JPH02121988A

JPH02121988A - テトラヒドロ‐７‐オキソ‐８‐インドリジンカルボン酸誘導体及びその製造法

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Publication number: JPH02121988A
Application number: JP63275186A
Authority: JP
Inventors: Yukihisa Goto; 幸久後藤; Kazuhisa Masamoto; 正本　和久
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1988-10-31
Filing date: 1988-10-31
Publication date: 1990-05-09
Anticipated expiration: 2010-02-08
Also published as: JPH0710864B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、医薬、農薬等の製造中間体として有用な新規
なテトラヒドロ−７−オキソ、８−インドリジンカルボ
ン酸誘導体及びその製造法に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）従来、
テトラヒドロ−７−オキソ−８−インドリジンカルボン
酸誘導体としては、１，２，３．７−チトラヒドロー７
−オキソー８−インドリジンカルボン酸（Ｊ。

Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ、　Ｃｈｅｍ、、１６．９５３　
（Ｉ９７９））及び１，２，３，７−テトラヒドロ−５
−メチル−７、オキソ−８−インドリジンカルボン酸エ
チル（薬学雑誌、９３．１０８４（Ｉ９７３））が知ら
れている。しかしながらこの発明の化合物（Ｉ）のよう
な、１位、２位、３位の少なくとも１箇所に低級アルキ
ル基を有するようなテトラヒドロ−７−オキソ−８−イ
ンドリジンカルボン酸誘導体は報告されていない。

本発明者らは、除草活性を有する縮合複素環化合物の製
法について検討した結果、本発明化合物が、その製造中
間体として重要であること及びこの化合物の有利な製造
法を見い出し本発明に至った。

（課題を解決するための手段）本発明は、一般式（Ｉ）；［式中、Ｒ１は、カルボキシ基若しくはその塩、低級ア
ルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；Ｒ
２，Ｒ３は同−若しくは異なって、水素原子又は低級ア
ルキル基；Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は同−若しくは異なって水
素原子又は低級アルキル基であってかつＲ４，Ｒ５，Ｒ
６のうち少なくとも１つは低級アルキル基を意味する。

１で表されるテトラヒドロ−７−オキソ−８−インドリジ
ンカルボン酸誘導体及びその製造法に関する。

Ｒ１が、カルボキシ基の塩であるときは、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、遷移金属またはアンモニウムをカ
チオンとして有することができる。

代表的な金属カチオンとしては、ナトリウム、カリウム
、リチウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜
鉛、マンガン、第一銅、第二銅、第一鉄、第二鉄、チタ
ン、アルミニウム、などが、又、代表的アンモニウムカ
チオンとしては、アンモニウム、トリブチルアンモニウ
ム、ピペリジニウム、ピリジニウムなどが挙げられる。

この発明において、低級アルコキシカルボニル基には、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル又は第三ブチルオキシ
カルボニルなどが含まれる。

低級アルキル基には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、イソペンチルなどが含
まれる。

本発明における一般式（Ｉ）の化合物のうち、Ｒ１が低
級アルコキシカルボ二基又はフェノキシカルボニル基で
ある化合物、すなわち一般式（Ｉ゛）［式中、Ｒ１’は、低級アルコキシカルボニル基又はフ
ェノキシカルボニル基；Ｒ２，Ｒ３は同−若しくは異な
って、水素原子又は低級アルキル基；Ｒ４，Ｒ５゜Ｒ６
は同−若しくは異なって水素原子又は低級アルキル基で
あってかつＲ４，Ｒ５，Ｒ６のうち少なくとも１つは低
級アルキル基を意味する。］で表される化合物は一般式（ＩＩ　）又は（ＩＩ’）：［式（ＩＩ　）又は（ＩＩ　’　）中、Ｒ１’は、低級
アルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；
Ｒ４，Ｒ５゜Ｒ６は同−若しくは異なって水素原子又は
低級アルキル基であってかつＲ４，Ｒ５，Ｒ６のうち少
なくとも１つは低級アルキル基を意味する。］で表される化合物と一般式（ＩＩＩ）： ○ Ｏ［式中、Ｒ２，Ｒ３は同−若しくは異なって、水素原子
又は低級アルキル基；Ｒ７，Ｒ８は水素原子又は、アル
キル基、フェニル基又はＲ７およびＲ８がＲ７とＲ８の
結合する炭素原子と共にシクロアルキル基を形成しても
よい。］で表される化合物とを反応させることによって
製造することができる。

原料として用いる式（ＩＩ）又は（ＩＩ’）の化合物及
び式（ＩＩＩ　）の化合物は、従来既知の方法に基づい
て、製造することができる。式（ＩＩＩ）におけるＲ４
とＲ５は、目的物に導入されない基であり、入手容易で
安価なものを選択利用するのが望ましい。Ｒ４゜Ｒ５と
して、メチル基又はエチル基が好ましい。式（ＩＩ　）
と式（ＩＩ’）は互変異性体である。

一般式（ＩＩ　）又は（ＩＩ’）の化合物と一般式（Ｉ
ＩＩ　）の化合物との反応は無溶媒下または不活性溶媒
中で行うことができる。好ましい溶媒の例として、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、テトラリン、デカリン、ジ
フェニルエーテルなどが挙げられる。反応温度としては
、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の熱分解温度を目
安として、約１００°Ｃから２００°Ｃ程度の温度が用
いられる。

また一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の使用量は、一
般式（ＩＩ）又は（ＩＩ’）で表される化合物に対して
１当量以上、好ましくは１．２〜３．０当量の範囲であ
る。

本発明における一般式（Ｉ）の化合物のうちＲ１がカル
ボキシ基又はその塩である化合物すなわち一般式（ＩＩ
　”）　： ○ ［式中、Ｒ１”は、カルボキシ基若しくはその塩、Ｒ２
゜Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は上記と同じＪで表される化
合物は前記の一般式（Ｉ′）の化合物を加水分解するこ
とによって製造することができる。

加水分解は酸、アリカリまたはその他の方法が用いられ
る。酸による加水分解は、塩酸、硫酸または臭化水素酸
などによって行うことができる。通常室温から１５０°
Ｃの範囲の温度で実施される。アルカリによる加水分解
では、アルカリとして、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが、−収約に使われ、水溶液、メタノール溶液、エ
タノール溶液中で、室温もしくは、加熱して反応させる
。この場合には、Ｒ１”がカルボキシ基の塩であるもの
が得られるが、これを鉱酸によって、遊離カルボン酸に
することができる。その他の加水分解としては、ルチジ
ン、コリジン、ジメチルホルムアミドなどを溶媒として
、ヨウ化リチウム、臭化リチウム、シアン化ナトリウム
又は酢酸ナトリウムを加熱下に作用させ、しかるのちに
酸で処理する方法を挙げることができる。

式（Ｉ”）において、Ｒ１”がカルボキシ基の塩である
化合物は、Ｒ１”がカルボキシ基である化合物と、対応
する塩基との反応によって得ることができる。

なお、本発明の製造法によって得られる本発明の化合物
（Ｉ）から、例えば、下記ルートによって、一般式（■
）で示される除草活性を有する化合物が得られる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。

（実施例）実施例１メチル１．２．３．７−チトラヒド０．３，５−ジメチ
ル−７、オキソ−８−インドリジンカルボキシレートメ
チルα−（テトラヒドロ−５−メチル−２−ピロリジニ
リデン）アセテ−）　３．１０ｇ及びキシレン１０ｍ１
の混合物を穏やかに加熱還流させながら、２−エチル−
２，６−シメチルー４Ｈ−１，３−ジオキシン、４．オ
ン７．８１ｇのキシレン（Ｉ０ｍｌ）溶液を１５分間で
滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。その間に副生
ずるメチルエチルケトンは、ディーンスターク装置によ
り糸外に除去した。反応混合物を室温まで放冷し、生じ
た結晶をｐ別洗浄し減圧下で乾燥すると題記化合物が３
．６７　ｇ（収率８３％）得られた。

ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤ０１３）δ；　１．３６（ｄ、３Ｈ
）、　１．６０−２．７０（ｍ、２Ｈ）。

２．３０（ｓ、３Ｈ）、　３．１５−３．５０（ｍ、２
Ｈ）、　３．８２（ｓ、３Ｈ）、　３．２０−３．８３
（ｍ、ＩＨ）、　６．１８（ｓ、ＩＨ）。

ＩＲ（Ｋｂｒ）ａｍ”　；　１６３５．１６９８　。

融点；１０５〜１１０°Ｃ実施例２１、２．３．７−テトラヒドロ−３，５−ジメチル−７
−オキソ−８−インドリジンカルボン酸実施例１で得られたメチル１，２，３．７−チトラヒド
０．３，５−ジメチル、７−オキソ−８−インドリジン
力ルボキシレート２．２１　ｇ及び５％水酸化ナトリウ
ム水溶液８０ｇの混合物を７０’Ｃで２時間加熱撹はん
した。

反応混合物を室温まで放冷後、氷水で冷却しながら濃塩
酸８．７９　ｍｌ加えた。クロロホルムで抽出後節和食
塩水で洗浄、乾燥、濃縮した結晶性残さをトルエンとク
ロロホルムの混合液から再結晶して既記化合物１．１１
ｇ（収率５４％）を得た。

ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤ０１３）δ；　１．４０（ｄ、２Ｈ
）、　１．６０−２．９０（ｍ、２Ｉ（）。

２．４５（ｓ、３Ｈ）、　３．００−４．３０（ｍ、２
Ｈ）、　４．３０−５．００（ｍ、ＩＨ）。

６．４２（ｓ、ＩＨ）、　１６．８２（ｂｒ、ＩＨ）　
。

実施例３メチル１．２．３．７−テトラヒドロ−１，５−ジメチ
ル−７−オキソ−８−インドリジンカルボキシレートメ
チルα−（テトラヒドロ−３−メチル−２−ビロリジニ
リデン）アセテート４．ＯＯｇ及びキシレン１２ｍ１の
混合物を穏やかに加熱還流させながら、２．エチル−２
，６−シメチルー４Ｈ−１，３−ジオキシン、４−オン
１０．０６　ｇのキシレン（Ｉ２ｍｌ）溶液を１５分間
で滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。その間に副
生ずるメチルエチルケトンは、ディーンスターク装置に
より糸外に除去した。反応混合物を室温まで放冷し、生
じた結晶をＰ別、洗浄し減圧下で乾燥すると既記化合物
が４．７６　ｇ（収率８３％）得られた。

ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１ａ）δ；　１．２３（ｄ、３Ｈ
）、　１．６０−２．８０（ｍ、２Ｈ）。

２．２４（ｓ、３Ｈ）、　３．４５−４．２５（ｍ、３
Ｈ）、　３．８３（ｓ、３Ｈ）、　６．１４（ｓ、ＩＨ
）。

ＩＲ（Ｋｂｒ）ｃｍ−”　；　１６３２．１７１２　。

融点；１０８〜１１０°Ｃ実施例４１、２．３．７−テトラヒドロ−１，５−ジメチル、７
．オキソ−８−インドリジンカルボン酸実施例３で得られたメチル１，２，３．７−テトラヒド
ロ−１，５−ジメチル−７−オキソ−８−インドリジン
カルホキシレー）　４．００ｇ及び５％水酸化ナトリウ
ム水溶液１４５ｇの混合物を７０°Ｃで２時間加熱撹は
んした。反応混合物を室温まで放冷後、氷水で冷却しな
がら、濃塩酸１５．９１ｍ１加えた。析出した結晶をｐ
別、洗浄し減圧下で乾燥すると既記化合物２．１６ｇ（
収率５８％）を得られた。

ＬＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ；　１．３１（ｄ、３Ｈ
）、　１．６０−２．９０（ｍ、２Ｈ）。

２．４０（ｓ、３Ｈ）、　４．００−４．７０（ｍ、３
Ｈ）、　６．４１（ｓ、ＬＨ）、　１７．０３（ｂｒ。

ＩＨ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ−’　；　１６３５．１６９８゜融
点；１８３〜１８４°Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）［式中、Ｒ＾１は、カルボキシ基若しくはその塩、低級
アルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；
Ｒ＾２、Ｒ＾３は同一若しくは異なって水素原子又は低
級アルキル基；Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６は同一若しくは
異なって水素原子又は低級アルキル基であってかつＲ＾
４、Ｒ＾５、Ｒ＾６のうち少なくとも１つは低級アルキ
ル基を意味する。］で表されるテトラヒドロ−７−オキソ−８−インドリジ
ンカルボン酸誘導体。２、一般式（II）又は（II’）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II’）［式（II）又は（II’）中、Ｒ＾１’は、低級アルコキ
シカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；Ｒ＾４、
Ｒ＾５、Ｒ＾６は同一若しくは異なって水素原子又は低
級アルキル基であってかつＲ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６のう
ち少なくとも１つは低級アルキル基を意味する。］で表される化合物と一般式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III）［式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３は同一若しくは異なって、水素
原子又は低級アルキル基；Ｒ＾７、Ｒ＾８は水素原子又
はアルキル基、フェニル基又はＲ＾７およびＲ＾８が、
Ｒ＾７とＲ＾８の結合する炭素原子と共にシクロアルキ
ル基を形成してもよい。］で表される化合物とを反応させることを特徴とする一般式（ I ’）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ’）［式中、Ｒ＾１’、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、
Ｒ＾６は上記と同じ］で表されるテトラヒドロ−７−オ
キソ−８−インドリジンカルボン酸誘導体の製造法。３、一般式（ I ’） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ’）［式中、Ｒ＾１’は、低級アルコキシカルボニル基又は
フェノキシカルボニル基；Ｒ＾２、Ｒ＾３は同一若しく
は異なって、水素原子又は低級アルキル基；Ｒ＾４、Ｒ
＾５、Ｒ＾６は同一若しくは異なって水素原子又は低級
アルキル基であってかつＲ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６のうち
少なくとも１つは低級アルキル基を意味する。］で表される化合物を加水分解することを特徴とする。一般式（ I ”）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ”）［式中、Ｒ＾１”は、カルボキシ基若しくはその塩；Ｒ
＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾６は上記と同じ］
で表されるテトラヒドロ−７−オキソ−８−インドリジ
ンカルボン酸誘導体の製造法。