JPH02121889A - Data recording medium - Google Patents

Data recording medium

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JPH02121889A
JPH02121889A JP63275583A JP27558388A JPH02121889A JP H02121889 A JPH02121889 A JP H02121889A JP 63275583 A JP63275583 A JP 63275583A JP 27558388 A JP27558388 A JP 27558388A JP H02121889 A JPH02121889 A JP H02121889A
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JP
Japan
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film
recording
recording medium
recording film
substrate
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Pending
Application number
JP63275583A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Okawa
秀樹 大川
Norio Ozawa
小沢 則雄
Motonari Matsubara
松原 基成
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH02121889A publication Critical patent/JPH02121889A/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a long life data recording medium not easily generating surface roughness even under high temp. and high humidity environment by forming a recording film containing a specific alloy as well as carbon and hydrogen in an amorphous state on a substrate. CONSTITUTION:A data recording medium 18 is constituted of a substrate 3 and the recording film 14 laminated to the substrate 13. The recording film 14 contains an AgxTe100-x (2<=x<=50atomic%) as well as carbon and hydrogen to show an amorphous state and data is recorded thereon by the irradiation with laser beam. When this recording film is mounted, the data recording medium stably keeping recorded data even in a high temp. and high humidity state and excellent in recording sensitivity can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、例えばレーザ光の照射により記録膜成分を凝
集させて情報を書込み、該成分の凝集によるレーザ光の
振幅の変化を通じて該情報の読み出しを行う情報記録媒
体に関する。
Detailed Description of the Invention [Objective of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention is directed to writing information by aggregating recording film components by irradiating the components with a laser beam, and changing the amplitude of the laser beam due to the aggregation of the components. The present invention relates to an information recording medium that reads information through changes.

(従来の技術) レーザ光の照射により情報が記録され、さらに、記録さ
れた情報の再生がなされる情報記録媒体の一種として、
Teを主成分とする記録膜を具備したものが開発されて
いる。さらに、このTeを主成分とする記録膜に炭素並
びに水素を含んだ記録膜が開発され、実用化に至ってい
る(特開昭58−9234号公報参照)。
(Prior Art) As a type of information recording medium, information is recorded by irradiation with laser light and the recorded information is reproduced.
A device equipped with a recording film containing Te as a main component has been developed. Furthermore, a recording film containing carbon and hydrogen in addition to the Te-based recording film has been developed and put into practical use (see Japanese Patent Laid-Open No. 58-9234).

この記録膜を作成する際には、テルル(Te)を炭化水
素ガスを含む雰囲気中でスパッタする。
When creating this recording film, tellurium (Te) is sputtered in an atmosphere containing hydrocarbon gas.

すると、Te単体の膜(Te膜)よりも高感度でかつ耐
酸化性能にすぐれた記録膜(以下Te−C膜と称す)が
得られる。この記録膜は、アモルファス膜であり、Te
5(及びHを含み、また少なくともCとHは化学結合を
していることが分っている。
As a result, a recording film (hereinafter referred to as a Te-C film) having higher sensitivity and superior oxidation resistance than a film containing only Te (Te film) is obtained. This recording film is an amorphous film and is made of Te.
5 (and H), and it is known that at least C and H form a chemical bond.

この記録膜は、Te膜にならってTeと炭化水素をソー
スとする蒸着(プラズマを用いない)で形成しようとし
ても形成することができず、プラズマを利用して初めて
得られる。これは、炭化水素ガスがプラズマ中で一旦分
解した後、CとHが化学反応をして成膜されるためであ
り、これが光記録膜形成時の大きな特徴となっている。
This recording film cannot be formed even if it is attempted to be formed by vapor deposition using Te and hydrocarbon as sources (without using plasma), following the Te film, and can only be obtained by using plasma. This is because a film is formed by a chemical reaction between C and H after the hydrocarbon gas is once decomposed in plasma, and this is a major feature when forming an optical recording film.

(発明が解決しようとする課題) 上記のようなTe及び炭化水素からなる記録膜とTeで
形成された記録膜とを65℃−90%の高温高湿中(加
速条件下)において比較すると、Te膜はわずか1週間
以内に酸化して光記録性能が損われるのに対し、Te−
C膜は1ケ月を経過しても膜の内部までは酸化されず安
定であった。
(Problem to be Solved by the Invention) Comparing the recording film made of Te and hydrocarbon as described above and the recording film made of Te at a high temperature and high humidity of 65° C. and 90% (under accelerated conditions), Te film oxidizes within just one week and optical recording performance is impaired, whereas Te film
The C film remained stable without being oxidized even after one month.

しかし、Te−C膜も高温下(約75℃以上)では記録
膜あ結晶化してしまうために、表面がざらつくため、ノ
イズが増大し、再生信号に与える影響が大きくなるとい
う問題点があった。
However, the recording film of the Te-C film also crystallizes at high temperatures (above about 75 degrees Celsius), resulting in a rough surface that increases noise and has a greater effect on the reproduced signal. .

本発明は、上記問題点を解決するために、高温高湿の環
境下においても容易に表面が荒れない長寿命の情報記録
媒体を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to provide a long-life information recording medium whose surface does not easily become rough even under high temperature and high humidity environments.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は上記目的を達成するために、基板と、この基板
上に形成され、レーザ光の照射により情報が記録される
、A g * T e 100−m  (2≦x≦50
原子%)合金並びに炭素及び水素を含む非晶質状態の記
録膜とを具備したことを特徴とする情報記録媒体を提供
する。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention includes a substrate, and an A g * T film formed on the substrate and on which information is recorded by irradiation with a laser beam. e 100-m (2≦x≦50
%) alloy and an amorphous recording film containing carbon and hydrogen.

(作用) 本発明の光記録膜はAgTe合金を用い、高温下でも表
面状聾を安定に維持できるようにした。
(Function) The optical recording film of the present invention uses an AgTe alloy, and is able to maintain a stable surface appearance even at high temperatures.

本発明においては、AgTe合金並びに炭素及び水素を
含む記録膜を具備することにより、高温高湿下の状態に
おいても、記録した情報を安定に維持し、かつ記録感度
の優れた情報記録媒体を提供することができるものであ
る。以下、本発明の記録膜を便宜的に「AgTe−C膜
」と称する。
The present invention provides an information recording medium that stably maintains recorded information and has excellent recording sensitivity even under high temperature and high humidity conditions by including a recording film containing an AgTe alloy and carbon and hydrogen. It is something that can be done. Hereinafter, the recording film of the present invention will be referred to as an "AgTe-C film" for convenience.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、本発明の情報記録媒体の構造を概略的に示し
た断面図である。本発明の情報記録媒体は、基板13及
びこの基板13上に積層された記録111% 14によ
り構成されるものである。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the information recording medium of the present invention. The information recording medium of the present invention is composed of a substrate 13 and a recording material 111% 14 laminated on the substrate 13.

基板13は、情報の記録及び再生のために情報記録媒体
上に照射されるレーザ光に対して透明な材質のものが用
いられる。例えば、近赤外近傍の発振波長を有するレー
ザ光を用いる場合は、ポリカーボネート(PC)、ポリ
メチルメタクリレト(PMMA) 、ガラス、ポリオレ
フィン並びにエポキシ樹脂等が用いられる。
The substrate 13 is made of a material that is transparent to laser light that is irradiated onto the information recording medium for recording and reproducing information. For example, when using a laser beam having an oscillation wavelength near infrared, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), glass, polyolefin, epoxy resin, etc. are used.

また、記録膜14は、Ag−Te合金に炭素並びに水素
を含ませているものである。
The recording film 14 is made of an Ag-Te alloy containing carbon and hydrogen.

C−Hマトリクス中で分散しているクラスタ成分に凝集
時と分散時とで反射率に差が認められれば、例えばクラ
スタの分散を情報の無に、凝集を有に対応・させて、情
報の記録ができる。クラスタの凝集はレーザ照射による
発熱で生じさせることができる。Teは単体では、凝集
時と分散時の反射率の差はそれほど大きくない。しかし
、これと合金を形成し得る成分を加えた場合に差が認め
られてくることがある。本発明では、Agを2〜50原
子%加えた場合にこの効果が顕著であることを見出した
If there is a difference in the reflectance of the cluster components dispersed in the C-H matrix when they are agglomerated and when they are dispersed, for example, cluster dispersion can be made to correspond to the absence of information and aggregation to the presence of information. Can record. Aggregation of clusters can be caused by heat generation due to laser irradiation. When Te is used as a single substance, the difference in reflectance between aggregation and dispersion is not so large. However, when a component that can form an alloy with this is added, a difference may be observed. In the present invention, it has been found that this effect is significant when 2 to 50 atomic % of Ag is added.

本発明による情報記録媒体は、情報の記録が相変化の前
後における反射率の差を利用して行なうが、記録の前後
における反射率の差は、−役に記録膜の膜厚が干渉によ
る極値をの膜厚は、干渉効果が膜厚の増加とともに小さ
くなりある一定の反射率に収束すること、与えるものの
近傍にある場合に大きくなり、好都合である。従って、
本発明による記録膜及び記録時のレーザパワーが膜厚の
増加とともに増加することを考慮して、5000Å以下
とする。
In the information recording medium according to the present invention, information is recorded using the difference in reflectance before and after the phase change. The value of the film thickness is advantageous because the interference effect decreases as the film thickness increases and converges to a certain reflectance, and becomes large when the reflectance is close to that given. Therefore,
Considering the recording film according to the present invention and the fact that the laser power during recording increases as the film thickness increases, the thickness is set to 5000 Å or less.

実施例1 第1図に示した情報記録媒体を形成する方法について説
明する。
Example 1 A method for forming the information recording medium shown in FIG. 1 will be described.

第2図は、本発明の記録膜を形成するスパッタ装置の概
略図である。まず、このスパッタ装置のバルブ2をロー
タリーポンプ3側に開いてチェンバ1内を0,2Tor
rまで排気した。次いでバルブ2をクライオポンプ5側
に開いてlXl0−5T orr以下まで排気した。こ
の時、排気量は制御する必要がないので、コンダクタン
スバルブ4は全開しておいた。
FIG. 2 is a schematic diagram of a sputtering apparatus for forming the recording film of the present invention. First, open the valve 2 of this sputtering device to the rotary pump 3 side and set the inside of the chamber 1 to 0.2 Torr.
Exhausted to r. Next, the valve 2 was opened to the cryopump 5 side, and the temperature was evacuated to below 1X10-5 Torr. At this time, since there was no need to control the displacement, the conductance valve 4 was left fully open.

次にバルブ6を開けて、Arガスライン7からArガス
をマスフローコントローラ(図示せず)で調節しながら
、チェンバ1内に103 CCM導入した。次いでチェ
ンバ1内の圧力をイオンゲージ(図示せず)でモニター
しながら、コンダクタンスバルブ4で5 X 10−3
Torrに調整した。この圧力が変動しないことを確認
してから、Ag−Te合金ターゲット9(直径5インチ
二組成はA g 、、T e 6. ; 31%)にD
Cパワーサプライ10から100Wを印加し、シャッタ
11を閉じたままスパッタ放電を5分間行ってスパッタ
クリーニングをした。
Next, the valve 6 was opened, and 10 3 CCM of Ar gas was introduced into the chamber 1 from the Ar gas line 7 while being controlled by a mass flow controller (not shown). Next, while monitoring the pressure inside the chamber 1 with an ion gauge (not shown), the conductance valve 4
Adjusted to Torr. After confirming that this pressure does not fluctuate, a D
Sputter cleaning was performed by applying 100 W from the C power supply 10 and performing sputter discharge for 5 minutes with the shutter 11 closed.

Arガスの供給とDCパワーの供給を停止した後、クラ
イオポンプ5を用いてチェンバ1内を一旦1. X 1
0’ Torr以下に排気した。その後バルブ6と17
を開けてチェンバ1内にArガスとCH4ガスを、Ar
ガスライン7とCH4ガスライン8を通してマスフロー
コントローラ(図示せず)で調節しながら、105 C
CMづつ導入した。
After stopping the supply of Ar gas and the supply of DC power, the inside of the chamber 1 is temporarily pumped using the cryopump 5. X 1
It was evacuated to below 0' Torr. Then valves 6 and 17
Open the chamber 1 and introduce Ar gas and CH4 gas into the chamber 1.
105 C through gas line 7 and CH4 gas line 8 while adjusting with a mass flow controller (not shown).
We introduced commercials one by one.

次いでコンダクタンスバルブ4を用いてチェンバ1内の
圧力を5 X 10−3Torrに制御した。圧力変動
がないことを確認した後、AgTeターゲット9にDC
パワーサプライ10から100Wを印加し、スパッタ放
7代させた。安定に放電していることを確めた後、シャ
ッタ11を開けて、予め回転子12にセットしておいた
PC基板13上にAgTe合金並びに炭素及び水素を含
んだ記録膜14を積層した。回転子は60 rp@で回
転させた。
Next, the pressure inside the chamber 1 was controlled to 5×10 −3 Torr using the conductance valve 4 . After confirming that there is no pressure fluctuation, apply DC to AgTe target 9.
A power of 100 W was applied from the power supply 10, and spatter was emitted for 7 cycles. After confirming stable discharge, the shutter 11 was opened, and a recording film 14 containing an AgTe alloy, carbon, and hydrogen was laminated on the PC board 13 that had been set on the rotor 12 in advance. The rotor was rotated at 60 rp@.

膜Iν゛が1000人に達したところで、シャッタを閉
し、パワーの供給を停止した。
When the number of membranes Iν' reached 1000 people, the shutter was closed and the power supply was stopped.

次いでコンダクタンスバルブ4を全開し、クライオポン
プ5を用いてチェンバ1内を1. X 10−5T o
rr以下まで排気した。次いでバルブ15を開けて、N
2ガスライン16からN2ガスをチェンバ1内に導入し
て大気圧に戻した後、媒体18を取り出すことにより、
第1図に示す情報記録媒体が形成された。
Next, the conductance valve 4 is fully opened and the cryopump 5 is used to pump the inside of the chamber 1. X 10-5To
Exhausted to below rr. Next, open the valve 15 and turn on the N
By introducing N2 gas into the chamber 1 from the 2 gas line 16 and returning it to atmospheric pressure, the medium 18 is taken out.
The information recording medium shown in FIG. 1 was formed.

このようにして得られた記録膜14は、X線回折分析の
結果、特定の回折角度からの回折ピークが認められない
アモルファス膜であることが確認された。アモルファス
膜は、多結晶膜と違って結晶粒界がないため、再生レー
ザ光が粒界部分で変調されて粒界ノイズを生ずることが
ない。
As a result of X-ray diffraction analysis, it was confirmed that the recording film 14 thus obtained was an amorphous film in which no diffraction peak was observed from a specific diffraction angle. Unlike a polycrystalline film, an amorphous film does not have grain boundaries, so that reproduction laser light is not modulated at the grain boundaries and does not generate grain boundary noise.

上記の方法により得られたA g 33T e 67、
C及びHを含む記録膜は、膜厚が1000人のとき、第
3図に示すように、多重干渉効果により反射率が極小値
となるため、この膜厚でアモルファス(分散状態)から
結晶状態(凝集状態)に相変化させると、反射率の増加
を顕著に認めることができ、情報記録が行われたことが
分る。
A g 33T e 67 obtained by the above method,
When the film thickness of a recording film containing C and H is 1000, as shown in Figure 3, the reflectance reaches a minimum value due to the multiple interference effect, so the film changes from amorphous (dispersed state) to crystalline state at this film thickness. When the phase changes to (agglomerated state), a significant increase in reflectance can be observed, indicating that information has been recorded.

上記実施例においては、透明な有機樹脂基板を用いたが
、書込み及び再生レーザ光を、基板を透過させないで記
録膜面側から入射させるときは、基板は不透明であって
もよい。
In the above embodiments, a transparent organic resin substrate was used, but the substrate may be opaque when the writing and reproducing laser beams are incident from the recording film side without passing through the substrate.

実施例2 実施例1に示した方法により、Ag 3]T e 67
、C及びHを含む記録膜を250人、PC基板上に成膜
し、回転数1800rpm、記録周波数3.7MHz、
記録パルス幅5 n5ecの条件下で、線速度5.5m
/seeに相当する箇所において7mWのレーザパワー
で書込んだところ、30dBの良好なC/ N (Ca
rrlcr/ N olse)比を得た。
Example 2 By the method shown in Example 1, Ag 3]T e 67
, C and H were deposited on a PC board by 250 people at a rotation speed of 1800 rpm and a recording frequency of 3.7 MHz.
Under conditions of recording pulse width 5 n5ec, linear velocity 5.5 m
When writing with a laser power of 7 mW at the location corresponding to /see, a good C/N of 30 dB (Ca
rrlcr/Nolse) ratio was obtained.

本発明による上記膜厚250人の記録膜は、書込みレー
ザパワーが10mW以上になると、クラスタ成分の凝集
だけでなく、ピットも形成され、情報の読み出し時に混
乱を生じる。そこでビットの形成を防止するため、第4
図に示すように、基板13上に成膜された記録膜14上
に膜厚300〜1000人の誘電体膜20を積層した情
報記録媒体21を得ることができる。誘電体膜としては
、5i02.5iOSAノ、SiNなどを用いることが
できる。誘電体膜の膜厚は、300人より薄いとピンホ
ールが生ずるおそれがあり、また1000人を超えると
成膜時間が長くなる。
In the recording film according to the present invention having a thickness of 250 mm, when the writing laser power exceeds 10 mW, not only cluster components agglomerate but also pits are formed, causing confusion when reading information. Therefore, in order to prevent the formation of bits, a fourth
As shown in the figure, an information recording medium 21 can be obtained in which a dielectric film 20 with a thickness of 300 to 1000 layers is laminated on a recording film 14 formed on a substrate 13. As the dielectric film, 5i02.5iOSA, SiN, etc. can be used. If the dielectric film is thinner than 300 people, pinholes may occur, and if it exceeds 1000 people, the film forming time will be longer.

このような三層構造においては、多重干渉効果による反
射率の極小値は、それぞれの誘電体の有する屈折率と膜
厚によって変化する。
In such a three-layer structure, the minimum value of reflectance due to multiple interference effects changes depending on the refractive index and film thickness of each dielectric.

また第5図に示すように、誘電体膜20は、本発明によ
る基板13と記録膜14からなる情報記録媒体18同士
を接着層19を介して接着する場合、記録膜14表面を
接合層1つから保護する役目も果たす。
Further, as shown in FIG. 5, when the information recording medium 18 consisting of the substrate 13 and the recording film 14 according to the present invention is bonded to each other via the adhesive layer 19, the dielectric film 20 covers the surface of the recording film 14 with the bonding layer 18. It also serves as protection from heat.

本発明においては、情報の記録が相変化を利用して行わ
れるために、記録膜上に空気が存在しなくてもよく、2
枚の情報記録媒体同士を直接接着できるのである。さら
に本発明による情報の記録はビットの形成によるもので
ないため、レーザ光が照射されて融解した部分が基板界
面における界面張力によってリム(盛り上がり)を生ず
るということがない。即ち記録膜には反射率の差のみが
生じ、いわゆるマーキング部分と非マーキング部分とが
明瞭であるため、ビット形成による記録の場合に生じる
読み出しレーザ光のリムによる散乱がない。またリムが
生じないためビット間隔を詰めて高密度の記録も可能と
なる。
In the present invention, since information is recorded using phase change, there is no need for air to exist on the recording film.
It is possible to directly bond two pieces of information recording media together. Furthermore, since the information recording according to the present invention is not based on the formation of bits, there is no possibility that a portion melted by irradiation with a laser beam will form a rim (bulge) due to interfacial tension at the substrate interface. That is, only a difference in reflectance occurs in the recording film, and so-called marking portions and non-marking portions are clear, so that there is no scattering of the readout laser beam by the rim, which occurs in the case of recording by bit formation. Furthermore, since no rims are formed, it is possible to narrow the bit spacing and perform high-density recording.

実施例3 実施例1においては、炭化水素ガスの流量をX、希ガス
の流量をYとした場合の流量比Q (Q−rX/ (X
+Y))x 100%)は50%であったが、Qを大き
くすると、膜の透過率が増大して、光学的吸収率A (
A−1−R−T ; Rは反射率、Tは透過率)が減少
するため、記録時のレーザパワーを大きくしなければな
らない。そこで流量比Qを5≦Q≦50%とすれば、C
及びHが多すぎて光学的吸収率が低下するということは
ない。また上記Q値の範囲内ならば、CとHを含まない
AgTe合金単体の膜よりも高湿度下における反射率変
化の度合が小さく、長寿命である。
Example 3 In Example 1, the flow rate ratio Q (Q-rX/ (X
+Y))
A-1-R-T; R is reflectance and T is transmittance), so the laser power during recording must be increased. Therefore, if the flow rate ratio Q is 5≦Q≦50%, then C
The optical absorption rate does not decrease due to too much H and H. Furthermore, within the range of the above Q value, the degree of change in reflectance under high humidity is smaller than that of a single AgTe alloy film that does not contain C and H, and it has a longer life.

実施例1の方法に従って流量比Q−5及び50%下で成
膜したA g 、、T e 6□を含む膜厚250人の
記録膜の反射率は、第6図に示すように、Te単体膜及
びAgTe単体膜(Q−0)の反射率が迅速な酸化によ
って低下してしまう雰囲気中(65℃−90%)でさえ
も、1000時間大きな変化がなく極めて安定であった
。反射率は成膜直後のものを1として規格化しである。
As shown in FIG. 6, the reflectance of a recording film containing A g , , Te 6□ and a film thickness of 250 deposited according to the method of Example 1 at a flow rate ratio of Q-5 and 50% is as shown in FIG. Even in an atmosphere (65° C.-90%) in which the reflectance of the single film and the single AgTe film (Q-0) is reduced by rapid oxidation, it was extremely stable with no significant change for 1000 hours. The reflectance is normalized by setting the reflectance immediately after film formation to 1.

このことはPC,PMMAといった比較的酸素や水を透
過しやすい有機樹脂基板上にも、誘電体保護膜を介さず
に形成できることを意味している。光記録感度は、熱伝
導率の小さい有機樹脂基板上に成膜した方がガラス基板
上に成膜した場合よりも良好である。従って本発明によ
れば光記録感度の高い情報記録媒体を得ることが可能に
なる。
This means that it can be formed on organic resin substrates such as PC and PMMA that are relatively permeable to oxygen and water without using a dielectric protective film. The optical recording sensitivity is better when the film is formed on an organic resin substrate with low thermal conductivity than when it is formed on a glass substrate. Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain an information recording medium with high optical recording sensitivity.

実施例4 先に述べた誘電体膜を記録膜の上下に有する4層構造の
情報記録媒体を製造した。
Example 4 An information recording medium having a four-layer structure having the dielectric films described above above and below a recording film was manufactured.

第7図は、本発明の記録膜を形成するスパッタ装置の概
略図である。まず、このスパッタ装置のバルブ52をロ
ータリーポンプ53側に開いてチェンバ51内を0,2
Torrまて排気した。次いでバルブ52をクライオポ
ンプ55側に開いてI X 10−5Torr以下まで
排気した。この時、排気量は制御する必要がないので、
コンダクタンスバルブ54は全開しておいた。
FIG. 7 is a schematic diagram of a sputtering apparatus for forming the recording film of the present invention. First, the valve 52 of this sputtering device is opened to the rotary pump 53 side, and the inside of the chamber 51 is
Exhausted torr. Next, the valve 52 was opened to the cryopump 55 side, and the temperature was evacuated to below I.times.10@-5 Torr. At this time, there is no need to control the exhaust volume, so
The conductance valve 54 was left fully open.

次にバルブ56を開けて、A「ガスライン57からAr
ガスをマスフローコントローラ(図示せず)で調節しな
がら、チェンバ51内に1103CC導入した。次いで
チェンバ51内の圧力をイオンゲージ(図示せず)でモ
ニターしながら、コンダクタンスバルブ54で5X10
−3T orrに調整した。この圧力が変動しないこと
を確認してから、RFパワーサプライ78から5i02
ターゲツト79に300Wを供給した。
Next, open the valve 56, and
1103 CC of gas was introduced into the chamber 51 while adjusting the gas with a mass flow controller (not shown). Next, while monitoring the pressure inside the chamber 51 with an ion gauge (not shown), the conductance valve 54
Adjusted to -3T orr. After confirming that this pressure does not fluctuate, connect the RF power supply 78 to 5i02.
300W was supplied to target 79.

5分間シャッタ80を閉じて5i02表面をスパッタク
リーニングしてからシャッタ80を開けて5i02膜7
1を予め回転子62上にセットしておいたPC基板63
上に積層した。回転子62の回転数は成膜中60 rp
mに保った。
Close the shutter 80 for 5 minutes and sputter clean the 5i02 surface, then open the shutter 80 and remove the 5i02 film 7.
1 on the rotor 62 in advance.
Laminated on top. The rotation speed of the rotor 62 is 60 rp during film formation.
It was kept at m.

1000人成膜したら、シャッタ80を閉じ放電を停止
した。さらにガスの供給も停止してクライオポンプ65
でチェンバ51内を1×10T orr以下に排気した
After 1000 people formed films, the shutter 80 was closed to stop the discharge. Furthermore, the gas supply was also stopped and the cryopump 65
The inside of the chamber 51 was evacuated to 1×10 Torr or less.

次にAgTe、C及びHを含む記録膜を以下のようにし
て成膜した。
Next, a recording film containing AgTe, C, and H was formed as follows.

まずバルブ56を開けて、A「ガスライン57からAr
ガスをマスフローコントローラ(図示せず)で調節しな
がら、チェンバ51内に1103CC導入した。次いで
チェンバ51内の圧力をイオンゲージ(図示せず)でモ
ニターしながら、コンダクタンスバルブ54で5×10
〜3T orrに調整した。この圧力が変動しないこと
を確認してから、Ag−Te合金ターゲット5つ(直径
5インチ:組成はA g 45T e 55; at%
)にDCパワーサプライ60から100Wを印加し、シ
ャッタ61を閉じたままスパッタ放電を5分間行ってス
パッタクリーニングをした。
First, open the valve 56, and then
1103 CC of gas was introduced into the chamber 51 while adjusting the gas with a mass flow controller (not shown). Next, while monitoring the pressure inside the chamber 51 with an ion gauge (not shown), the conductance valve 54
It was adjusted to ~3T orr. After confirming that this pressure does not fluctuate, five Ag-Te alloy targets (5 inch diameter; composition is Ag 45T e 55; at%
) was applied with 100 W from the DC power supply 60, and sputter cleaning was performed by performing sputter discharge for 5 minutes with the shutter 61 closed.

Arガスの供給とDCパワーの供給を停止した後、クラ
イオポンプ55を用いてチェンバ1内を一旦I X 1
0−5Torr以下に排気した。その後バルブ56と6
7を開けてチェンバ51内にArガスとCH4ガスを、
Arガスライン57とCH。
After stopping the supply of Ar gas and the supply of DC power, the inside of the chamber 1 is once IX1 using the cryopump 55.
The exhaust was evacuated to 0-5 Torr or less. Then valves 56 and 6
7 and put Ar gas and CH4 gas into the chamber 51.
Ar gas line 57 and CH.

ガスライン58を通してマスフローコントローラ(図示
せず)で調節しながら、IO3CCMづつ導入した。次
いでコンダクタンスバルブ54を用いてチェンバ51内
の圧力を5 x 10−3Torrに制御した。圧力変
動がないことを確認した後、AgTeターゲット5つに
DCパワーサプライ60から100Wを印加し、スパッ
タ放電させた。
IO3CCM was introduced at a time through gas line 58 while being controlled by a mass flow controller (not shown). Next, the pressure inside the chamber 51 was controlled to 5 x 10-3 Torr using the conductance valve 54. After confirming that there was no pressure fluctuation, 100 W was applied to the five AgTe targets from the DC power supply 60 to cause sputter discharge.

安定に放電していることを確めた後、シャッタ61を開
けて、先に積層した5i02膜71上にAgTe合金並
びに炭素及び水素を含んだ記録膜64を積層した。膜厚
が1000人に達したところで、シャッタを閉じ、パワ
ーの供給を停止した。
After confirming that stable discharge was occurring, the shutter 61 was opened, and a recording film 64 containing an AgTe alloy, carbon, and hydrogen was laminated on the previously laminated 5i02 film 71. When the film thickness reached 1,000 people, the shutter was closed and the power supply was stopped.

次いでコンダクタンスバルブ54を全開し、クライオポ
ンプ55を用いてチェンバ51内を1×10=Torr
以下まで排気した。
Next, the conductance valve 54 is fully opened, and the inside of the chamber 51 is reduced to 1×10 Torr using the cryopump 55.
Exhausted to below.

次に先のSiO2膜の成膜時と全く同様にして、Arガ
ス雰囲気中でRFパワーを5i02ターゲツト80に供
給して5i02膜71を1000人記録膜64上に積層
させた。5i02の成膜後、チェンバ1内のガスをクラ
イオポンプ55でI×1O−5Tor以下に排気する。
Next, in exactly the same manner as in the case of forming the SiO2 film, RF power was supplied to the 5i02 target 80 in an Ar gas atmosphere to deposit the 5i02 film 71 on the 1000 person recording film 64. After forming the film 5i02, the gas in the chamber 1 is evacuated to below I×1O−5 Torr using the cryopump 55.

次いでバルブ65を開けて、N2ガスライン66からN
2ガスをチェンバ51内に導入して大気圧に戻した後、
媒体70を取り出した。
Next, open the valve 65 to drain N2 from the N2 gas line 66.
After introducing the two gases into the chamber 51 and returning the pressure to atmospheric pressure,
The medium 70 was taken out.

第8図は、本実施例の情報記録媒体の構造を概略的に示
した断面図である。本実施例の情報記録媒体70は、基
板63及びこの基板63上に順次積層された誘電体膜7
1、記録膜64及び誘電体膜71により構成されるもの
である。
FIG. 8 is a sectional view schematically showing the structure of the information recording medium of this example. The information recording medium 70 of this embodiment includes a substrate 63 and dielectric films 7 sequentially laminated on the substrate 63.
1. It is composed of a recording film 64 and a dielectric film 71.

本実施例の記録膜は、基板との界面のみならず、空気と
接する側にも誘電体膜を設けたため、きわめて耐酸化性
に優れたちのになった。このような構造が可能なのは、
先にも述べたように相変化を利用する記録方式を採用し
たからである。
The recording film of this example had a dielectric film not only at the interface with the substrate but also on the side in contact with air, so it had extremely excellent oxidation resistance. Such a structure is possible because
This is because, as mentioned earlier, a recording method that utilizes phase change was adopted.

[発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、基板との界面でも
酸化のおそれがなく、かつ高感度の記録膜を有する情報
記録媒体を提供できる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, it is possible to provide an information recording medium that is free from oxidation even at the interface with the substrate and has a highly sensitive recording film.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る情報記録媒体の断面図
、第2図は本発明の一実施例に係る光記録膜形成装置、
第3図は多重干渉効果による反射率の変化を示す図、第
4図は本発明の情報記録媒体の記録膜上に誘電体膜を積
層したものの断面図、第5図は本発明の情報記録媒体同
士をエアサンドイッチ型にしたものの断面図、第6図は
再生時間と反射レベルの変化を示す図、第7図は本発明
の一実施例に係る光記録膜形成装置、及び第8図は本発
明の他の実施例に係る情報記録媒体の断面図である。 1・・・・・・チェンバ、9・・・・・・AgTe合金
ターゲット、13・・・・・・PC基板、14・・・・
・・AgTe−C膜。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an information recording medium according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an optical recording film forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing changes in reflectance due to multiple interference effects, FIG. 4 is a cross-sectional view of a dielectric film laminated on the recording film of the information recording medium of the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing the information recording medium of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of an air sandwich type medium, FIG. 6 is a diagram showing changes in playback time and reflection level, FIG. 7 is an optical recording film forming apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a diagram showing changes in reflection level. FIG. 3 is a cross-sectional view of an information recording medium according to another embodiment of the present invention. 1...Chamber, 9...AgTe alloy target, 13...PC board, 14...
...AgTe-C film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板と、 この基板上に形成され、レーザ光の照射により情報が記
録される、Ag_xTe_1_0_0_−_x(2≦x
≦50原子%)合金並びに炭素及び水素を含む非晶質状
態の記録膜と、 を具備したことを特徴とする情報記録媒体。
(1) A substrate, Ag_xTe_1_0_0_-_x(2≦x
≦50 atomic %) alloy, and an amorphous recording film containing carbon and hydrogen.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0526647A1 (en) * 1991-02-20 1993-02-10 TDK Corporation Optical recording medium

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US5364708A (en) * 1991-02-20 1994-11-15 Tdk Corporation Optical recording medium

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