JPH02129009A - 酸化物超伝導体の製造方法 - Google Patents
酸化物超伝導体の製造方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は所望する組成比の酸化物超伝導体を製造する方
法に関する。
法に関する。
〈従来の技術〉
例えばビスマス系の酸化物超伝導体として、ビスマス(
B1)、ストロンチュウム(Sr)、カルシュラム(C
a)、銅(Cu)酸素(0)の組成比が(2+ 2+
L 2+ 8)のB i2S r2CaICu
208、組成比が(21212+ 31 10)のB
12Sr2Ca2Cu3010が知られている。そし
て、B 12Sr2Ca2Cu3010は臨界温度Tc
が100に級、B 12Sr2Calcu208は臨界
温度TCが80級であり、高温超伝導体としては組成比
が(2,2,2,3,10)のものが優れている。
B1)、ストロンチュウム(Sr)、カルシュラム(C
a)、銅(Cu)酸素(0)の組成比が(2+ 2+
L 2+ 8)のB i2S r2CaICu
208、組成比が(21212+ 31 10)のB
12Sr2Ca2Cu3010が知られている。そし
て、B 12Sr2Ca2Cu3010は臨界温度Tc
が100に級、B 12Sr2Calcu208は臨界
温度TCが80級であり、高温超伝導体としては組成比
が(2,2,2,3,10)のものが優れている。
従来、B 12sr2Calcu208の超伝導体薄膜
は、Bi、Sr、Ca、Cuを原料としてスパッタリン
グ法、蒸着法、CVD法等により組成比(2、2,2,
3,10)のB1−5r−Ca−Cu−0の薄膜を形成
し、これを熱処理することにより製造している。
は、Bi、Sr、Ca、Cuを原料としてスパッタリン
グ法、蒸着法、CVD法等により組成比(2、2,2,
3,10)のB1−5r−Ca−Cu−0の薄膜を形成
し、これを熱処理することにより製造している。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、第4図に示すように、組成比(2、2,
2,3,10)が存在する相は組成比(2、2,1,2
,8)が存在する相に較べて高温で且つ狭い範囲あり、
更には、組成比(2,2゜2、 3. 10)のものの
ペロブスカイト構造の工ビタキシャル成長層は組成比(
2,2,1,2゜8)のものに較べて長く必要であるた
め、組成比(2+ 21 29 31 10) の
B1−3r−Ca−Cu−0の薄膜を熱処理して超伝導
体を製造しても、この超伝導体はかなりの確率で組成比
(2゜2、 1. 2. 8)のものになってしまう。
2,3,10)が存在する相は組成比(2、2,1,2
,8)が存在する相に較べて高温で且つ狭い範囲あり、
更には、組成比(2,2゜2、 3. 10)のものの
ペロブスカイト構造の工ビタキシャル成長層は組成比(
2,2,1,2゜8)のものに較べて長く必要であるた
め、組成比(2+ 21 29 31 10) の
B1−3r−Ca−Cu−0の薄膜を熱処理して超伝導
体を製造しても、この超伝導体はかなりの確率で組成比
(2゜2、 1. 2. 8)のものになってしまう。
このため、高温超伝導体として優れる組成比(2,2゜
2、 3. 10)の酸化物超伝導体の製造は、温度等
の条件が厳しく要求されてかなり困難であった。
2、 3. 10)の酸化物超伝導体の製造は、温度等
の条件が厳しく要求されてかなり困難であった。
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、B 1
2sr2Ca2Cu3010のBi系酸化物超伝導体等
といった所望の組成比の超伝導体を容易に製造すること
ができる方法を提供することを目的とする。
2sr2Ca2Cu3010のBi系酸化物超伝導体等
といった所望の組成比の超伝導体を容易に製造すること
ができる方法を提供することを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
本発明に係る酸化物超伝導体の製造方法は、酸化物超伝
導体の組成比を有した原料に該酸化物超伝導体の相平衡
状態を変更させる物質を含ませ、当該物質を含んだ原料
を熱処理して酸化物超伝導体を製造することを特徴とす
る。
導体の組成比を有した原料に該酸化物超伝導体の相平衡
状態を変更させる物質を含ませ、当該物質を含んだ原料
を熱処理して酸化物超伝導体を製造することを特徴とす
る。
く作用〉
例えば、B i2s r2Ca2Cu3010の酸化物
超伝導体薄膜は、金属組成比(2,2,2,3)のBi
、Sr、Ca、Cuに加えてBi25r2Ca2Cu
3010の相平衡状態を低温域側へ変更させる物質を含
ませてスパッタリング法等で薄膜を形成し、この薄膜を
酸素雰囲気中で熱処理することにより製造する。
超伝導体薄膜は、金属組成比(2,2,2,3)のBi
、Sr、Ca、Cuに加えてBi25r2Ca2Cu
3010の相平衡状態を低温域側へ変更させる物質を含
ませてスパッタリング法等で薄膜を形成し、この薄膜を
酸素雰囲気中で熱処理することにより製造する。
〈実施例〉
本発明の酸化物超伝導体の製造方法を、Bi25r2C
a2Cu3010の酸化物超伝導体を製造する実施例に
基づいて説明する。
a2Cu3010の酸化物超伝導体を製造する実施例に
基づいて説明する。
笈」fia廻
本実施例では、組成比(2,2,2,3)となるBi、
Sr、Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超伝
導体の相平衡状態を低温域へ変更させる物質としてCu
Oを含ませ、当該物質を含んだ原料により基板上に薄膜
を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱処理してB i
2S r2Ca2Cu3010の酸化物超伝導体薄膜を
製造した。
Sr、Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超伝
導体の相平衡状態を低温域へ変更させる物質としてCu
Oを含ませ、当該物質を含んだ原料により基板上に薄膜
を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱処理してB i
2S r2Ca2Cu3010の酸化物超伝導体薄膜を
製造した。
CuOを含んだ原料により基板上に薄膜を形成する手段
としては、CuOを含んだ原料をターゲットとしたスパ
ッタリング法を用いた。尚、薄膜を形成する手段として
は、CuOを含んだ原料を蒸発源とした蒸着法、あるい
は、B1、Sr、CaS Cuを組成比(2,2,2,
3)となるよう各分圧で制御しこれにCuOを付加させ
るようにしたCVD法を用いてもよい。
としては、CuOを含んだ原料をターゲットとしたスパ
ッタリング法を用いた。尚、薄膜を形成する手段として
は、CuOを含んだ原料を蒸発源とした蒸着法、あるい
は、B1、Sr、CaS Cuを組成比(2,2,2,
3)となるよう各分圧で制御しこれにCuOを付加させ
るようにしたCVD法を用いてもよい。
そして、薄膜を大気中で100時間熱処理して酸化物超
伝導体薄膜を得た。
伝導体薄膜を得た。
金属組成比(2,2,2,3)のBi25r2Ca2C
u3010(分子t1023.9)に対するCUO(分
子量79.5)の処置(重量%)と熱処理温度(°C)
とを種々変更したターゲットを用いて成膜した酸化物超
伝導体薄膜をX線回折により相同定して得た相平衡状態
を第1図に示す。同図中、O印はB i2s r2Ca
2Cu3010が主相である状態、Δ印はB i2s
r2Ca2Cu3010とBi25r2Calcu20
8とがほぼ半々の状態、X印はB 12Sr2Calc
u208が主相である状態を示している。
u3010(分子t1023.9)に対するCUO(分
子量79.5)の処置(重量%)と熱処理温度(°C)
とを種々変更したターゲットを用いて成膜した酸化物超
伝導体薄膜をX線回折により相同定して得た相平衡状態
を第1図に示す。同図中、O印はB i2s r2Ca
2Cu3010が主相である状態、Δ印はB i2s
r2Ca2Cu3010とBi25r2Calcu20
8とがほぼ半々の状態、X印はB 12Sr2Calc
u208が主相である状態を示している。
この相平衡状態図から明らかなように、CuOの添加量
に応じて、Bi、Sr、Ca、Cuの組成比が(2,2
,2,3)である超伝導体薄膜の存在する相が低温域へ
拡大することが確認された。
に応じて、Bi、Sr、Ca、Cuの組成比が(2,2
,2,3)である超伝導体薄膜の存在する相が低温域へ
拡大することが確認された。
第j」(虹伍
本実施例では、組成比(2,2,2,3)となるBi、
SrS Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超
伝導体の相平衡状態を低温域へ変更させる物質としてB
i O1,5を含ませ、当該物質を含んだ原料により
基板上に薄膜を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱処
理してB 12sb2Ca2Cu3010の酸化物超伝
導体薄膜を製造した。
SrS Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超
伝導体の相平衡状態を低温域へ変更させる物質としてB
i O1,5を含ませ、当該物質を含んだ原料により
基板上に薄膜を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱処
理してB 12sb2Ca2Cu3010の酸化物超伝
導体薄膜を製造した。
B101.5を含んだ原料により基板上に薄膜を形成す
る手段としては、B101.5を含んだ原料をり−ゲッ
トとしたスパッタリング法を用いた。尚、薄膜を形成す
る手段としては、B101.5を含んだ原料を蒸発源と
した蒸着法、あるいは、Bi、Sr、 Ca5Cuf
i:組成比(2,’2. 2. 3)となるよう各分圧
で制御しこれにB101.5を付加させるようにしたC
VD法を用いてもよい。
る手段としては、B101.5を含んだ原料をり−ゲッ
トとしたスパッタリング法を用いた。尚、薄膜を形成す
る手段としては、B101.5を含んだ原料を蒸発源と
した蒸着法、あるいは、Bi、Sr、 Ca5Cuf
i:組成比(2,’2. 2. 3)となるよう各分圧
で制御しこれにB101.5を付加させるようにしたC
VD法を用いてもよい。
そして、薄膜を大気中で100時間熱処理して酸化物超
伝導体薄膜を得た。
伝導体薄膜を得た。
金属組成比(2,2,2,3)のBi25r2Ca2C
u 3010に対する原料中のB101.5(分子量2
33)の性徴(重量%)と薄膜の熱処理温度(℃)とを
種々変更して得た酸化物超伝導体薄膜をX線回折により
相同定した相平衡状態を第2図に示す。同図中、○印は
B j2Sr2Ca2Cu3010が主相である状態、
Δ印はB i2S r2Ca2Cu3010とB 12
sr2Calcu208とがほぼ半々の状態、X印はB
i2s r2Calcu20Bが主相である状態を示
している。
u 3010に対する原料中のB101.5(分子量2
33)の性徴(重量%)と薄膜の熱処理温度(℃)とを
種々変更して得た酸化物超伝導体薄膜をX線回折により
相同定した相平衡状態を第2図に示す。同図中、○印は
B j2Sr2Ca2Cu3010が主相である状態、
Δ印はB i2S r2Ca2Cu3010とB 12
sr2Calcu208とがほぼ半々の状態、X印はB
i2s r2Calcu20Bが主相である状態を示
している。
この相平衡状態図から明らかなように、B101.5の
添加量に応じて、Bi、Sr、Ca、Cuの組成比が(
21252,3)である超伝導体薄膜の存在する相が低
温域へ拡大することが確認された。
添加量に応じて、Bi、Sr、Ca、Cuの組成比が(
21252,3)である超伝導体薄膜の存在する相が低
温域へ拡大することが確認された。
箋旦!丘ヨ
本実施例では、組成比(2,2,2,3)となるBi、
Sr、Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超伝
導体の相平衡状態を低温域へ変更させろ物質としてCu
0−BiOl、5を含ませ、当該物質を含んだ原料によ
り基板上に薄膜を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱
処理してBi25b2Ca2Cu3010の酸化物超伝
導体薄膜を製造した。
Sr、Ca、Cuを原料とし、これにBi系酸化物超伝
導体の相平衡状態を低温域へ変更させろ物質としてCu
0−BiOl、5を含ませ、当該物質を含んだ原料によ
り基板上に薄膜を形成し、この薄膜を酸素雰囲気中で熱
処理してBi25b2Ca2Cu3010の酸化物超伝
導体薄膜を製造した。
CuO・B i O1,5を含んだ原料により基板上に
薄膜を形成する手段としては、CuO・BiOl。
薄膜を形成する手段としては、CuO・BiOl。
5を含んだ原料をターゲットとしたスパッタリング法を
用いた。尚、薄膜を形成する手段としては、Cu0−B
iOl、5を含んだ原料を蒸発源とした蒸着法、あるい
は、Bi、Sr、Ca、Cuを組成比<2p 2+
21 a)となるよう各分圧で制御しこれにCu0
−BiOl、5を付加させるようにしたCVD法を用い
てもよい。
用いた。尚、薄膜を形成する手段としては、Cu0−B
iOl、5を含んだ原料を蒸発源とした蒸着法、あるい
は、Bi、Sr、Ca、Cuを組成比<2p 2+
21 a)となるよう各分圧で制御しこれにCu0
−BiOl、5を付加させるようにしたCVD法を用い
てもよい。
そして、薄膜を大気中で100時間熱処理して酸化物超
伝導体薄膜を得た。
伝導体薄膜を得た。
金属組成比(2,2,2,3)のBi2Cr2Ca2C
u 3010に対する。原料中のCuClB101゜5
(分子量312.5)の性徴(重量%)と薄膜の熱処理
温度(°C)とを種々変更して得た酸化物超伝導体薄膜
をX線回折により相同定した相平衡状態を第3図に示す
。同図中、O印はBi25r2Ca2cu3010が主
相である状態、Δ印はBi25r2Ca2Cu3010
とB i2S r2Calc u208とがほぼ半々の
状態、X印はB i2s r2calcu208が主相
である状態を示している。
u 3010に対する。原料中のCuClB101゜5
(分子量312.5)の性徴(重量%)と薄膜の熱処理
温度(°C)とを種々変更して得た酸化物超伝導体薄膜
をX線回折により相同定した相平衡状態を第3図に示す
。同図中、O印はBi25r2Ca2cu3010が主
相である状態、Δ印はBi25r2Ca2Cu3010
とB i2S r2Calc u208とがほぼ半々の
状態、X印はB i2s r2calcu208が主相
である状態を示している。
この相平衡状態図から明らかなように、CuO・B10
1.5の添加量に応じて、Bi、SrS Ca、Cuの
組成比が(2,2,2,3)である超伝導体薄膜の存在
する相が低温域へ拡大することが確認された。
1.5の添加量に応じて、Bi、SrS Ca、Cuの
組成比が(2,2,2,3)である超伝導体薄膜の存在
する相が低温域へ拡大することが確認された。
上記各実施例は代表的な熱処理条件の基で行ったもので
あり、酸化物超伝導体の熱処理集注として用いられてい
る他の条件の基でも本発明は同様な効果を奏する。また
、本発明は薄膜以外の酸化物超伝導体の製造にも勿論適
用することができる。
あり、酸化物超伝導体の熱処理集注として用いられてい
る他の条件の基でも本発明は同様な効果を奏する。また
、本発明は薄膜以外の酸化物超伝導体の製造にも勿論適
用することができる。
また、Bi系以外の酸化物超伝導体においても相平衡状
態を変更させる物質を添加することにより上記実施例と
同様な効果が得られる。
態を変更させる物質を添加することにより上記実施例と
同様な効果が得られる。
〈効果〉
本発明の酸化物超伝導体の製造方法によれば、酸化物超
伝導体の相平衡状態を変更させる物質を含ませて熱処理
するようにしたため、所望の組成比の酸化物超伝導体を
容易に得ることができる。
伝導体の相平衡状態を変更させる物質を含ませて熱処理
するようにしたため、所望の組成比の酸化物超伝導体を
容易に得ることができる。
従って、高温超伝導体として優れろBi25r2Ca2
cu30x等の酸化物超伝導体を比較的緩やかな温度条
件の基で製造することができ、製造効率、製造コスト等
の面で多大なる効果を′有する。
cu30x等の酸化物超伝導体を比較的緩やかな温度条
件の基で製造することができ、製造効率、製造コスト等
の面で多大なる効果を′有する。
第1図は本発明の第1実施例に係る相平衡状態図、第2
図は本発明の第2実施例に係る相平衡状態図、第3図は
本発明の第3実施例に係る相平衡状態図、第4図は温度
と組成比層との関係を示す図である。 特許出願人 三菱金属株式会社代理人 弁理士
桑 井 清 −(外1名)CaOの爵加量 (
!量2) 第1
図は本発明の第2実施例に係る相平衡状態図、第3図は
本発明の第3実施例に係る相平衡状態図、第4図は温度
と組成比層との関係を示す図である。 特許出願人 三菱金属株式会社代理人 弁理士
桑 井 清 −(外1名)CaOの爵加量 (
!量2) 第1
Claims (1)
- 酸化物超伝導体の組成比を有した原料に該酸化物超伝導
体の相平衡状態を変更させる物質を含ませ、当該物質を
含んだ原料を熱処理して酸化物超伝導体を製造すること
を特徴とする酸化物超伝導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63280066A JPH02129009A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 酸化物超伝導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63280066A JPH02129009A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 酸化物超伝導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02129009A true JPH02129009A (ja) | 1990-05-17 |
Family
ID=17619829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63280066A Pending JPH02129009A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 酸化物超伝導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02129009A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8539804B2 (en) | 2006-06-30 | 2013-09-24 | Abb Ab | Method and device for controlling a roll gap |
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---|---|---|---|---|
JPH01208328A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング用ターゲットおよび超電導薄膜の製造方法 |
JPH01246143A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング用ターゲットおよび超電導薄膜の製造方法 |
JPH01278449A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Toshiba Corp | 酸化物超電導体の製造方法 |
JPH02111877A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-04-24 | Hoechst Ag | ターゲットを使用した基質上の無機薄膜の形成方法 |
JPH02125862A (ja) * | 1988-11-01 | 1990-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | 酸化物超伝導膜の成膜法 |
JPH02199056A (ja) * | 1988-10-03 | 1990-08-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Bi―Sr―Ca―Cu系複合酸化物超電導体 |
-
1988
- 1988-11-04 JP JP63280066A patent/JPH02129009A/ja active Pending
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