向上のために記録媒体に薄手化が要求されている。
短波長化や記録軌跡の狭トラック化が必要とされ、この
ために強磁性粉体の微粒子化、高充填化、媒体表面の超
平滑化などと同時に記録媒体への書き込み速度や読み込
み速度の短縮化が必要となりシリンダー回転数や磁気テ
ープの搬送速度の向上等が行われている。さらに、体積
密度向上のために記録媒体に薄手化が要求されている。
【0004】従来、非磁性支持体としてはポリエチレン
テレフタレ−ト(PET)、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート(PEN)等が使用されてきたが、磁気記録
媒体の薄手化とともに5400〜9000rpm程度の
高速で回転する小径ヘッドに磁気テープ/ヘッド相対速
度で20m/秒以上の高速で安定して走行せしめること
が非常に困難となり、Rf出力の低下および出力変動が
大きくなる傾向が見られる。これらRf出力の低下およ
び出力変動はシリンダーヘッドのヘッドチップ取り付け
窓部への記録媒体の引き込まれ等の問題があり、記録媒
体とヘッドの間で接触が不均一になり隙間が生じること
を意味するものであり、記録・再生の際に損失が生じ出
力低下、出力変動の原因となっている。
テレフタレ−ト(PET)、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート(PEN)等が使用されてきたが、磁気記録
媒体の薄手化とともに5400〜9000rpm程度の
高速で回転する小径ヘッドに磁気テープ/ヘッド相対速
度で20m/秒以上の高速で安定して走行せしめること
が非常に困難となり、Rf出力の低下および出力変動が
大きくなる傾向が見られる。これらRf出力の低下およ
び出力変動はシリンダーヘッドのヘッドチップ取り付け
窓部への記録媒体の引き込まれ等の問題があり、記録媒
体とヘッドの間で接触が不均一になり隙間が生じること
を意味するものであり、記録・再生の際に損失が生じ出
力低下、出力変動の原因となっている。
【0005】このようないわゆるヘッド当たりには記録
媒体の幅方向のスティフネスが縦方向以上に寄与するこ
とが知られている。スティフネスMはM=Ebd3/1
2(Eはヤング率、bは磁気テープの幅、dは磁気テー
プの厚み)で表わされ、幅方向のスティフネスを高める
ためには厚さが一定の場合、支持体の幅方向のヤング率
を延伸倍率の増加などにより高めることが有効である
が、薄手化がさらに進んだ場合は延伸倍率の増加のみで
は最適領域に記録媒体のスティフネスを維持することは
できなくなってきている。そのためアラミドすなわち芳
香族ポリアミドが提案されているが、これら芳香族ポリ
アミド支持体を使用して磁気記録媒体を作製したところ
非磁性支持体と磁性層または非磁性塗布層との密着性が
充分でなく、走行途中で磁性層がヘッド・走行系との摺
動でエッジ部等から剥離、脱落しドロップアウト・走行
系の汚れの原因となることが生じた。
媒体の幅方向のスティフネスが縦方向以上に寄与するこ
とが知られている。スティフネスMはM=Ebd3/1
2(Eはヤング率、bは磁気テープの幅、dは磁気テー
プの厚み)で表わされ、幅方向のスティフネスを高める
ためには厚さが一定の場合、支持体の幅方向のヤング率
を延伸倍率の増加などにより高めることが有効である
が、薄手化がさらに進んだ場合は延伸倍率の増加のみで
は最適領域に記録媒体のスティフネスを維持することは
できなくなってきている。そのためアラミドすなわち芳
香族ポリアミドが提案されているが、これら芳香族ポリ
アミド支持体を使用して磁気記録媒体を作製したところ
非磁性支持体と磁性層または非磁性塗布層との密着性が
充分でなく、走行途中で磁性層がヘッド・走行系との摺
動でエッジ部等から剥離、脱落しドロップアウト・走行
系の汚れの原因となることが生じた。
【0006】そこで、本出願人は、ポリアミド基体フイ
ルムの下塗剤として無定形線状飽和ポリエステルあるい
はポリエステルエラストマーを使用することをそれぞれ
特公昭57−42890号公報および特公昭57−42
891号公報において提案した。また、特公昭60−3
8767号公報において、ヤング率の大きな芳香族ポリ
アミドを基体フイルムとするとともに、下塗剤としてア
ルコール可溶性ポリアミドを使用することを提案した
が、密着力の点でなお不十分であるとともに、磁性層の
表面性が不十分であるという問題点があった。さらに、
特開平7−29148号公報では、ポリアミドフイルム
の支持体上に、ポリアミド樹脂の下塗り層を形成した磁
気記録媒体を提案しているが、ポリアミドフイルムの支
持体と磁性層の密着性がより大きな平滑な下塗り層を形
成した磁気記録媒体が望まれている。
ルムの下塗剤として無定形線状飽和ポリエステルあるい
はポリエステルエラストマーを使用することをそれぞれ
特公昭57−42890号公報および特公昭57−42
891号公報において提案した。また、特公昭60−3
8767号公報において、ヤング率の大きな芳香族ポリ
アミドを基体フイルムとするとともに、下塗剤としてア
ルコール可溶性ポリアミドを使用することを提案した
が、密着力の点でなお不十分であるとともに、磁性層の
表面性が不十分であるという問題点があった。さらに、
特開平7−29148号公報では、ポリアミドフイルム
の支持体上に、ポリアミド樹脂の下塗り層を形成した磁
気記録媒体を提案しているが、ポリアミドフイルムの支
持体と磁性層の密着性がより大きな平滑な下塗り層を形
成した磁気記録媒体が望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、非磁性支持
体上に強磁性微粉末と結合剤とを分散させてなる磁性層
を設けるか、または非磁性粉体と結合剤とを分散させて
なる非磁性塗布層を非磁性支持体上にさらに磁性層を設
けた磁気記録媒体において、磁性層と非磁性支持体との
密着性が高く、走行耐久性に優れ、アラミド支持体を用
いた場合にも記録再生装置でのヘッド当りが良好で、体
積記録密度の高く、磁性層の平滑性・電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を提供することを課題とするものであ
る。
体上に強磁性微粉末と結合剤とを分散させてなる磁性層
を設けるか、または非磁性粉体と結合剤とを分散させて
なる非磁性塗布層を非磁性支持体上にさらに磁性層を設
けた磁気記録媒体において、磁性層と非磁性支持体との
密着性が高く、走行耐久性に優れ、アラミド支持体を用
いた場合にも記録再生装置でのヘッド当りが良好で、体
積記録密度の高く、磁性層の平滑性・電磁変換特性に優
れた磁気記録媒体を提供することを課題とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上の少なくとも片面に、強磁性粉体を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けるか、あるいは非磁性粉体を結合剤中
に分散させた非磁性塗布層を設け、さらにその上に強磁
性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記非磁性支持体が芳香族ポリアミドで
あり、前記非磁性支持体と下層非磁性層との間、もしく
は下層非磁性層を有しない場合には非磁性支持体と磁性
層の間に下記の式(1)および式(2)で示される反復
構成単位の共重合比がモル比で、75/25〜95/5
である3級アミノ基を有するポリアミド樹脂を含有する
下塗り層を設けた磁気記録媒体である。
上の少なくとも片面に、強磁性粉体を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けるか、あるいは非磁性粉体を結合剤中
に分散させた非磁性塗布層を設け、さらにその上に強磁
性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記非磁性支持体が芳香族ポリアミドで
あり、前記非磁性支持体と下層非磁性層との間、もしく
は下層非磁性層を有しない場合には非磁性支持体と磁性
層の間に下記の式(1)および式(2)で示される反復
構成単位の共重合比がモル比で、75/25〜95/5
である3級アミノ基を有するポリアミド樹脂を含有する
下塗り層を設けた磁気記録媒体である。
【0009】
【化2】
【0010】前記3級アミノ基を有するポリアミド樹脂
が下塗り層を塗設後に塗布される下層非磁性層で使用さ
れる溶剤に溶解しない前記の磁気記録媒体である。前記
3級アミノ基を有するポリアミド樹脂のガラス転移温度
(Tg)が15℃以上である前記の磁気記録媒体であ
る。下塗り層は厚みが0.03〜1.0μmである前記
の磁気記録媒体である。
が下塗り層を塗設後に塗布される下層非磁性層で使用さ
れる溶剤に溶解しない前記の磁気記録媒体である。前記
3級アミノ基を有するポリアミド樹脂のガラス転移温度
(Tg)が15℃以上である前記の磁気記録媒体であ
る。下塗り層は厚みが0.03〜1.0μmである前記
の磁気記録媒体である。
【0011】
【発明の実施の形態】従来、ポリアミドフイルムあるい
は芳香族ポリアミドフイルムを支持体として、無定形線
状飽和ポリエステル樹脂と塩化ビニリデンアクリロニト
リル共重合体ポリウレタンエラストマー、アルコール可
溶性ポリアミド樹脂等の下塗り層を設けた場合にも、テ
ープの薄膜化に伴う、密着力の低下に伴う磁性層・非磁
性層の剥離・脱落に伴うドロップアウト・走行系の汚れ
を防止することはできなかった。
は芳香族ポリアミドフイルムを支持体として、無定形線
状飽和ポリエステル樹脂と塩化ビニリデンアクリロニト
リル共重合体ポリウレタンエラストマー、アルコール可
溶性ポリアミド樹脂等の下塗り層を設けた場合にも、テ
ープの薄膜化に伴う、密着力の低下に伴う磁性層・非磁
性層の剥離・脱落に伴うドロップアウト・走行系の汚れ
を防止することはできなかった。
【0012】また、下塗り層塗設後に磁性層あるいは非
磁性層を塗布する場合、磁性層あるいは非磁性層で使用
される溶剤により下塗り層が膨潤あるいは溶解すると再
乾燥時に下塗り層表面の面が粗くなるという影響を受け
て磁性層の表面が粗くなり、ひいては電磁変換特性が悪
化する原因となっていることがわかった。
磁性層を塗布する場合、磁性層あるいは非磁性層で使用
される溶剤により下塗り層が膨潤あるいは溶解すると再
乾燥時に下塗り層表面の面が粗くなるという影響を受け
て磁性層の表面が粗くなり、ひいては電磁変換特性が悪
化する原因となっていることがわかった。
【0013】本発明者らは、上記問題点を解決するため
に鋭意検討した結果、非磁性支持体上の少なくとも片面
に、強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設ける
か、あるいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁性
塗布層を設け、さらにその上に強磁性粉体を結合剤中に
分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記
非磁性支持体が芳香族ポリアミドであり、前記非磁性支
持体と下層非磁性層との間、もしくは下層非磁性層を有
しない場合には非磁性支持体と磁性層の間に下記の式
(1)および式(2)で示される反復構成単位の共重合
比がモル比で、75/25〜95/5である3級アミノ
基を有するポリアミド樹脂を主成分としてなる下塗り層
を設けることによって達成されることを見いだした。
に鋭意検討した結果、非磁性支持体上の少なくとも片面
に、強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設ける
か、あるいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁性
塗布層を設け、さらにその上に強磁性粉体を結合剤中に
分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記
非磁性支持体が芳香族ポリアミドであり、前記非磁性支
持体と下層非磁性層との間、もしくは下層非磁性層を有
しない場合には非磁性支持体と磁性層の間に下記の式
(1)および式(2)で示される反復構成単位の共重合
比がモル比で、75/25〜95/5である3級アミノ
基を有するポリアミド樹脂を主成分としてなる下塗り層
を設けることによって達成されることを見いだした。
【0014】
【化3】
【0015】本発明で使用される3級アミノ基を有する
ポリアミド樹脂とは3級アミノ基を有する原料から得ら
れるポリアミド樹脂であり、少なくともいずれか一方に
3級アミノ基を有するジアミンとジカルボン酸の化合
物、あるいは3級アミノ基を有するラクタム類の化合
物、さらにはいずれか一方に3級アミノ基を有するジア
ミンとジカルボン酸との1/1(モル比)の塩を形成さ
せさらにカプロラクタム等のラクタム類と共重合させる
ことによって得られる。
ポリアミド樹脂とは3級アミノ基を有する原料から得ら
れるポリアミド樹脂であり、少なくともいずれか一方に
3級アミノ基を有するジアミンとジカルボン酸の化合
物、あるいは3級アミノ基を有するラクタム類の化合
物、さらにはいずれか一方に3級アミノ基を有するジア
ミンとジカルボン酸との1/1(モル比)の塩を形成さ
せさらにカプロラクタム等のラクタム類と共重合させる
ことによって得られる。
【0016】本発明で使用されるポリアミド樹脂の合成
法についてはプラスチック材料講座(16)「ポリアミ
ド樹脂」(福本修編、日刊工業新聞社発行);「合成高
分子V」(朝倉書店発行、村橋、井本、谷編集);米国
特許2130497号;同2130523号;同214
9273号;同2158064号;同2223403
号;同2249627号;同2534347号;254
0352号;2715620号;同2756221号;
同2939862号;同2994693号:同3012
994号;同3133956号;同3188228号;
同3193475号;同3193483号;同3197
443号;同3226362号;同3242134号;
同3247167号;同3299009号;同3328
352号;同3354123号等に記載されている。
法についてはプラスチック材料講座(16)「ポリアミ
ド樹脂」(福本修編、日刊工業新聞社発行);「合成高
分子V」(朝倉書店発行、村橋、井本、谷編集);米国
特許2130497号;同2130523号;同214
9273号;同2158064号;同2223403
号;同2249627号;同2534347号;254
0352号;2715620号;同2756221号;
同2939862号;同2994693号:同3012
994号;同3133956号;同3188228号;
同3193475号;同3193483号;同3197
443号;同3226362号;同3242134号;
同3247167号;同3299009号;同3328
352号;同3354123号等に記載されている。
【0017】3級アミノ基については側鎖あるいは主鎖
のいずれに有しても良いが、主鎖に有するのもが好まし
い。側鎖に導入するには側鎖に3級アミノ基をもつポリ
ε−カプロアミドなどを使用し、主鎖に導入するにはビ
ス(アミノプロピル)ピペラジン、1−(2−アミノエ
チル)ピペラジン等の化合物が使用できる。
のいずれに有しても良いが、主鎖に有するのもが好まし
い。側鎖に導入するには側鎖に3級アミノ基をもつポリ
ε−カプロアミドなどを使用し、主鎖に導入するにはビ
ス(アミノプロピル)ピペラジン、1−(2−アミノエ
チル)ピペラジン等の化合物が使用できる。
【0018】本発明で使用できるジアミン類としてはヒ
ドラジン、メチレンジアミン、エチレンジアミン、トリ
メチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノシクロヘキ
サン、ジ(アミノメチル)シクロヘキサン、ビス−(4
−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス−(4−アミノ
−3,5−メチルシクロヘキシル)メタン、o−フェニ
レンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ンジアミン、4,4’−ジアミノビフェニル、トリレン
ジアミン、キシレンジアミン、ナフチレンジアミン、ビ
ス(アミノメチル)ピペラジン、ビス(アミノエチル)
ピペラジン、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、1−
(2−アミノメチル)ピペラジン、1−(2−アミノエ
チル)ピペラジン、1−(2−アミノプロピル)ピペラ
ジン等が使用できる。
ドラジン、メチレンジアミン、エチレンジアミン、トリ
メチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノシクロヘキ
サン、ジ(アミノメチル)シクロヘキサン、ビス−(4
−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス−(4−アミノ
−3,5−メチルシクロヘキシル)メタン、o−フェニ
レンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ンジアミン、4,4’−ジアミノビフェニル、トリレン
ジアミン、キシレンジアミン、ナフチレンジアミン、ビ
ス(アミノメチル)ピペラジン、ビス(アミノエチル)
ピペラジン、ビス(アミノプロピル)ピペラジン、1−
(2−アミノメチル)ピペラジン、1−(2−アミノエ
チル)ピペラジン、1−(2−アミノプロピル)ピペラ
ジン等が使用できる。
【0019】ジカルボン酸類としてはシュウ酸、マロン
酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等を
使用することができる。ラクタム類としてはα−ピロリ
ドン、α−ピペリドン、γ−ブチロラクタム、δ−バレ
ロラクタム、ε−カプロラクタム、ω−カプリルラクタ
ム、ω−ラウロラクタム等が使用される。
酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等を
使用することができる。ラクタム類としてはα−ピロリ
ドン、α−ピペリドン、γ−ブチロラクタム、δ−バレ
ロラクタム、ε−カプロラクタム、ω−カプリルラクタ
ム、ω−ラウロラクタム等が使用される。
【0020】なかでも3級アミノ基を有するポリアミド
樹脂の原料としては3級アミノ基を有するジアミン類の
なかでは、2−アミノエチルピペラジン、ジカルボン酸
類ではアジピン酸、ラクタム類ではε−カプロラクタム
の組み合わせで得られるポリマーが吸湿性、ガラス転移
温度(Tg)、溶剤への溶解性等の物性面で特に好まし
い。
樹脂の原料としては3級アミノ基を有するジアミン類の
なかでは、2−アミノエチルピペラジン、ジカルボン酸
類ではアジピン酸、ラクタム類ではε−カプロラクタム
の組み合わせで得られるポリマーが吸湿性、ガラス転移
温度(Tg)、溶剤への溶解性等の物性面で特に好まし
い。
【0021】本発明で使用されるポリアミド樹脂は前記
の例示した種々の組成により溶剤に対し溶解性を示すも
のが用いられるが、特に磁性層あるいは非磁性層で使用
する溶剤に溶解しないものが好ましい。本発明で使用さ
れるポリアミド樹脂中の3級アミノ基の含有量は0.5
×10-3eq/g〜10×10-3eq/gの範囲が好ま
しく、特に2.5eq/g〜5×10-3eq/gの範囲
が好ましい。0.5×10-3eq/g未満では密着力が
確保できず、10×10-3eq/gを超えると磁気記録
媒体の端面に露出した下塗り剤が空気中の湿度の影響を
受けて粘着するという、吸湿性の増大による端面でのブ
ロッキング等が生じる。
の例示した種々の組成により溶剤に対し溶解性を示すも
のが用いられるが、特に磁性層あるいは非磁性層で使用
する溶剤に溶解しないものが好ましい。本発明で使用さ
れるポリアミド樹脂中の3級アミノ基の含有量は0.5
×10-3eq/g〜10×10-3eq/gの範囲が好ま
しく、特に2.5eq/g〜5×10-3eq/gの範囲
が好ましい。0.5×10-3eq/g未満では密着力が
確保できず、10×10-3eq/gを超えると磁気記録
媒体の端面に露出した下塗り剤が空気中の湿度の影響を
受けて粘着するという、吸湿性の増大による端面でのブ
ロッキング等が生じる。
【0022】本発明で使用されるポリアミド樹脂のガラ
ス転移温度(Tg)は0℃〜120℃が好ましく、さら
に好ましくは10℃〜80℃が好ましい。0℃未満では
端面でのブロッキングが生じ、120℃を超えると下塗
り層内の内部応力が緩和されず結果として密着力が確保
できない。
ス転移温度(Tg)は0℃〜120℃が好ましく、さら
に好ましくは10℃〜80℃が好ましい。0℃未満では
端面でのブロッキングが生じ、120℃を超えると下塗
り層内の内部応力が緩和されず結果として密着力が確保
できない。
【0023】本発明で使用されるポリアミド樹脂の分子
量については重量平均分子量400〜100000のも
のが使用できるが、特に1000〜50000のもが好
ましい。400未満では端面でのブロッキング等が生
じ、重量平均分子量が100000を越えると溶剤への
溶解性が低下し下塗り層の塗布に支障が生じる。
量については重量平均分子量400〜100000のも
のが使用できるが、特に1000〜50000のもが好
ましい。400未満では端面でのブロッキング等が生
じ、重量平均分子量が100000を越えると溶剤への
溶解性が低下し下塗り層の塗布に支障が生じる。
【0024】また、本発明の下塗り層としての好ましい
厚みは0.03〜1.0μm、さらに好ましくは0.0
5〜0.8μmである。0.03μmより薄いと密着力
が確保できず、塗布層の脱落が生じ、ドロップアウトの
増加の原因となる。1.0μmより厚いと密着力は確保
できるものの磁気記録媒体全体の厚みが厚くなり薄手化
の場合に不利となる。
厚みは0.03〜1.0μm、さらに好ましくは0.0
5〜0.8μmである。0.03μmより薄いと密着力
が確保できず、塗布層の脱落が生じ、ドロップアウトの
増加の原因となる。1.0μmより厚いと密着力は確保
できるものの磁気記録媒体全体の厚みが厚くなり薄手化
の場合に不利となる。
【0025】本発明に使用される芳香族ポリアミド樹脂
とは、テレフタルヒドラジド、パラベンズアミド、パラ
フェニレンテレフタラミドの化学結合の1種または2種
以上を主たる構成単位とするポリアミド樹脂である。パ
ラフェニレンテレフタラミドは分子の剛性が高く、また
分子の規則性、対称性が高いため、得られる支持体のヤ
ング率が高くなる。芳香族ポリアミド樹脂の重量平均分
子量は1万から10万で好ましくは3万から5万であ
る。分子量が1万以下ではヤング率が低く、10万以上
では成形加工性が悪くなるので好ましくない。
とは、テレフタルヒドラジド、パラベンズアミド、パラ
フェニレンテレフタラミドの化学結合の1種または2種
以上を主たる構成単位とするポリアミド樹脂である。パ
ラフェニレンテレフタラミドは分子の剛性が高く、また
分子の規則性、対称性が高いため、得られる支持体のヤ
ング率が高くなる。芳香族ポリアミド樹脂の重量平均分
子量は1万から10万で好ましくは3万から5万であ
る。分子量が1万以下ではヤング率が低く、10万以上
では成形加工性が悪くなるので好ましくない。
【0026】これら芳香族ポリアミド樹脂を溶融成型あ
るいは溶液成型して得られる支持体の厚さは2から80
μmであり、特に好ましくは3から10μmである。得
られた支持体の最大表面粗さは(Rmax)の値(JI
S B0601(1976)、ASA B46−1(1
962))で0.1μm以下であることが、得られた磁
気記録媒体のノイズが小さくなるので好ましい。また、
本発明の磁気記録媒体における非磁性支持体の厚みは、
3〜80μmが好ましい。
るいは溶液成型して得られる支持体の厚さは2から80
μmであり、特に好ましくは3から10μmである。得
られた支持体の最大表面粗さは(Rmax)の値(JI
S B0601(1976)、ASA B46−1(1
962))で0.1μm以下であることが、得られた磁
気記録媒体のノイズが小さくなるので好ましい。また、
本発明の磁気記録媒体における非磁性支持体の厚みは、
3〜80μmが好ましい。
【0027】本発明で使用する強磁性粉末は、特に鉄、
コバルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末を用い
るとその効果が顕著であって、α−Fe、Co、Ni、
Fe−Co合金、Fe−Co−Ni合金、Fe−Co−
Ni−P合金、Fe−Co−Ni−B合金、Fe−Ni
−Zn合金、Ni−Co合金、Co−Ni−Fe合金な
どの強磁性金属微粉末が好ましい。
コバルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末を用い
るとその効果が顕著であって、α−Fe、Co、Ni、
Fe−Co合金、Fe−Co−Ni合金、Fe−Co−
Ni−P合金、Fe−Co−Ni−B合金、Fe−Ni
−Zn合金、Ni−Co合金、Co−Ni−Fe合金な
どの強磁性金属微粉末が好ましい。
【0028】これらの強磁性金属粉末の形状は特に制限
はなく、通常は、針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される。粒子サイズは、針状の
場合は、0.05〜0.5μm、好ましくは0.05〜
0.3μm、特に好ましくは0.10〜0.25μmの
長軸長で、長軸長/短軸長は2/1〜25/1、好まし
くは3/1〜15/1、特に好ましくは4/1〜12/
1であり、板状の場合は、板径は、0.02〜0.20
μm、好ましくは0.03〜0.10μm、特に好まし
くは0.04〜0.07μmで、板径/板厚は、1/1
〜30/1、好ましくは2/1〜10/1、特に好まし
くは2.5〜7/1である。
はなく、通常は、針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される。粒子サイズは、針状の
場合は、0.05〜0.5μm、好ましくは0.05〜
0.3μm、特に好ましくは0.10〜0.25μmの
長軸長で、長軸長/短軸長は2/1〜25/1、好まし
くは3/1〜15/1、特に好ましくは4/1〜12/
1であり、板状の場合は、板径は、0.02〜0.20
μm、好ましくは0.03〜0.10μm、特に好まし
くは0.04〜0.07μmで、板径/板厚は、1/1
〜30/1、好ましくは2/1〜10/1、特に好まし
くは2.5〜7/1である。
【0029】また、これらの強磁性金属粉末の比表面積
(SBET )は、47〜80m2/g、より好ましくは5
3〜70m2/g 、抗磁力(Hc)は、1250〜25
00Oe、飽和磁化(σS )は、100〜180emu
/g、好ましくは110〜150emu/gである。含
水率は、0.1〜2.0重量%、pHは3〜11(5g
強磁性粉末/100g水)が好ましい。これらの強磁性
金属粉末の表面に、後で述べる防錆剤、表面処理剤、分
散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分
散に先立って溶剤中で含浸させて吸着させてもよい。
(SBET )は、47〜80m2/g、より好ましくは5
3〜70m2/g 、抗磁力(Hc)は、1250〜25
00Oe、飽和磁化(σS )は、100〜180emu
/g、好ましくは110〜150emu/gである。含
水率は、0.1〜2.0重量%、pHは3〜11(5g
強磁性粉末/100g水)が好ましい。これらの強磁性
金属粉末の表面に、後で述べる防錆剤、表面処理剤、分
散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分
散に先立って溶剤中で含浸させて吸着させてもよい。
【0030】また、強磁性金属粉末として、その金属分
は60重量%以上であり、そして金属分の70重量%以
上が少なくとも1種類の強磁性金属粉末あるいは合金
(例、Fe、Fe−Co、Fe−Co−Ni、Co、N
i、Fe−Ni、Co−Ni、Co−Ni−Fe)であ
り、該金属分の40重量%以下、より好ましくは20重
量%以下の範囲で他の成分(例、Al、Si、S、S
c、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、Mo、R
h、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、
Re、Au、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、
B、P)を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄等を
挙げることができる。特にこの中で金属鉄の強度を補う
ためにAl、Si、Crを単独ないし混合して表層に設
けることが望ましい。また、上記強磁性金属粉末が少量
の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素(Na、K
等)、アルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr)を含
むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末の
製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性金属
粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら公
知の方法に従って、製造することができる。
は60重量%以上であり、そして金属分の70重量%以
上が少なくとも1種類の強磁性金属粉末あるいは合金
(例、Fe、Fe−Co、Fe−Co−Ni、Co、N
i、Fe−Ni、Co−Ni、Co−Ni−Fe)であ
り、該金属分の40重量%以下、より好ましくは20重
量%以下の範囲で他の成分(例、Al、Si、S、S
c、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、Mo、R
h、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、
Re、Au、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、
B、P)を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄等を
挙げることができる。特にこの中で金属鉄の強度を補う
ためにAl、Si、Crを単独ないし混合して表層に設
けることが望ましい。また、上記強磁性金属粉末が少量
の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素(Na、K
等)、アルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr)を含
むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末の
製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性金属
粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら公
知の方法に従って、製造することができる。
【0031】特に、本発明において、強磁性粉末として
用いられる強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下
記の方法を挙げることができる。 (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法。 (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法。 (c)金属カルボニル化合物を熱分解する方法。 (d)強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、
次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加し
て還元する方法。 (e)水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法。(f)金属を低圧の不活性気
体中で蒸発させて微粉末を得る方法。
用いられる強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下
記の方法を挙げることができる。 (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法。 (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法。 (c)金属カルボニル化合物を熱分解する方法。 (d)強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、
次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加し
て還元する方法。 (e)水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法。(f)金属を低圧の不活性気
体中で蒸発させて微粉末を得る方法。
【0032】また本発明に使用する強磁性粉末として
は、板状六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バ
リウムフェライトの粒子サイズは約0.001〜1ミク
ロンの直径で厚みが直径の1/2〜1/20である。バ
リウムフェライトの比重は4〜6g/ccで、比表面積
は1m2/g〜70m2/gである。
は、板状六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バ
リウムフェライトの粒子サイズは約0.001〜1ミク
ロンの直径で厚みが直径の1/2〜1/20である。バ
リウムフェライトの比重は4〜6g/ccで、比表面積
は1m2/g〜70m2/gである。
【0033】また、FeOX(X=1.33〜1.5
0)、Co含有FeOX等を使用することもできる。本
発明の磁性層とバックコート層に使用される結合剤の樹
脂成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。
0)、Co含有FeOX等を使用することもできる。本
発明の磁性層とバックコート層に使用される結合剤の樹
脂成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。
【0034】熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃
以下、数平均分子量が10000〜300000、重合
度が約50〜2000程度のもので、より好ましくは2
00〜600程度であり、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−ス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シ
リコーン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、
ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体(セルロースアセテートブチレート、セルロースダイ
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースプ
ロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、
メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセ
ルロース等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテ
ル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用
される。
以下、数平均分子量が10000〜300000、重合
度が約50〜2000程度のもので、より好ましくは2
00〜600程度であり、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリ
ル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−ス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シ
リコーン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、
ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導
体(セルロースアセテートブチレート、セルロースダイ
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースプ
ロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、
メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセ
ルロース等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテ
ル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用
される。
【0035】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布
液の状態では重量平均分子量が200000以下であ
り、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付
加等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、こ
れらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化
又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェ
ノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボ
ネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬化樹
脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメ
ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネー
トプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジ
イソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオー
ル/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、
ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等
である。
液の状態では重量平均分子量が200000以下であ
り、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付
加等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、こ
れらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化
又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェ
ノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボ
ネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂(電子線硬化樹
脂)、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメ
ラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネー
トプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジ
イソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオー
ル/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、
ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等
である。
【0036】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸(COOM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸(SO3M)、リン酸(PO(OM)(OM))、
ホスホン酸、硫酸(OSO3M)およびこれらのエステ
ル基等の酸性基(Mは、H、アルカリ金属、アルカリ土
類金属、炭化水素基)、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、
アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ
基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル
基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基(F、C
l、Br、I)、シリル基、シロキサン基、エポキシ
基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ
基、アクリル基、フォスフィン基を通常1種以上6種以
内含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6当量
〜1×10-2当量含むことが好ましい。
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸(COOM)、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸(SO3M)、リン酸(PO(OM)(OM))、
ホスホン酸、硫酸(OSO3M)およびこれらのエステ
ル基等の酸性基(Mは、H、アルカリ金属、アルカリ土
類金属、炭化水素基)、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、
アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ
基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル
基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基(F、C
l、Br、I)、シリル基、シロキサン基、エポキシ
基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ
基、アクリル基、フォスフィン基を通常1種以上6種以
内含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6当量
〜1×10-2当量含むことが好ましい。
【0037】硬化剤としては、通常はポリイソシアネー
ト化合物が使用される。本発明の磁性層、バックコート
層の少なくとも1種に用いるポリイソシアネート化合物
としては、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン
−1,5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニル
メタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、またイソシアネート類の縮合
に依って生成した2〜10量体のポリイソシアネート、
またはトリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で
末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用するこ
とができる。これらポリイソシアネート類の重量平均分
子量は、100〜20000のものが好適である。
ト化合物が使用される。本発明の磁性層、バックコート
層の少なくとも1種に用いるポリイソシアネート化合物
としては、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン
−1,5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニル
メタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、またイソシアネート類の縮合
に依って生成した2〜10量体のポリイソシアネート、
またはトリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で
末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用するこ
とができる。これらポリイソシアネート類の重量平均分
子量は、100〜20000のものが好適である。
【0038】これらのポリイソシアネート化合物として
は具体的には、コロネートL、コロネートHL、コロネ
ート2030、コロネート2031、ミリオネートM
R、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン製)、タケ
ネートD−102、タケネートD−110N、タケネー
トD−200、タケネートD−202、タケネート30
0S、タケネート500(武田薬品製)、スミジュール
T−80、スミジュール44S、スミジュールPF、ス
ミジュールL、スミジュールN、デスモジュールL、デ
スモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュール
HL、デスモジュールT65、デスモジュール15、デ
スモジュールR、デスモジュールRF、デスモジュール
SL、デスモジュールZ4273(住友バイエル製)等
があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用し
て二つもしくはそれ以上の組み合わせによって使用する
ことができる。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、重量平均分子量
が1000〜10000のポリウレタン、水等)、アミ
ノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン等)を有する化合物や金属酸化物の触媒を併用す
る事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する化合
物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソシア
ネートは磁性層、バック層とも結合剤樹脂とポリイソシ
アネートの総量100重量部あたり2〜70重量部で使
用することが好ましく、より好ましくは5〜50重量部
である。これらの例示は、特開昭60−131622号
公報、特開昭61−74138号公報等において示され
ている。
は具体的には、コロネートL、コロネートHL、コロネ
ート2030、コロネート2031、ミリオネートM
R、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン製)、タケ
ネートD−102、タケネートD−110N、タケネー
トD−200、タケネートD−202、タケネート30
0S、タケネート500(武田薬品製)、スミジュール
T−80、スミジュール44S、スミジュールPF、ス
ミジュールL、スミジュールN、デスモジュールL、デ
スモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュール
HL、デスモジュールT65、デスモジュール15、デ
スモジュールR、デスモジュールRF、デスモジュール
SL、デスモジュールZ4273(住友バイエル製)等
があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用し
て二つもしくはそれ以上の組み合わせによって使用する
ことができる。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基
(ブタンジオール、ヘキサンジオール、重量平均分子量
が1000〜10000のポリウレタン、水等)、アミ
ノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン等)を有する化合物や金属酸化物の触媒を併用す
る事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する化合
物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソシア
ネートは磁性層、バック層とも結合剤樹脂とポリイソシ
アネートの総量100重量部あたり2〜70重量部で使
用することが好ましく、より好ましくは5〜50重量部
である。これらの例示は、特開昭60−131622号
公報、特開昭61−74138号公報等において示され
ている。
【0039】これらの結合剤の単独又は組合わされたも
のが使われ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁
性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末10
0重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲で使用
される。バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で
粉末100重量部に対して結合剤8〜400重量部の範
囲で使用される。添加剤としては、カーボンブラック、
研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止
剤、酸化防止剤、溶剤等が加えられる。
のが使われ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁
性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末10
0重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲で使用
される。バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で
粉末100重量部に対して結合剤8〜400重量部の範
囲で使用される。添加剤としては、カーボンブラック、
研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止
剤、酸化防止剤、溶剤等が加えられる。
【0040】本発明の磁性層とバック層に使用されるカ
ーボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サー
マル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用い
ることができる。これらカーボンブラックはテープの帯
電防止、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的と
して使用される。これらカーボンブラックの米国におけ
る略称の具体例をしめすと、SAF 、ISAF、IISAF 、T 、
HAF 、SPF 、FF、FEF、HMF 、GPF 、APF 、SRF 、MPF
、ECF 、SCF 、CF、FT、MT 、HCC 、HCF 、MCF 、LFF
、RCF 等があり、米国のASTM規格のD-1765-82aに分類
されているものを使用することができる。本発明に使用
されるこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは5〜
1000nm(電子顕微鏡法)、窒素吸着法比表面積は
1〜800m2/g 、pHは4〜11(JIS規格K−
6221−1982法)、ジブチルフタレート(DB
P)吸油量は10〜800ml(ミリリットル)/10
0g(JIS規格K−6221−1982 法)であ
る。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、
塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5〜100nmの
カーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するとき
に50〜1000nmのカーボンブラックを使用するこ
とができる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカーボンブラック(100nm未満)を、粗面化して
摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(1
00nm以上)を用いる。このようにカーボンブラック
の種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じ
て使い分けられる。
ーボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サー
マル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用い
ることができる。これらカーボンブラックはテープの帯
電防止、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的と
して使用される。これらカーボンブラックの米国におけ
る略称の具体例をしめすと、SAF 、ISAF、IISAF 、T 、
HAF 、SPF 、FF、FEF、HMF 、GPF 、APF 、SRF 、MPF
、ECF 、SCF 、CF、FT、MT 、HCC 、HCF 、MCF 、LFF
、RCF 等があり、米国のASTM規格のD-1765-82aに分類
されているものを使用することができる。本発明に使用
されるこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは5〜
1000nm(電子顕微鏡法)、窒素吸着法比表面積は
1〜800m2/g 、pHは4〜11(JIS規格K−
6221−1982法)、ジブチルフタレート(DB
P)吸油量は10〜800ml(ミリリットル)/10
0g(JIS規格K−6221−1982 法)であ
る。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、
塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5〜100nmの
カーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するとき
に50〜1000nmのカーボンブラックを使用するこ
とができる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカーボンブラック(100nm未満)を、粗面化して
摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(1
00nm以上)を用いる。このようにカーボンブラック
の種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じ
て使い分けられる。
【0041】また、これらのカーボンブラックを、後述
の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して
使用してもよい。また、カーボンブラックを製造すると
きの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部を
グラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカ
ーボンブラックとして中空カーボンブラックを使用する
こともできる。
の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して
使用してもよい。また、カーボンブラックを製造すると
きの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部を
グラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカ
ーボンブラックとして中空カーボンブラックを使用する
こともできる。
【0042】これらのカーボンブラックは磁性層の場
合、強磁性粉末100重量部に対して0.1〜30重量
部で用いることが望ましく、また、バックコート層の場
合は、樹脂100重量部に対し20〜400重量部で用
いることが望ましい。本発明に使用できるカーボンブラ
ックは、例えば、『カーボンブラック便覧』カーボンブ
ラック協会編(平成7年発行) を参考にすることがで
きる。
合、強磁性粉末100重量部に対して0.1〜30重量
部で用いることが望ましく、また、バックコート層の場
合は、樹脂100重量部に対し20〜400重量部で用
いることが望ましい。本発明に使用できるカーボンブラ
ックは、例えば、『カーボンブラック便覧』カーボンブ
ラック協会編(平成7年発行) を参考にすることがで
きる。
【0043】本発明の磁性層およびバックコート層に使
用される研磨材は磁気記録媒体の耐久性やビデオテープ
レコーダのヘッドクリーニング効果を向上させるために
用いられ、一般的に研磨作用もしくは減摩作用をもつ材
料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α,γ−アルミ
ナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザク
ロ石、エメリー、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼
素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チ
タンカーバイド、クオーツ、トリポリ、珪藻土、ドロマ
イト等で、主としてモース硬度6以上、より好ましくは
モース硬度8以上の材料が1内至4種迄の組合わせで使
用される。これらの研磨材は平均粒子サイズが0.00
5〜5μmの大きさのものが使用され、特に好ましくは
0.01〜2μmである。これらの研磨材は磁性層の場
合、強磁性粉末100重量部に対して0.01〜20重
量部の範囲で添加される。また、バックコート層の場
合、後述する樹脂100重量部に対して0.01〜5重
量部で用いることが望ましい。これらの具体例として
は、住友化学製のAKP1、AKP15、AKP20、
AKP30、AKP50、AKP80、Hit50、H
it100等が挙げられる。これらについては特公昭5
2−28642号公報等に記載されている。
用される研磨材は磁気記録媒体の耐久性やビデオテープ
レコーダのヘッドクリーニング効果を向上させるために
用いられ、一般的に研磨作用もしくは減摩作用をもつ材
料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α,γ−アルミ
ナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザク
ロ石、エメリー、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼
素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チ
タンカーバイド、クオーツ、トリポリ、珪藻土、ドロマ
イト等で、主としてモース硬度6以上、より好ましくは
モース硬度8以上の材料が1内至4種迄の組合わせで使
用される。これらの研磨材は平均粒子サイズが0.00
5〜5μmの大きさのものが使用され、特に好ましくは
0.01〜2μmである。これらの研磨材は磁性層の場
合、強磁性粉末100重量部に対して0.01〜20重
量部の範囲で添加される。また、バックコート層の場
合、後述する樹脂100重量部に対して0.01〜5重
量部で用いることが望ましい。これらの具体例として
は、住友化学製のAKP1、AKP15、AKP20、
AKP30、AKP50、AKP80、Hit50、H
it100等が挙げられる。これらについては特公昭5
2−28642号公報等に記載されている。
【0044】本発明の磁性層とバックコート層に使用さ
れる粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリ
ブデン、窒化ホウ素、フッ素化黒鉛、炭酸カルシウム、
硫酸バリウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸
化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリルス
チレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉末、
メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系樹脂微粉末、
ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、
ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフルオロエチレン系樹脂
微粉末等の樹脂微粉末等がある。
れる粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリ
ブデン、窒化ホウ素、フッ素化黒鉛、炭酸カルシウム、
硫酸バリウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸
化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリルス
チレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉末、
メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系樹脂微粉末、
ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、
ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフルオロエチレン系樹脂
微粉末等の樹脂微粉末等がある。
【0045】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ーンオイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシ
ポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロア
ルキルポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69
等)、脂肪酸変性シリコーンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等)、ポリグリコール(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素やケ
イ素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキ
ルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステ
ル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホ
ン酸ジエステル、アルキルリン酸エステル、コハク酸エ
ステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリア
ザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾ
ール、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素、硫黄を含
む複素環化合物、炭素数10〜40の一塩基性脂肪酸と
炭素数2〜40個の一価のアルコールもしくは二価のア
ルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価
のアルコールのいずれか1つもしくは2つ以上とから成
る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基性脂肪
酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜70個
と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル
類、炭素数8〜40の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂
肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用でき
る。
ーンオイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシ
ポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロア
ルキルポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69
等)、脂肪酸変性シリコーンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等)、ポリグリコール(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等)、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素やケ
イ素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキ
ルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステ
ル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホ
ン酸ジエステル、アルキルリン酸エステル、コハク酸エ
ステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリア
ザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾ
ール、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素、硫黄を含
む複素環化合物、炭素数10〜40の一塩基性脂肪酸と
炭素数2〜40個の一価のアルコールもしくは二価のア
ルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価
のアルコールのいずれか1つもしくは2つ以上とから成
る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基性脂肪
酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜70個
と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル
類、炭素数8〜40の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂
肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用でき
る。
【0046】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。
【0047】また本発明に使用される潤滑剤としては潤
滑油添加剤も単独若しくは組合わせで使用でき、防錆剤
として知られている酸化防止剤(アルキルフェノール、
ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファミ
ド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノ
ン、EDTA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナフテ
ン酸、アルケニルコハク酸、リン酸、ジラウリルフォス
フェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール
等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.
01〜30重量部の範囲で添加される。
滑油添加剤も単独若しくは組合わせで使用でき、防錆剤
として知られている酸化防止剤(アルキルフェノール、
ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファミ
ド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノ
ン、EDTA等の金属キレート剤)、錆どめ剤(ナフテ
ン酸、アルケニルコハク酸、リン酸、ジラウリルフォス
フェート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール
等)、極圧剤(ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等)、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.
01〜30重量部の範囲で添加される。
【0048】本発明に使用する分散剤、分散助剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2〜40個の
脂肪酸(R1COOH、R1は炭素数1〜39個のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基)、前記の脂肪酸のア
ルカリ金属(Li、Na、K等)またはアルカリ土類金
属(Mg、Ca、Ba等)、NH4 + 、Cu、Pb等か
ら成る金属石鹸(オレイン酸銅)、脂肪酸アミド;レシ
チン(大豆油レシチン)等が使用される。この他に炭素
数4〜40の高級アルコール(ブタノール、オクチルア
ルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコー
ル)及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニル
スルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステ
ル、リン酸モノエステル、リン酸ジエステル、リン酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホコハ
ク酸、スルホコハク酸金属塩、スルホコハク酸エステル
等も使用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上
で用いられ、一種類の分散剤は結合剤100重量部に対
して0.005〜20重量部の範囲で添加される。これ
ら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面
に予め被着させても良く、また分散途中で添加してもよ
い。このようなものは、例えば特公昭39−28369
号公報、特公昭44−17945号公報、特公昭48−
15001号公報、米国特許3387993号明細書、
同3470021号明細書等において示されている。
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2〜40個の
脂肪酸(R1COOH、R1は炭素数1〜39個のアルキ
ル基、フェニル基、アラルキル基)、前記の脂肪酸のア
ルカリ金属(Li、Na、K等)またはアルカリ土類金
属(Mg、Ca、Ba等)、NH4 + 、Cu、Pb等か
ら成る金属石鹸(オレイン酸銅)、脂肪酸アミド;レシ
チン(大豆油レシチン)等が使用される。この他に炭素
数4〜40の高級アルコール(ブタノール、オクチルア
ルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコー
ル)及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニル
スルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステ
ル、リン酸モノエステル、リン酸ジエステル、リン酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホコハ
ク酸、スルホコハク酸金属塩、スルホコハク酸エステル
等も使用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上
で用いられ、一種類の分散剤は結合剤100重量部に対
して0.005〜20重量部の範囲で添加される。これ
ら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面
に予め被着させても良く、また分散途中で添加してもよ
い。このようなものは、例えば特公昭39−28369
号公報、特公昭44−17945号公報、特公昭48−
15001号公報、米国特許3387993号明細書、
同3470021号明細書等において示されている。
【0049】本発明に用いる防黴剤としては、2−(4
−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロ
ジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10,10′−
オキシビスフェノキシサルシン、2,4,5,6−テト
ラクロロイソフタロニトリル、P−トリルジョードメチ
ルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロア
セト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチ
ル錫)、サリチルアニライド等がある。
−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フルオロ
ジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10,10′−
オキシビスフェノキシサルシン、2,4,5,6−テト
ラクロロイソフタロニトリル、P−トリルジョードメチ
ルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロア
セト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブチ
ル錫)、サリチルアニライド等がある。
【0050】このようなものは、例えば「微生物災害と
防止技術」1972年工学図書、「化学と工業」32,
904(1979)等に於いて示されている。本発明に
用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラ
ファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフ
トポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チ
タン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポ
ニン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価ア
ルコールエステル、アルキルフェノールEO付加体等の
ノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、環状アミ
ン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素
環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオ
ン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、
リン酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、リン酸
エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両
性界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単
独または混合して添加しても良い。また、磁気記録媒体
におけるこれらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末1
00重量部当たり0.01〜10重量部である。また、
バックコート層での使用量は結合剤100重量部当たり
0.01〜30重量部である。これらは帯電防止剤とし
て用いられるものであるが、時としてそのほかの目的、
例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助
剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される
場合もある。
防止技術」1972年工学図書、「化学と工業」32,
904(1979)等に於いて示されている。本発明に
用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラ
ファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフ
トポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チ
タン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポ
ニン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価ア
ルコールエステル、アルキルフェノールEO付加体等の
ノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、環状アミ
ン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素
環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオ
ン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、
リン酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、リン酸
エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両
性界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単
独または混合して添加しても良い。また、磁気記録媒体
におけるこれらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末1
00重量部当たり0.01〜10重量部である。また、
バックコート層での使用量は結合剤100重量部当たり
0.01〜30重量部である。これらは帯電防止剤とし
て用いられるものであるが、時としてそのほかの目的、
例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助
剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される
場合もある。
【0051】磁性層の形成は、通常の方法に従って行う
ことができる。例えば、上記強磁性粉末および樹脂成分
ならびに必要に応じて配合される研磨剤および硬化剤な
どの磁性層形成成分を溶剤とともに混練分散して磁性塗
料を調製し、この磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する
方法を利用できる。本発明の分散、混練、塗布の際に使
用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン
系;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、
メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸
イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチル
エーテル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベン
ゼン、スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアル
デヒド、ヘキサン等のものが使用できる。これらの溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。これらの溶剤は磁性層形
成塗料もしくはバック層形成塗料、下塗液の合計固形分
100重量部に対して100〜20000重量部で用い
られる。好ましい磁性層形成塗料の固形分率は10〜4
0重量%である。また、バック層形成塗料の好ましい固
形分率は5〜20重量%である。有機溶媒の代わりに水
系溶媒、すなわち水、水を主体としたアルコール、アセ
トン等の水と相溶する有機溶媒を含む溶媒も使用するこ
ともできる。
ことができる。例えば、上記強磁性粉末および樹脂成分
ならびに必要に応じて配合される研磨剤および硬化剤な
どの磁性層形成成分を溶剤とともに混練分散して磁性塗
料を調製し、この磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する
方法を利用できる。本発明の分散、混練、塗布の際に使
用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン
系;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、
メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系;酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸
イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチル
エーテル等のエステル系;ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベン
ゼン、スチレンなどのタール系(芳香族炭化水素);メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアル
デヒド、ヘキサン等のものが使用できる。これらの溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。これらの溶剤は磁性層形
成塗料もしくはバック層形成塗料、下塗液の合計固形分
100重量部に対して100〜20000重量部で用い
られる。好ましい磁性層形成塗料の固形分率は10〜4
0重量%である。また、バック層形成塗料の好ましい固
形分率は5〜20重量%である。有機溶媒の代わりに水
系溶媒、すなわち水、水を主体としたアルコール、アセ
トン等の水と相溶する有機溶媒を含む溶媒も使用するこ
ともできる。
【0052】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)など
は適宜設定することができる。磁性層形成塗料およびバ
ック層形成塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二
本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ(Sz
egvari)、アトライター、高速インペラー、分散
機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、
ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダ
ー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、
ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し
出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機
などを用いることができる。通常分散・混練にはこれら
の分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)など
は適宜設定することができる。磁性層形成塗料およびバ
ック層形成塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二
本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミ
ル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ(Sz
egvari)、アトライター、高速インペラー、分散
機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、
ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダ
ー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、
ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し
出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機
などを用いることができる。通常分散・混練にはこれら
の分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。
【0053】支持体上へ前記の磁性塗料ならびにバック
コート層塗料を塗布する方法としては、塗布液の粘度を
1〜20000センチストークス(25℃)に調製し、
エアードクターコート、ブレードコート、エアナイフコ
ート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコ
ート、トランスファーロールコート、グラビアコート、
キスコート、キャストコート、スプレイコート、ロッド
コート、正回転ロールコート、カーテンコート、バーコ
ート、押出しコート、スピンコート等が利用出来、その
他の方法も可能である。
コート層塗料を塗布する方法としては、塗布液の粘度を
1〜20000センチストークス(25℃)に調製し、
エアードクターコート、ブレードコート、エアナイフコ
ート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコ
ート、トランスファーロールコート、グラビアコート、
キスコート、キャストコート、スプレイコート、ロッド
コート、正回転ロールコート、カーテンコート、バーコ
ート、押出しコート、スピンコート等が利用出来、その
他の方法も可能である。
【0054】これら塗布液の塗布の順番は任意に選択で
き、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体
との密着力向上のためにコロナ放電処理を等を行っても
良い。また磁性層もしくはバック層を多層で構成したい
ときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよ
い。このような方法により、支持体上に約1〜200μ
mで塗布された磁性塗料は必要により層中の強磁性粉末
を直ちに20℃〜130℃で多段階で乾燥しながら50
0〜5000G程で所望の方向(垂直、長手、幅、ラン
ダム、斜め等)へ配向させる処理、すなわち磁場配向処
理を施した後、形成した磁性層を0.1〜30μm厚み
に乾燥する。
き、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体
との密着力向上のためにコロナ放電処理を等を行っても
良い。また磁性層もしくはバック層を多層で構成したい
ときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよ
い。このような方法により、支持体上に約1〜200μ
mで塗布された磁性塗料は必要により層中の強磁性粉末
を直ちに20℃〜130℃で多段階で乾燥しながら50
0〜5000G程で所望の方向(垂直、長手、幅、ラン
ダム、斜め等)へ配向させる処理、すなわち磁場配向処
理を施した後、形成した磁性層を0.1〜30μm厚み
に乾燥する。
【0055】また、このようにして乾燥された後、塗布
層に必要によりカレンダー処理を行う。カレンダー処理
には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用され
る。カレンダー処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の
除去によって生じた空孔が減少し磁性層中の強磁性粉末
の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録
媒体を得ることができる。
層に必要によりカレンダー処理を行う。カレンダー処理
には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用され
る。カレンダー処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の
除去によって生じた空孔が減少し磁性層中の強磁性粉末
の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録
媒体を得ることができる。
【0056】前記のカレンダー処理された段階では、結
合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に
含まれる硬化剤のうち、通常90重量%以上が未反応の
状態で磁性層に含有されているので、硬化処理を行っ
て、少なくとも硬化剤の50重量%(特に好ましくは8
0重量%以上)を反応させた後に、その次の処理を行う
ことが望ましい。硬化処理には、加熱硬化処理と電子線
硬化処理とがあり、本発明においては、いずれの方法で
あっても利用することができる。この硬化処理によりカ
レンダー処理された磁性層に含有される未反応の硬化剤
が、例えば塩化ビニル系共重合体およびポリウレタン系
樹脂のような樹脂成分と三次元網状の架橋構造を形成す
るように反応する。加熱処理の工程自体は既に公知であ
り、本発明においてもこれらの方法に準じて加熱処理を
行うことができる。例えば、加熱処理は、加熱時間を通
常40℃以上(好ましくは50〜80℃の範囲内)、加
熱時間を通常20時間以上(好ましくは24時間〜7日
間)に設定して行われる。また、電子線照射による硬化
処理の工程自体も既に公知であり、本発明においてもこ
れらの方法に準じて硬化処理を行うことができる。
合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に
含まれる硬化剤のうち、通常90重量%以上が未反応の
状態で磁性層に含有されているので、硬化処理を行っ
て、少なくとも硬化剤の50重量%(特に好ましくは8
0重量%以上)を反応させた後に、その次の処理を行う
ことが望ましい。硬化処理には、加熱硬化処理と電子線
硬化処理とがあり、本発明においては、いずれの方法で
あっても利用することができる。この硬化処理によりカ
レンダー処理された磁性層に含有される未反応の硬化剤
が、例えば塩化ビニル系共重合体およびポリウレタン系
樹脂のような樹脂成分と三次元網状の架橋構造を形成す
るように反応する。加熱処理の工程自体は既に公知であ
り、本発明においてもこれらの方法に準じて加熱処理を
行うことができる。例えば、加熱処理は、加熱時間を通
常40℃以上(好ましくは50〜80℃の範囲内)、加
熱時間を通常20時間以上(好ましくは24時間〜7日
間)に設定して行われる。また、電子線照射による硬化
処理の工程自体も既に公知であり、本発明においてもこ
れらの方法に準じて硬化処理を行うことができる。
【0057】本発明においては、このように作成した磁
気記録媒体をスリッター等の通常の裁断機等を使用して
所望の形状に裁断した後、プラスチックや金属のリール
に巻き取る。本発明においては、こうして作成した磁性
層の表面、または磁性層の表面およびバック層の表面
を、巻き取る直前ないしそれ以前の工程において磁気記
録媒体(磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面)を
研磨テープによりバーニッシュ処理を行ってもよい。
気記録媒体をスリッター等の通常の裁断機等を使用して
所望の形状に裁断した後、プラスチックや金属のリール
に巻き取る。本発明においては、こうして作成した磁性
層の表面、または磁性層の表面およびバック層の表面
を、巻き取る直前ないしそれ以前の工程において磁気記
録媒体(磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面)を
研磨テープによりバーニッシュ処理を行ってもよい。
【0058】
【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、実施例、比較例中において、部は重量部
を示す。 実施例1 (単層磁気記録媒体の製造) 磁性塗料液の調整 強磁性合金粉末 100部 組成:Fe/Zn/Ni=92/4/4,Hc:2000Oe, 結晶子サイズ:15nm,BET比表面積:59m2/g, 長軸径:0.12μm,針状比:7,σs:140emu/g ポリウレタン樹脂 12部 (UR8200:東洋紡績製、極性基含有ポリウレタン樹脂) 塩化ビニル系樹脂 6部 (MR110:日本ゼオン製、極性基含有塩化ビニル系樹脂) α−Al2O3(粒子サイズ0.3μm) 2部 カーボンブラック(粒子サイズ 40nm) 2部 シクロヘキサノン 110部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部 ブチルステアレート 2部 ステアリン酸 1部 上記磁性塗料組成物の各成分をオープンニーダーで60
分間混練した後、サンドミルで120分間分散した。得
られた分散液に3官能性低分子量ポリイソシアネート化
合物(日本ポリウレタン製コロネート3041)を6部
加え、さらに20分間攪拌混合したあと、1μmの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料液を
調製した。
明する。なお、実施例、比較例中において、部は重量部
を示す。 実施例1 (単層磁気記録媒体の製造) 磁性塗料液の調整 強磁性合金粉末 100部 組成:Fe/Zn/Ni=92/4/4,Hc:2000Oe, 結晶子サイズ:15nm,BET比表面積:59m2/g, 長軸径:0.12μm,針状比:7,σs:140emu/g ポリウレタン樹脂 12部 (UR8200:東洋紡績製、極性基含有ポリウレタン樹脂) 塩化ビニル系樹脂 6部 (MR110:日本ゼオン製、極性基含有塩化ビニル系樹脂) α−Al2O3(粒子サイズ0.3μm) 2部 カーボンブラック(粒子サイズ 40nm) 2部 シクロヘキサノン 110部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部 ブチルステアレート 2部 ステアリン酸 1部 上記磁性塗料組成物の各成分をオープンニーダーで60
分間混練した後、サンドミルで120分間分散した。得
られた分散液に3官能性低分子量ポリイソシアネート化
合物(日本ポリウレタン製コロネート3041)を6部
加え、さらに20分間攪拌混合したあと、1μmの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料液を
調製した。
【0059】ついで、厚さ4.5μmの芳香族ポリアミ
ド支持体上に下塗り層として2−アミノエチルピペラジ
ンのアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比90
/10の混合原料を重縮合して得た共重合体(A)を固
形分が2重量%になるようにメタノールに溶解し、乾燥
厚みで0.1μmになるように塗布乾燥した。さらに上
記磁性塗料を乾燥後の厚さが2.0μmになるように塗
布し、磁性層が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で
磁場配向を行ない、さらに乾燥後、金属ロールのみから
構成される7段のカレンダーで速度100m/分、線圧
300kg/cm、温度90℃で表面平滑化処理を行な
った後、70℃で24時間加熱硬化処理を行い3.8m
m幅に裁断し磁気テープを作製した。作製した磁気テー
プの特性を以下の評価方法によって測定し、測定結果を
表1に示す。
ド支持体上に下塗り層として2−アミノエチルピペラジ
ンのアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比90
/10の混合原料を重縮合して得た共重合体(A)を固
形分が2重量%になるようにメタノールに溶解し、乾燥
厚みで0.1μmになるように塗布乾燥した。さらに上
記磁性塗料を乾燥後の厚さが2.0μmになるように塗
布し、磁性層が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で
磁場配向を行ない、さらに乾燥後、金属ロールのみから
構成される7段のカレンダーで速度100m/分、線圧
300kg/cm、温度90℃で表面平滑化処理を行な
った後、70℃で24時間加熱硬化処理を行い3.8m
m幅に裁断し磁気テープを作製した。作製した磁気テー
プの特性を以下の評価方法によって測定し、測定結果を
表1に示す。
【0060】実施例2 下塗り層に使用する樹脂を2−アミノエチルピペラジン
のアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比80/
20の混合原料を重縮合して得た共重合体(B)に変更
して、実施例1と同様の方法で実施例2の磁気テープを
作製した。作製した磁気テープの特性を実施例1と同様
に測定し、測定結果を表1に示す。
のアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比80/
20の混合原料を重縮合して得た共重合体(B)に変更
して、実施例1と同様の方法で実施例2の磁気テープを
作製した。作製した磁気テープの特性を実施例1と同様
に測定し、測定結果を表1に示す。
【0061】 実施例3 (上層磁性塗料液の調整) 強磁性合金粉末 100部 組成:Fe/Zn/Ni=92/4/4,Hc:2000Oe, 結晶子サイズ:15nm,BET比表面積:59m2/g, 長軸径:0.12μm,針状比:7,σs:140emu/g ポリウレタン樹脂 12部 (UR8200:東洋紡績製、極性基含有ポリウレタン樹脂) 塩化ビニル系樹脂 6部 (MR110:日本ゼオン製、極性基含有塩化ビニル系樹脂) α−Al2O3(粒子サイズ0.3μm) 2部 カーボンブラック(粒子サイズ 40nm) 2部 シクロヘキサノン 110部 メチルエチルケトン 100部 トルエン 100部 ブチルステアレート 2部 ステアリン酸 1部 (下層用非磁性塗料液の調整) 非磁性無機質粉体 85部 α−酸化鉄、長軸径:0.12μm,針状比:7、 BET比表面積 55m2/g、pH6.5 ポリウレタン樹脂 10部 (UR8200:東洋紡績製、極性基含有ポリウレタン樹脂) 塩化ビニル系樹脂 8部 (MR110:日本ゼオン製、極性基含有塩化ビニル系樹脂) シクロヘキサノン 140部 メチルエチルケトン 170部 ブチルステアレート 2部 ステアリン酸 1部 上記上層用磁性塗料組成物および下層用非磁性塗料組成
物のそれぞれについて、各成分をオープンニーダーで6
0分間混練した後、サンドミルで120分間分散した。
得られた分散液に3官能性低分子量ポリイソシアネート
化合物(日本ポリウレタン製 コロネート3041)を
6部加え、さらに20分間攪拌混合したあと、1μmの
平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料
および非磁性塗料を調製した。厚さ4.5μmの芳香族
ポリアミド支持体上に下塗り層として実施例1で使用し
た共重合体(A)を固形分2重量%になるようにメタノ
ールに溶解し、乾燥厚みで0.1μmになるように塗布
乾燥した。さらに上記非磁性塗料を乾燥後の厚さが1.
8μmになるように塗布し、さらにその直後に磁性塗料
を乾燥後の厚さが0.2μmになるように同時重層塗布
した。両層が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で磁
場配向を行ない、さらに乾燥後、金属ロールのみから構
成される7段のカレンダーで速度100m/分、線圧3
00kg/cm、温度90℃で表面平滑化処理を行なっ
た後、70℃で24時間加熱硬化処理を行い3.8mm
幅に裁断し磁気テープを作製した。作製した磁気テープ
の特性を実施例1と同様に測定し、測定結果を表1に示
す。
物のそれぞれについて、各成分をオープンニーダーで6
0分間混練した後、サンドミルで120分間分散した。
得られた分散液に3官能性低分子量ポリイソシアネート
化合物(日本ポリウレタン製 コロネート3041)を
6部加え、さらに20分間攪拌混合したあと、1μmの
平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料
および非磁性塗料を調製した。厚さ4.5μmの芳香族
ポリアミド支持体上に下塗り層として実施例1で使用し
た共重合体(A)を固形分2重量%になるようにメタノ
ールに溶解し、乾燥厚みで0.1μmになるように塗布
乾燥した。さらに上記非磁性塗料を乾燥後の厚さが1.
8μmになるように塗布し、さらにその直後に磁性塗料
を乾燥後の厚さが0.2μmになるように同時重層塗布
した。両層が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で磁
場配向を行ない、さらに乾燥後、金属ロールのみから構
成される7段のカレンダーで速度100m/分、線圧3
00kg/cm、温度90℃で表面平滑化処理を行なっ
た後、70℃で24時間加熱硬化処理を行い3.8mm
幅に裁断し磁気テープを作製した。作製した磁気テープ
の特性を実施例1と同様に測定し、測定結果を表1に示
す。
【0062】実施例4 下塗り層に使用する樹脂を共重合体(B)に変更して、
実施例3と同様の方法で実施例4の磁気テープを作製し
た。作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定
し、測定結果を表1に示す。
実施例3と同様の方法で実施例4の磁気テープを作製し
た。作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定
し、測定結果を表1に示す。
【0063】比較例1 下塗り層に使用する樹脂をRV240(東洋紡績製共重
合ポリエステル 商品名:バイロン)に変更して、実施
例1と同様の方法で比較例1の磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定し、
測定結果を表1に示す。
合ポリエステル 商品名:バイロン)に変更して、実施
例1と同様の方法で比較例1の磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定し、
測定結果を表1に示す。
【0064】比較例2 下塗り層に使用する樹脂を、2−アミノエチルピペラジ
ンのアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比70
/30の混合原料を重縮合して得た共重合体(C)に変
更して、実施例1と同様の方法で比較例2の磁気テープ
を作製した。作製した磁気テープの特性を実施例1と同
様に測定し、測定結果を表1に示す。
ンのアジピン酸塩およびカプロラクタムを共重合比70
/30の混合原料を重縮合して得た共重合体(C)に変
更して、実施例1と同様の方法で比較例2の磁気テープ
を作製した。作製した磁気テープの特性を実施例1と同
様に測定し、測定結果を表1に示す。
【0065】比較例3 下塗り層に使用する樹脂をRV240(東洋紡績製共重
合ポリエステル 商品名:バイロン)に変更して、実施
例3と同様の方法で比較例3の磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定し、
測定結果を表1に示す。
合ポリエステル 商品名:バイロン)に変更して、実施
例3と同様の方法で比較例3の磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの特性を実施例1と同様に測定し、
測定結果を表1に示す。
【0066】比較例4 下塗り層に使用する樹脂をアジピン酸とヘキサメチレン
ジアミンとの1/1(モル比)化合物をカプロラクタム
と6/4(モル比)で共重合させたポリアミド樹脂
(D)に変更して、実施例3と同様の方法で比較例4の
磁気テープを作製した。作製した磁気テープの特性を実
施例1と同様に測定し、測定結果を表1に示す。
ジアミンとの1/1(モル比)化合物をカプロラクタム
と6/4(モル比)で共重合させたポリアミド樹脂
(D)に変更して、実施例3と同様の方法で比較例4の
磁気テープを作製した。作製した磁気テープの特性を実
施例1と同様に測定し、測定結果を表1に示す。
【0067】
【表1】 下塗り剤 密着力 表面 出力 出力 DO 樹脂種類 上層使用溶剤 (g/mm) 粗さ 低下 (個) への溶解性 (nm) (dB) (dB) 実施例1 共重合体A 不溶 60 4.0 0.3 −0.3 1 実施例2 共重合体B 不溶 50 4.2 0.2 −0.2 5 実施例3 共重合体A 不溶 65 2.8 2.2 −0.2 5 実施例4 共重合体B 不溶 60 2.9 2.3 −0.3 2 比較例1 RV240 溶解 10 4.6 −0.8 −1.3 70 比較例2 共重合体C 不溶 20 4.0 0.3 −1.3 60 比較例3 RV240 溶解 15 3.5 1.9 −1.2 65 比較例4 共重合体D 不溶 25 3.0 2.0 −1.3 55
【0068】(測定方法) (1)密着力:3.8mm幅に裁断した磁気テープの一
部を両面接着テープで台紙に貼り、磁気テープの一端を
他端と同方向に引っ張ったときの23℃、50%RH環
境下での剥離強度を測定した。 (2)磁性層表面粗さ:デジタルオプチカルプロフィル
メーター(WYKO製)を用いた光干渉法により得られ
た中心線平均粗さで表した。 (3)電磁変換特性 出力:試料の磁気テープを23℃、50%RHにおいて
周波数4.7MHzの信号を記録しこれを再生する。初
回再生時の出力を実施例1のテープとの相対的な出力で
評価した。 出力低下:初回再生時の出力の測定後、1000回連続
繰り返し走行させ、出力を連続して再生し、各試料の1
回目の出力を0dBとして、1000回後の出力を測定
して出力低下として表した。 (4)ドロップアウト:試料の磁気テープを23℃、5
0%RHにおいて周波数2.35MHzの信号を記録し
これを再生し、−16dB以上の出力低下で長さが15
μs以上のもののドロップアウト数を1パス走行時を基
準に100パス走行後の増加率をDOとして表した。
部を両面接着テープで台紙に貼り、磁気テープの一端を
他端と同方向に引っ張ったときの23℃、50%RH環
境下での剥離強度を測定した。 (2)磁性層表面粗さ:デジタルオプチカルプロフィル
メーター(WYKO製)を用いた光干渉法により得られ
た中心線平均粗さで表した。 (3)電磁変換特性 出力:試料の磁気テープを23℃、50%RHにおいて
周波数4.7MHzの信号を記録しこれを再生する。初
回再生時の出力を実施例1のテープとの相対的な出力で
評価した。 出力低下:初回再生時の出力の測定後、1000回連続
繰り返し走行させ、出力を連続して再生し、各試料の1
回目の出力を0dBとして、1000回後の出力を測定
して出力低下として表した。 (4)ドロップアウト:試料の磁気テープを23℃、5
0%RHにおいて周波数2.35MHzの信号を記録し
これを再生し、−16dB以上の出力低下で長さが15
μs以上のもののドロップアウト数を1パス走行時を基
準に100パス走行後の増加率をDOとして表した。
【0069】
【発明の効果】本発明は、少なくとも非磁性支持体上の
片面にに強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設
けるかあるいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁
性塗布層を設けさらにその上に強磁性粉体を結合剤中に
分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁
気記録媒体の非磁性支持体が芳香族ポリアミドの場合に
非磁性支持体と磁性層あるいは非磁性塗布層との間に、
特定の繰り返し単位を有する、磁性層あるいは非磁性層
に使用する溶剤に溶解しないポリアミド樹脂からなる下
塗り層を設けることにより非磁性支持体と磁性層あるい
は非磁性塗布層との密着性が向上し塗布層の脱落が防止
されドロップアウトの発生も少なく走行耐久性に優れる
とともに磁気記録媒体の表面平滑性が優れることにより
高出力が得られる磁気記録媒体を提供することができ、
従来方法に比較し顕著な効果が認められる。
片面にに強磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設
けるかあるいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁
性塗布層を設けさらにその上に強磁性粉体を結合剤中に
分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁
気記録媒体の非磁性支持体が芳香族ポリアミドの場合に
非磁性支持体と磁性層あるいは非磁性塗布層との間に、
特定の繰り返し単位を有する、磁性層あるいは非磁性層
に使用する溶剤に溶解しないポリアミド樹脂からなる下
塗り層を設けることにより非磁性支持体と磁性層あるい
は非磁性塗布層との密着性が向上し塗布層の脱落が防止
されドロップアウトの発生も少なく走行耐久性に優れる
とともに磁気記録媒体の表面平滑性が優れることにより
高出力が得られる磁気記録媒体を提供することができ、
従来方法に比較し顕著な効果が認められる。
Claims (4)
- 【請求項1】 非磁性支持体上の少なくとも片面に、強
磁性粉体を結合剤中に分散させた磁性層を設けるか、あ
るいは非磁性粉体を結合剤中に分散させた非磁性塗布層
を設け、さらにその上に強磁性粉体を結合剤中に分散さ
せた磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体が芳香族ポリアミドであり、前記非磁性支持体と
下層非磁性層との間、もしくは下層非磁性層を有しない
場合には非磁性支持体と磁性層の間に下記の式(1)お
よび式(2)で示される反復構成単位の共重合比がモル
比で、75/25〜95/5である3級アミノ基を有す
るポリアミド樹脂を含有する下塗り層を設けたことを特
徴とする磁気記録媒体。 【化1】 - 【請求項2】 前記3級アミノ基を有するポリアミド樹
脂が下塗り層を塗設後に塗布される下層非磁性層で使用
される溶剤に溶解しないことを特徴とする請求項1記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記3級アミノ基を有するポリアミド樹
脂のガラス転移温度(Tg)が15℃以上であることを
特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 下塗り層は厚みが0.03〜1.0μm
であることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8178298A JPH11283240A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 磁気記録媒体 |
US09/280,004 US6338896B1 (en) | 1998-03-27 | 1999-03-29 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8178298A JPH11283240A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11283240A true JPH11283240A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13756063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8178298A Pending JPH11283240A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11283240A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114269872A (zh) * | 2019-08-20 | 2022-04-01 | 3M创新有限公司 | 包括混合溶剂屏障和底漆层的膜 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP8178298A patent/JPH11283240A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114269872A (zh) * | 2019-08-20 | 2022-04-01 | 3M创新有限公司 | 包括混合溶剂屏障和底漆层的膜 |
CN114269872B (zh) * | 2019-08-20 | 2023-12-29 | 3M创新有限公司 | 包括混合溶剂屏障和底漆层的膜 |
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