JPH02130908A - 観察装置 - Google Patents

観察装置

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Publication number
JPH02130908A
JPH02130908A JP63285545A JP28554588A JPH02130908A JP H02130908 A JPH02130908 A JP H02130908A JP 63285545 A JP63285545 A JP 63285545A JP 28554588 A JP28554588 A JP 28554588A JP H02130908 A JPH02130908 A JP H02130908A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
observation
scanning
light
wafer
lens
Prior art date
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Pending
Application number
JP63285545A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneo Kanda
神田 恒雄
Hideki Ine
秀樹 稲
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH02130908A publication Critical patent/JPH02130908A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は観察装置に関し、特に半導体素子製造工程にお
いてレチクル(マスク)とウェハとを整合する際にレー
ザ等の光源によって光走査されたレチクル面やウェハ面
)の走査面の一部を観察する際に好適な観察装置に関す
るものである。
(従来の技術) 従来より半導体素子製造用の投影露光装置においてはそ
の一部に観察装置を設けて、これによりレチクルとウェ
ハ等の2つの物体を所望の位置に自動的に位置合わせを
行う際のつの物体の位置関係を観察している。
本出願人はこのような半導体製造用の投影露光装置にお
ける観察装置を例えば特開昭59−100805号公報
等で提案している。
同公報ではレチクル面上とウニ八面上のアライメントマ
ークが形成されている観察面をレーザからの光束で光走
査している。そしてIII察面からの光束を光分割手段
を介して観察系の接眼レンズ側に導光し、所定倍率で観
察している。
一般にこのような観察装置はレチクル面やウェハ面のレ
ーザ光束に対する反射率が低く、即ち観察面からのレー
ザ光束の反射光lが少ない為暗くなり観察しにくいとい
う問題点があった。
特にIl察先光学系倍率を高めてレチクル面やウニへ面
を拡大観察しようとすると観察面の明るさが極端に低下
し、良好なる観察が大変難しくなるという問題点があり
だ、この他一般にレーザ光束による走査領域が観察領域
より大きく設定されている為、観察面が暗くなる傾向が
あった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は本出願人が先に特開昭59− 100805号公報で提案した観察装置を改良し、走査
系の走査部を停止手段によりレーザ光束を観察したいレ
チクル面やウニ八面上の任意の一点に停止させると共に
走査系の一部に装着した拡散板を回転又は振動させるこ
とにより観察面上に生ずるスペックルを除去し、明るく
常に良好なるlI!察が出来るようにした半導体素子製
造用の投影露光装置に好適な観察装置の提供を目的とす
る。
(問題点を解決するための手段) 光源からの光束を用いて走査面を光走査する走査系と該
走査系により光走査された該走査面上の一部の観察面を
観察する観察系と其光源からの光束が該観察面上の任意
の一点を照射するように該走査系の走査部を停止させる
停止手段と、該停止手段により走査部を停止させたとき
に該走査系の任意の位置に装着した着脱自在の拡散板を
回転又は振動するようにした拡散板駆動手段と該観察面
上の任意の位置を観察するように該観察系の少なくとも
一部の要素を移動させる観察系駆動手段とを有している
ことである。
(実施例) 第1図は本発明を半導体素子製造用の投影露光装置に適
用したときの一実施例の要部概略図である。
同図においてレーザ11から放射されたレーザ光束りは
コンデンサーレンズ12により集光され、走査用の回転
多面鏡13に入射する。
回転多面鏡13は停止手段13aにより任意の位置で停
止制御できるように構成されている。
反射偏向されたレーザ光束りは「−θレンズ!4とフィ
ールドレンズ16により、そして回転多面11113に
よりスリット64面上に集光している。その後、後述す
る復路の光束を観察系や光電検出系方向に分割する偏光
ビームスプリッタ17を通りリレーレンズ18と対物レ
ンズ21によりレチクルl[fi上の走査領域に集光し
ている。そして回転多面1113を回転させることによ
りレチクル1面上のアライメントマーク等が形成されて
いる観!!fMMlaをレーザ光束りで光走査している
一方、レチクル1を通過したレーザ光束りはλ/4板2
板金3挿した投影光学系22を介してウェハ2面上のレ
チクル1面の領域!aと共役関係にある領域2aに入射
している0回転多面鏡13を回転させることにより領域
2aを領域1aと同様に光走査している。
光走査されたレチクル1面上の領域1aから反射したレ
ーザ光束及びウェハ2面上の領域2aから反射したレー
ザ光束は今来た光路を逆光し、偏光ビームスプリッタ1
7で反射分離され結像レンズ60方向に導光される。そ
してビームスプリッタ6!により反射光と透過光に分割
される。このうちビームスプリッタ61を透過したレー
ザ光束はfin用の接眼レンズに相当するエレクタ52
に導光される。エレクタ52はtl!察倍率を変えて観
察する為の交換可能な複数のエレクタを有している。
又エレクタ52は観察系駆動手段52aにより移動可能
とな7ており、これにより後述するレチクルlやウェハ
2のII寮面上の任意の位置が観察出来るように設定さ
れている。
又ビームスプリッタ61で反射したレーザ光束は結像レ
ンズ30で集光される。そのうち部分遮光板32の中心
部の不透過部32aに集光した光束は遮光される。これ
に対し部分遮光板32の周辺部の透過領域に入射した光
束は通過しコンデンサレンズ33で集光され光電変m1
134面上に集光される。このときの光電変!11!基
34からの出力信号を利用してレチクルlとウェハ2の
位置合わせを行ワている0次に本実施例における位置合
わせ方法について説明する。
いまレチクルlとウェハ−2の走査された個所が7ライ
メントマークが形成されていない平滑面であれば、それ
からの反射光(以下「正常光」という、)は散乱される
ことなく、元の光路を戻りビームスプリッタ17に至る
。一方、走査された個所が平滑面でない場合、即ちアラ
イメントマークをレーザ光束りが照射した場合には、レ
ーザ光束り、はこれらのマークエツジで散乱する散乱反
射光となる。そして、この散乱反射光は往路をそのまま
戻らず、リレーレンズ18を介して偏光ビームスプリッ
タ17に導かれる。
そして正常光と散乱反射光は偏光ビームスプリッタ−1
7で八に反射され結像レンズ6oで集光されビームスプ
リッタ61で反射して結像レンズ30により部分遮光板
32に導光される6部分遮光板32は中央部が遮光部3
2a、周辺部が透過部の部材より構成されている。この
うち正常光は結像レンズ30で集光され、部分遮光板3
2の中央部の非透過部32aに入射し、これにより遮光
される。
一部アライメントマークに基づく散乱反射光は部分遮光
板32の中心部に°集光することはなく。
部分遮光板32面上で拡がり、部分遮光板32の周辺部
の透過部を通過し光電変換部34に入射する。
本実施例ではこのときの光電変換部34からの出力信号
を用い特開昭59−100805号公報で開示した方法
を用いてレチクル1とウェハ2との位置合せを行ってい
る。
一般に第1図に示す装置においては第2図に示すように
f−θレンズ14の受光角Bは回転多面鏡13によりレ
ーザ光束りが偏向される角度Aよりも小さく設定されて
いる。その為レーザ光束りが「−θレンズ14の受光角
B以外の方向に偏向されている間はレーザ光束は観察領
域に導光されない。
第3図はこのときの観察面の照度Iと時間上との関係を
示す図である。
同図に示すように観察面はレーザ光束の入射状態に応じ
て明暗を周期的に繰り返す状態で照明される。
従って観察面の照度を増すには明暗のデユーティを変え
観察領域に入射するレーザ光束の照射時間を長くすれば
良い。
この為本実施例では前述の如く走査部である回転多面j
J! 13を停止手段13aにより観察領域内の所定の
位置に停止固定し、観察領域に常にレーザ光束が入射す
るようにして観察面上の照度を上げている。
次に本実施例においてレチクルlやウェハ2面上の走査
領域の一部を観察する場合について説明する。
まず回転多面jJ l 3をレーザ光束りが走査領域の
対象とする観察位置に入射するように停止手段13aに
よって停止させる6次いで拡散板67をスリット64近
傍の光路上に挿入し、拡散板駆動手段67aにより振動
又は回転させる。これによりレチクル1面やウェハ2面
上の観察領域の均一照明を行うと共に観察傾城上におけ
るスペックルの発生を軽減させている。そしてa先糸の
エレクタ52を観察系駆動手段52aにより移動させエ
レクタ52が観察位置に対向して配置されるようにして
いる。
このようにして本実施例ではレチクルやウェハ面上の対
象とする観察面を明るく、しかもスペックルのない良好
なる状態で観察が出来るようにしている。
尚本実施例において回転多面鏡13を停止し観察面を観
察する際に回転多面鏡13からスリット64の間の任意
の位置に1例又はf−θレンズ14とフィールドレンズ
16との間に付加レンズ70を装着し、レーザ光束りの
レチクル1面上への入射スポット径を拡大させれば、よ
り均一な照度分布が得られるので好ましいや 面このときは拡散板67を平行平面板とみなし、光学系
全体の晴の共軛関係が変化しないように付加レンズ70
の屈折力や配置位置を設定するのが望ましい。
本実施例においてエレクタ−の観察倍率がエレクタ−を
交換したり、ズームレンズ専で構成して切り換えること
ができるようにし、高倍のときは前述の如く回転多面鏡
を停止させて観察するようにし、低倍のときは回転多面
鏡を停止させず回転させた状態で観察するようにしても
良い、このようにすれば高倍、低倍の切り換えの際の観
察面の明るさの変化を小さく押えることができるので好
ましい。
又エレクタによる空中像を観察する代わりに結像系を用
いて撮像素子面上に観察面上の像を形成してTVモニタ
で観察するように構成しても良い。
(発明の効果) 本発明によればレーザ光束で光走査される走査部−Hの
一部を観察する際、走査部を停止させ。
レーザ光束が走査面上の観察領域に入射するようにし、
かつ回転又は振動可能の拡散板を走査系の所定の光路中
に装着することにより、スペックルの発生を軽減させ、
観察の際の像の明るさの変動を少なくし、常に良好なる
明るさの観察を可能とした特に半導体素子製造用の投影
露光装置に好適な観察装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を半導体素子製造用の投影露光装置に適
用したときに一実施例の要部概略図、第2図は第1図の
一部分の説明図、第3図は回転多面鏡の回転時の観察面
上における照度の経時変化の説明図である0図中1はレ
チクル、2はウェハ、11はレーザ、12はコンデンサ
ーレンズ。 13は回転多面鏡、13aは停止手段、14はf−θレ
ンズ、70は付加レンズ、16はフィールドレンズ、6
4はスリット、17は偏光ビームスプリッタ、18はリ
レーレンズ、21は対物レンズ、22は投影光学系、2
3はλ/4板、61はビームスプリッタ−152はエレ
クタ。 32は部分遮光板、34は充電変換部、67は拡散板、
52aは観察系駆動手段、67aは拡散板駆動手段であ
る。 夷 嶌 ■

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源からの光束を用いて走査面を光走査する走査
    系と該走査系により光走査された該走査面上の一部の観
    察面を観察する観察系と該光源からの光束が該観察面上
    の任意の一点を照射するように該走査系の走査部を停止
    させる停止手段と、該停止手段により走査部を停止させ
    たときに該走査系の任意の位置に装着した着脱自在の拡
    散板を回転又は振動するようにした拡散板駆動手段と該
    観察面上の任意の位置を観察するように該観察系の少な
    くとも一部の要素を移動させる観察系駆動手段とを有し
    ていることを特徴とする観察装置。
JP63285545A 1988-11-11 1988-11-11 観察装置 Pending JPH02130908A (ja)

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JP63285545A JPH02130908A (ja) 1988-11-11 1988-11-11 観察装置

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JP (1) JPH02130908A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6529625B2 (en) 1997-06-02 2003-03-04 Canon Kabushiki Kaisha Position detecting method and position detecting device for detecting relative positions of objects having position detecting marks by using separate reference member having alignment marks
US6559924B2 (en) 2000-06-01 2003-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Alignment method, alignment apparatus, profiler, exposure apparatus, exposure apparatus maintenance method, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor manufacturing factory
US6636311B1 (en) 1998-12-01 2003-10-21 Canon Kabushiki Kaisha Alignment method and exposure apparatus using the same
KR100841424B1 (ko) * 2006-04-13 2008-06-25 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 간섭 패턴들을 감소시키기 위해 회절 광학기에 대해 빔을이동시키는 방법
US9095442B2 (en) 1999-10-20 2015-08-04 Krt Investors, Inc. Method and apparatus for the treatment of the intervertebral disc annulus
US9114025B2 (en) 1999-10-20 2015-08-25 Krt Investors, Inc. Methods and devices for spinal disc annulus reconstruction and repair
JP2016080534A (ja) * 2014-10-17 2016-05-16 株式会社リコー 投射装置及び視差取得装置
US9675347B2 (en) 1999-10-20 2017-06-13 Krt Investors, Inc. Apparatus for the treatment of tissue

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