JPH02124742A - カルコゲナイドガラス原料の精製法 - Google Patents
カルコゲナイドガラス原料の精製法Info
- Publication number
- JPH02124742A JPH02124742A JP63277330A JP27733088A JPH02124742A JP H02124742 A JPH02124742 A JP H02124742A JP 63277330 A JP63277330 A JP 63277330A JP 27733088 A JP27733088 A JP 27733088A JP H02124742 A JPH02124742 A JP H02124742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- raw material
- container
- chalcogenide glass
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000005387 chalcogenide glass Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000007858 starting material Substances 0.000 title abstract 5
- 238000007670 refining Methods 0.000 title 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 41
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002074 melt spinning Methods 0.000 claims 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 5
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 abstract 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- -1 S-H Chemical class 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/321—Chalcogenide glasses, e.g. containing S, Se, Te
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、赤外線透過率の高いカルコゲナイドガラス、
特に1−5μmの波長領域に於て、5l−1、S e
−H、O−H等による吸収が小さいカルコゲナイドガラ
スの精製法に関づる。
特に1−5μmの波長領域に於て、5l−1、S e
−H、O−H等による吸収が小さいカルコゲナイドガラ
スの精製法に関づる。
[従来の技術]
カルコゲナイドガラスは赤外線の透過性に浸れた光学材
料であり、特に赤外線透過ファイバー用の材料として注
目されている。カルコゲナイドガラスの赤外線透過率を
向上させるためには、ガラス原料の選択及び該ガラスの
十分な精製を行う必要があり、従来から種々の方法が研
究されている。
料であり、特に赤外線透過ファイバー用の材料として注
目されている。カルコゲナイドガラスの赤外線透過率を
向上させるためには、ガラス原料の選択及び該ガラスの
十分な精製を行う必要があり、従来から種々の方法が研
究されている。
中でもイオウ(S)、セレン(Se)、及びこれらのカ
ルコゲン元素を含有するガラスの精製には蒸留法が有効
である。該原料または該ガラス中に含まれる不純物の内
、鉄、ニッケル、コバルト等の金属不純物や酸素不純物
は、該原料または該ガラスを真空下、または不活性雰囲
気下で蒸留することによって比較的容易に除去できるが
、S −HlS e −H等の水素化物及び水分(0−
H)は、たとえ蒸留を複数回繰り返しても十分に除去す
ることはできない。
ルコゲン元素を含有するガラスの精製には蒸留法が有効
である。該原料または該ガラス中に含まれる不純物の内
、鉄、ニッケル、コバルト等の金属不純物や酸素不純物
は、該原料または該ガラスを真空下、または不活性雰囲
気下で蒸留することによって比較的容易に除去できるが
、S −HlS e −H等の水素化物及び水分(0−
H)は、たとえ蒸留を複数回繰り返しても十分に除去す
ることはできない。
S−H,5e−H等の水素化物及び水分(Oト1)を効
率よく除去する手段として、52CN2または5e2C
fJ2等の塩素化合物のガス′〃囲気下でのSまたはS
eの蒸留が知られている(特開昭58−120538
)。これは、室温で液体状態のS2Cρ2または5ez
Cρ2中にアルゴン等の不活性ガスを導入することによ
って発生するS2Cρ2または5e2C112ガスの雰
囲気下でSまたはSeを蒸留するという方法であった。
率よく除去する手段として、52CN2または5e2C
fJ2等の塩素化合物のガス′〃囲気下でのSまたはS
eの蒸留が知られている(特開昭58−120538
)。これは、室温で液体状態のS2Cρ2または5ez
Cρ2中にアルゴン等の不活性ガスを導入することによ
って発生するS2Cρ2または5e2C112ガスの雰
囲気下でSまたはSeを蒸留するという方法であった。
[発明が解決しようとづる課題]
しかし、上記のような蒸留精製法に用いられる液体状態
の82Cρ2または502cρ2は極めて不女定な物質
であり、またステンレス等の金属を激しく腐食し、さら
に有毒で刺激臭を早するため、使用し得る蒸留装首の材
質が限られるばかりか、蒸留操作が極めて困難であった
。また−F配積製法で得られるSまたはSeには微Mの
ハロゲン元素が残存するため、それらを原料に用いてカ
ル」ゲナイドガラスを作製すると、ガラスの耐候性、刷
械的強度が低下するという欠点があった。
の82Cρ2または502cρ2は極めて不女定な物質
であり、またステンレス等の金属を激しく腐食し、さら
に有毒で刺激臭を早するため、使用し得る蒸留装首の材
質が限られるばかりか、蒸留操作が極めて困難であった
。また−F配積製法で得られるSまたはSeには微Mの
ハロゲン元素が残存するため、それらを原料に用いてカ
ル」ゲナイドガラスを作製すると、ガラスの耐候性、刷
械的強度が低下するという欠点があった。
本発明の[1的は、蒸留操作が容易で、ハロゲン元本を
残存さけることのないカルコゲナイドガラス原料の精製
法を提供することにある。また、別の目的は、赤外線透
過率の高いカルコゲナイド・ガラス、特に1〜5μmの
波長領域に於て強い吸収を示すS−H,5e−H,O−
H等の不純物温度が低く、かつ耐候性及び機械的強度に
優れたカルコゲナイドガラスの新しい製造方法を提供す
ることにある。
残存さけることのないカルコゲナイドガラス原料の精製
法を提供することにある。また、別の目的は、赤外線透
過率の高いカルコゲナイド・ガラス、特に1〜5μmの
波長領域に於て強い吸収を示すS−H,5e−H,O−
H等の不純物温度が低く、かつ耐候性及び機械的強度に
優れたカルコゲナイドガラスの新しい製造方法を提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段]
上記目釣を達成するため、本発明はカルコゲナイドガラ
ス原料であるイオウまたはピレンをガラス容器中に収納
し、該容器内部を不活性ガスとハロゲンガスとの混合ガ
スで置換した後に、該混合ガスの該容器内への流入を止
め、該原料を融点以上に加熱しながら該容器内を真空脱
気することを特徴とするものである。
ス原料であるイオウまたはピレンをガラス容器中に収納
し、該容器内部を不活性ガスとハロゲンガスとの混合ガ
スで置換した後に、該混合ガスの該容器内への流入を止
め、該原料を融点以上に加熱しながら該容器内を真空脱
気することを特徴とするものである。
すなわち、カルコゲナイドガラス原Itであるイオウま
たはセレン中に存在づるS−H,Sel〜)、0−H等
の水素原子が関係する不純物とハロゲンガス(ここでは
Xで示す)とを該原料の融点以−Fで反応させることに
よって、HXを生成せしめ、その後に溶融状態で真空に
保持することによりト(×を原料中から取り除くもので
ある。
たはセレン中に存在づるS−H,Sel〜)、0−H等
の水素原子が関係する不純物とハロゲンガス(ここでは
Xで示す)とを該原料の融点以−Fで反応させることに
よって、HXを生成せしめ、その後に溶融状態で真空に
保持することによりト(×を原料中から取り除くもので
ある。
本発明で使用するハロゲンガスとしては1!l素ガスが
好ましいが、塩素ガスとイオウまたはセレンとを直接接
触Vしめると両者が短時間の内に激しく反応し、過剰の
82 C4+2.5e2C,02等が生成ザるため、そ
の後、真空下で蒸留を行ってもそれらの塩素化合物を十
分に除去出来ない場合がある。従って、通常は不活性ガ
スで希釈され!ζハロゲンガスを用いた方が好ましい。
好ましいが、塩素ガスとイオウまたはセレンとを直接接
触Vしめると両者が短時間の内に激しく反応し、過剰の
82 C4+2.5e2C,02等が生成ザるため、そ
の後、真空下で蒸留を行ってもそれらの塩素化合物を十
分に除去出来ない場合がある。従って、通常は不活性ガ
スで希釈され!ζハロゲンガスを用いた方が好ましい。
本発明で用いる不活性ガスとしては窒素ガスまたはアル
ゴンガスが好ましく、該不活性ガスに対するハロゲンガ
スの体積比率は精製前のカルコゲナイドガラス原料の純
度に依存するが、原料が99.999%以上の純度であ
る場合、体積比率は10ppm以上かつ1100000
pp以下、好ましくは1100pp以上かツ5000p
pm以下の範囲であることが好ましい。体積比率が上記
限定範囲下限よりも低い場合、精製後のカルコゲナイド
ガラス原料中のS−H,5e−HlO−H等の水素原子
が関係する不純物が十分除去できない場合がある。また
体積比率が上記限定範囲F限よりも高い場合、精製後の
カルコゲナイドガラス原料中に82 C,l+2.5e
2C12等のハロゲン化物が残存し、原料を用いてカル
コゲナイドガラスを作製すると、ガラスの耐候性、機械
的強度が低下する場合がある。
ゴンガスが好ましく、該不活性ガスに対するハロゲンガ
スの体積比率は精製前のカルコゲナイドガラス原料の純
度に依存するが、原料が99.999%以上の純度であ
る場合、体積比率は10ppm以上かつ1100000
pp以下、好ましくは1100pp以上かツ5000p
pm以下の範囲であることが好ましい。体積比率が上記
限定範囲下限よりも低い場合、精製後のカルコゲナイド
ガラス原料中のS−H,5e−HlO−H等の水素原子
が関係する不純物が十分除去できない場合がある。また
体積比率が上記限定範囲F限よりも高い場合、精製後の
カルコゲナイドガラス原料中に82 C,l+2.5e
2C12等のハロゲン化物が残存し、原料を用いてカル
コゲナイドガラスを作製すると、ガラスの耐候性、機械
的強度が低下する場合がある。
本発明で使用するガラス容器は石英ガラスが好ましく、
特に無水石英ガラスが望ましい。これは、通常の石英ガ
ラスの場合、ガラス中に存在する水分が該カルコゲナイ
ドガラス原料中に拡散して原料を汚染する場合があるか
らである。更に石英ガラス容器を予め反応室とトラップ
室とに分けておき、該容器内部を不活性ガスとハロゲン
ガスとの混合ガスで置換した後に混合ガスの該容器内へ
の流入を止め、原料を融点以上に加熱しながら容器内を
真空脱気する際に、カルコゲナイドガラス原料を反応室
からトラップ室へと蒸留すれば、カルコゲナイドガラス
原材料中に残存するS2 CfJ 2 。
特に無水石英ガラスが望ましい。これは、通常の石英ガ
ラスの場合、ガラス中に存在する水分が該カルコゲナイ
ドガラス原料中に拡散して原料を汚染する場合があるか
らである。更に石英ガラス容器を予め反応室とトラップ
室とに分けておき、該容器内部を不活性ガスとハロゲン
ガスとの混合ガスで置換した後に混合ガスの該容器内へ
の流入を止め、原料を融点以上に加熱しながら容器内を
真空脱気する際に、カルコゲナイドガラス原料を反応室
からトラップ室へと蒸留すれば、カルコゲナイドガラス
原材料中に残存するS2 CfJ 2 。
5e2CN2等のハロゲン化物をより効率よく取り除く
ことができる。
ことができる。
また本発明に於いて、石英容器内で加熱、熔融されたイ
オウまたはセレンを真空下で蒸留づる際の容お内の圧力
は106torr以下であることが好ましい。容器内の
圧力が1o−6torrよりも高い場合、該カルコゲナ
イドガラス原料を蒸留する際の蒸留温度を高くする必要
があり、82Cρz、SO2(l12等のハロゲン化物
の除去効率が低下づる場合がある。
オウまたはセレンを真空下で蒸留づる際の容お内の圧力
は106torr以下であることが好ましい。容器内の
圧力が1o−6torrよりも高い場合、該カルコゲナ
イドガラス原料を蒸留する際の蒸留温度を高くする必要
があり、82Cρz、SO2(l12等のハロゲン化物
の除去効率が低下づる場合がある。
更に本発明によって精製されたイオウまたはセレンとG
e、As、Te、Sb、TJおよびハロゲンから選ばれ
た1種または2種以上の原料を混合熔融してロンド状と
し、これを紡糸してカルコゲナイドガラスファイバーを
作ることができる。
e、As、Te、Sb、TJおよびハロゲンから選ばれ
た1種または2種以上の原料を混合熔融してロンド状と
し、これを紡糸してカルコゲナイドガラスファイバーを
作ることができる。
[実 施 例]
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
第1図はこの実施例で用いた精製のための無水石英ガラ
ス容器の断面図である。ここで1は蒸留精製されたカル
コゲナイドガラス原料が1〜ラツプされるトラップ室、
2はカルコゲナイドガラス原料とハロゲンガスとを反応
せしめる反応室である。
ス容器の断面図である。ここで1は蒸留精製されたカル
コゲナイドガラス原料が1〜ラツプされるトラップ室、
2はカルコゲナイドガラス原料とハロゲンガスとを反応
せしめる反応室である。
まず反応室2ヘカルコグナイドガラス粗原料3である市
販品の99.999%の粒状セレンを入れ、石英ガラス
容器内にガス導入口4よりアルゴンガスを導入し、石英
ガラス容器内を十分にアルゴンガスに置換した。その後
、同じくガス導入口4より、純度99.99999%の
塩素ガスを100p100pp l含有するアルゴンガ
スを50cc/m i nの流量で石英ガラス容器内へ
導入した。数分後に粒状セレンの極表面が5e20ρ2
の液体になったことが肉眼で確認されたので、バルブ5
を閉じて、トラップ室1を400℃に、反応室2を30
0℃に加熱した。2時間の加熱の後に、その後も加熱を
継続しながら、真空脱気口6より石英ガラス容器内全体
を5 x +o−7[0「rに脱気した。約1時間軽過
したところで、トラップ室1の温度を200℃に下げ、
反応室2の温度を350℃に上げた。反応室2のセレン
の全体積の約95%がトラップ室1へ移動したところで
、トラップ室1および反応室2の温度を室温まで下げた
。
販品の99.999%の粒状セレンを入れ、石英ガラス
容器内にガス導入口4よりアルゴンガスを導入し、石英
ガラス容器内を十分にアルゴンガスに置換した。その後
、同じくガス導入口4より、純度99.99999%の
塩素ガスを100p100pp l含有するアルゴンガ
スを50cc/m i nの流量で石英ガラス容器内へ
導入した。数分後に粒状セレンの極表面が5e20ρ2
の液体になったことが肉眼で確認されたので、バルブ5
を閉じて、トラップ室1を400℃に、反応室2を30
0℃に加熱した。2時間の加熱の後に、その後も加熱を
継続しながら、真空脱気口6より石英ガラス容器内全体
を5 x +o−7[0「rに脱気した。約1時間軽過
したところで、トラップ室1の温度を200℃に下げ、
反応室2の温度を350℃に上げた。反応室2のセレン
の全体積の約95%がトラップ室1へ移動したところで
、トラップ室1および反応室2の温度を室温まで下げた
。
この様にしてトラップ室1に集められたセレンを用いて
外径400μmのG e 2θ5e8oガラスフアイバ
ーを作製し、その透過損失を測定したところ、第2図に
示すように4.5μ7n付近の38−1−1に起因する
ピークは1dB/m以下であった。さらに、このファイ
バーは半径10M以下に曲げても折れなかった。なお、
第1図中7は精製後のカルコゲナイドガラス原料、8は
トラップ室加熱ヒータ9は反応室加熱ヒーターである。
外径400μmのG e 2θ5e8oガラスフアイバ
ーを作製し、その透過損失を測定したところ、第2図に
示すように4.5μ7n付近の38−1−1に起因する
ピークは1dB/m以下であった。さらに、このファイ
バーは半径10M以下に曲げても折れなかった。なお、
第1図中7は精製後のカルコゲナイドガラス原料、8は
トラップ室加熱ヒータ9は反応室加熱ヒーターである。
実施例2
実施例1と同じ形の石英ガラス容置を用いて、市販の純
度99.9999%の塊状イオウを実施例1と同じ手順
で精製した。ただし塊状イオウの極表面が82Cρ2の
液体になったことが肉眼で確認され、バルブ5を閉じた
後、トラップ室1は400℃に、反応室2は200℃に
加熱した。また真空脱気口6より石英ガラス容器内全体
を5 X 10 ’torrに脱気し、約1時間経過し
たところで、トラップ室1の温度は120℃に下げ、反
応室2の温度は220℃に上げた。
度99.9999%の塊状イオウを実施例1と同じ手順
で精製した。ただし塊状イオウの極表面が82Cρ2の
液体になったことが肉眼で確認され、バルブ5を閉じた
後、トラップ室1は400℃に、反応室2は200℃に
加熱した。また真空脱気口6より石英ガラス容器内全体
を5 X 10 ’torrに脱気し、約1時間経過し
たところで、トラップ室1の温度は120℃に下げ、反
応室2の温度は220℃に上げた。
この様にしてトラップ室1に集められたイオウを用いて
外径400μmのG e 20 S 8oのガラスファ
イバーを作製し、その透過損失を測定したところ、第3
図に示すように4t1m付近のS −Hに起因するピー
クは1dB/m以下であった。さらに、このファイバー
は半径1ONn以下に曲げても折れなかった。
外径400μmのG e 20 S 8oのガラスファ
イバーを作製し、その透過損失を測定したところ、第3
図に示すように4t1m付近のS −Hに起因するピー
クは1dB/m以下であった。さらに、このファイバー
は半径1ONn以下に曲げても折れなかった。
比較例1
市販の114度99.999%のセレンをそのまま用い
てG e 20 S e Fy3ガラスファイバーを作
製し、その透過損失を測定したところ、第4図に示すよ
うに45μm付近のS e −1−1に起因するピーク
は20dB/mであった。また、このファバーの最小曲
げ半径は100 try以上であった。
てG e 20 S e Fy3ガラスファイバーを作
製し、その透過損失を測定したところ、第4図に示すよ
うに45μm付近のS e −1−1に起因するピーク
は20dB/mであった。また、このファバーの最小曲
げ半径は100 try以上であった。
比較例2
市販の純度99.9999%のイオウをそのまま用いて
G e 20 S 8oガラスフアイバーを作製し、(
の透過損失を測定したところ、第5図に示づように4μ
m付近のS−Hに起因するピークの頂点は高すぎて測定
不能であった。またこのファイバーの最小曲げ半径は7
0#以上であった。
G e 20 S 8oガラスフアイバーを作製し、(
の透過損失を測定したところ、第5図に示づように4μ
m付近のS−Hに起因するピークの頂点は高すぎて測定
不能であった。またこのファイバーの最小曲げ半径は7
0#以上であった。
[発明の効果]
本発明の方法によれば、毒性及び強い腐食性を示ずS2
Cρ2または5e2CN2を用いることなく、赤外線透
過率の高いカルコゲナイドガラス、特に、1−5μmの
波長領域に於て強い吸収を示すS−H,5e−H,O−
H等の不純物濃度が低く、かつ耐候性及び機械的強度に
優れたカルコゲナイドガラスを容易に製造することがで
きる。
Cρ2または5e2CN2を用いることなく、赤外線透
過率の高いカルコゲナイドガラス、特に、1−5μmの
波長領域に於て強い吸収を示すS−H,5e−H,O−
H等の不純物濃度が低く、かつ耐候性及び機械的強度に
優れたカルコゲナイドガラスを容易に製造することがで
きる。
第1図は本発明で使用した無水石英ガラス性の精製容器
の断面図、第2図ないし第5図は透過損失1.′i性曲
線を示す図である。 1・・・トラップ室、 2・・・反応室、3・・・精製
前カルコゲナイドガラス原料、4・・・アルゴンガス及
びハロゲンガス導入口、5・・・バルブ、 6・・・真
空脱気口、7・・・精製後カルコゲナイドガラス原料、
8・・・1へラップ室加熱ヒーター 9・・・反応室加熱ヒーター 第 図 波長 CLLm) 損失(dB/m) 損失(dB/m)
の断面図、第2図ないし第5図は透過損失1.′i性曲
線を示す図である。 1・・・トラップ室、 2・・・反応室、3・・・精製
前カルコゲナイドガラス原料、4・・・アルゴンガス及
びハロゲンガス導入口、5・・・バルブ、 6・・・真
空脱気口、7・・・精製後カルコゲナイドガラス原料、
8・・・1へラップ室加熱ヒーター 9・・・反応室加熱ヒーター 第 図 波長 CLLm) 損失(dB/m) 損失(dB/m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 カルコゲナイドガラス原料であるイオウまたはセレ
ンをガラス容器の中に収納し、該容器内部を不活性ガス
とハロゲンガスとの混合ガスで置換し、一定時間、流入
を継続した後に、該混合ガスの該ガラス容器中への流入
を止め、該原料を融点以上に加熱し、その後も加熱を継
続しながらガラス容器内を真空脱気することを特徴とす
るカルコゲナイドガラス原料の精製法。 2 ハロゲンガスが塩素ガスであり、不活性ガスが窒素
ガスまたはアルゴンガスであることを特徴とする請求項
1記載のカルコゲナイドガラス原料の精製法。 3 不活性ガスに対するハロゲンガスの体積比率が10
ppm以上かつ100000ppm以下であることを特
徴とする請求項1または2記載のカルコゲナイドガラス
原料の精製法。 4 ガラス容器が無水石英ガラスであり、かつ、該ガラ
ス容器が予め反応室とトラップ室に分けられており、加
熱を継続しながら石英ガラス容器内を真空脱気する際に
カルコゲナイドガラス原料を反応室からトラップ室へと
連続的に蒸留することを特徴とする請求項1記載のカル
コゲナイドガラス原料の精製法。 5 容器内で加熱、溶融されたイオウまたはセレンを真
空下で蒸留する際の該容器内の圧力が10^−^6to
rr以下であることを特徴とする請求項1記載のカルコ
ゲナイドガラス原料の精製法。 6 カルコゲナイドガラス原料であるイオウまたはセレ
ンをガラス容器の中に収納し、該容器内部を不活性ガス
とハロゲンガスとの混合ガスで置換し一定時間流入を継
続した後に、前記混合ガスのガラス容器中への流入を止
めて原料を融点以上に加熱し、その後も加熱を継続しな
がらガラス容器内を真空脱気してイオウまたはセレンを
精製し、該精製イオウまたはセレンと他のカルコゲナイ
ドガラス原料とを混合し熔融紡糸することを特徴とする
カルコゲナイドガラスファイバーの製造方法。 7 他のカルコゲナイドガラス原料がGe、As、Te
、Sb、Tlおよびハロゲンから選ばれた1種または2
種以上である請求項6記載のカルコゲナイドガラスファ
イバーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63277330A JPH0699164B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | カルコゲナイドガラス原料の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63277330A JPH0699164B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | カルコゲナイドガラス原料の精製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02124742A true JPH02124742A (ja) | 1990-05-14 |
JPH0699164B2 JPH0699164B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=17582025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63277330A Expired - Lifetime JPH0699164B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | カルコゲナイドガラス原料の精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0699164B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020189420A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Agc株式会社 | カルコゲナイドガラスの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5742551A (en) * | 1980-08-26 | 1982-03-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of chalcogenide glass for optical fiber |
JPS58120538A (ja) * | 1982-01-09 | 1983-07-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | カルコゲナイドガラスの製法 |
JPS61127639A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-14 | Hitachi Ltd | 赤外光フアイバ用材料 |
-
1988
- 1988-11-04 JP JP63277330A patent/JPH0699164B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5742551A (en) * | 1980-08-26 | 1982-03-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of chalcogenide glass for optical fiber |
JPS58120538A (ja) * | 1982-01-09 | 1983-07-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | カルコゲナイドガラスの製法 |
JPS61127639A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-14 | Hitachi Ltd | 赤外光フアイバ用材料 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020189420A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Agc株式会社 | カルコゲナイドガラスの製造方法 |
CN113646272A (zh) * | 2019-03-20 | 2021-11-12 | Agc株式会社 | 硫属化物玻璃的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0699164B2 (ja) | 1994-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106927673B (zh) | 一种光纤用高纯硫系玻璃的制备方法 | |
JP4109105B2 (ja) | カルコゲナイドガラスの製造方法 | |
US4076574A (en) | Reactive atmosphere crystal growth method | |
US6669778B2 (en) | Preparation of crystals | |
EP1497233B1 (en) | Method and apparatus for synthesis of germanium selenide glasses | |
JPH02124742A (ja) | カルコゲナイドガラス原料の精製法 | |
JPS616144A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の焼結方法 | |
JP2001240497A (ja) | フッ化物単結晶製造方法及び製造装置 | |
US4801442A (en) | Method for purifying starting materials for fabricating chalchogenide glass | |
JPS6021822A (ja) | 赤外における光学的透明性を有する材料の製造方法 | |
JPH0214284B2 (ja) | ||
US3933990A (en) | Synthesization method of ternary chalcogenides | |
JP2006347834A (ja) | フッ化金属単結晶の製造方法 | |
JPH0444618B2 (ja) | ||
JPS58120538A (ja) | カルコゲナイドガラスの製法 | |
JPH0446033A (ja) | カルコゲナイドガラスの製造方法 | |
JPH02275730A (ja) | カルコゲナイドガラス原料の精製方法 | |
JP5191153B2 (ja) | フッ化金属用加熱溶融炉に用いる断熱材の再生方法 | |
US3932597A (en) | Purification of alkali metal halides | |
Lezal et al. | Chalcogenide-Halide Glasses For Optical Waveguides | |
JPS60239339A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
RU2152364C1 (ru) | Способ получения стекол asxs1-x(x=0,10-0,45), asxse1-x(x=0-0,60) | |
RU2031983C1 (ru) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КРИСТАЛЛОВ ХАЛЬКОГЕНИДОВ ТИПА AIIBVI Использование: в приборостроении, квантовой электронике, лазерной спектроскопии и т | |
Greenwald et al. | Vibrational studies of metal cation reduction at oxide glass surfaces | |
Pastor et al. | Mat. Res. Bull. Vol. 10, pp. 251-256, 1975. in the United States. |