JPH02111812A - ウォーキングビーム式加熱炉における処理材の移送方法及びその装置 - Google Patents
ウォーキングビーム式加熱炉における処理材の移送方法及びその装置Info
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- JPH02111812A JPH02111812A JP26483788A JP26483788A JPH02111812A JP H02111812 A JPH02111812 A JP H02111812A JP 26483788 A JP26483788 A JP 26483788A JP 26483788 A JP26483788 A JP 26483788A JP H02111812 A JPH02111812 A JP H02111812A
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011295 pitch Substances 0.000 abstract 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は棒柱状の金属材料を順次間欠的に移動させなが
ら加熱処理するいわゆるウオーキングビーム式加熱炉に
おける処理材の移送方法及びその装置に関するものであ
る。
ら加熱処理するいわゆるウオーキングビーム式加熱炉に
おける処理材の移送方法及びその装置に関するものであ
る。
従来のウオーキングビーム方式の加熱炉は、加熱炉室内
に一定間隔毎に半円状の処理材受け部を設けた固定ビー
ムと、この固定ビームと同様に一定の間隔毎に設けた処
理材受け部を設けた移動ビームが並設されていて、固定
ビームの受け部上に載置支持された複数本の処理材を上
記移動ビームを上動させて処理材を移し替え、該ｆ多動
ビームを受け部の間隔だけ前進させ、続いて移動ビーム
を下降させて移動ビーム上に載置した処理材を再び固定
ビーム上に移載し、然る後該移動ビームを原位置に後退
させるという手順により加熱炉室内において順次処理材
を移動させその間において所望の熱処理を行っていた。
に一定間隔毎に半円状の処理材受け部を設けた固定ビー
ムと、この固定ビームと同様に一定の間隔毎に設けた処
理材受け部を設けた移動ビームが並設されていて、固定
ビームの受け部上に載置支持された複数本の処理材を上
記移動ビームを上動させて処理材を移し替え、該ｆ多動
ビームを受け部の間隔だけ前進させ、続いて移動ビーム
を下降させて移動ビーム上に載置した処理材を再び固定
ビーム上に移載し、然る後該移動ビームを原位置に後退
させるという手順により加熱炉室内において順次処理材
を移動させその間において所望の熱処理を行っていた。
Ｃ発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、昇温加熱帯域では処理材が急速に昇温さ
れるので、比較的小径のビレット等では反り、焼面りが
発生すると共に表面が酸化する問題点があり、また均熱
帯域では４〜６時間高温で保持しながら移送するので、
表皮疵が生じ製品の品質低下をきたす問題点があった。
れるので、比較的小径のビレット等では反り、焼面りが
発生すると共に表面が酸化する問題点があり、また均熱
帯域では４〜６時間高温で保持しながら移送するので、
表皮疵が生じ製品の品質低下をきたす問題点があった。
本発明はこのような問題点を解決したもので、処理材を
低温域では転動移送させ、偏光伝熱による反り曲りを防
止すると共に高温域で転動させず静止送りとして処理材
表皮の接触疵を防ぐようにして処理材を極めて効果的に
加熱できるウオーキングビーム式加熱炉における処理材
の移送方法及び装置を提供するものである。
低温域では転動移送させ、偏光伝熱による反り曲りを防
止すると共に高温域で転動させず静止送りとして処理材
表皮の接触疵を防ぐようにして処理材を極めて効果的に
加熱できるウオーキングビーム式加熱炉における処理材
の移送方法及び装置を提供するものである。
〔問題点を解決するだめの手段〕
上記目的を達成するため、本発明の第１項では、■ 炉
長方向に加熱帯域（１ａ）と均熱帯域（１ｂ）とに区分
され、ウオーキングビーム方式によって処理材（Ａ）を
加熱移送するに際して、 ■ 加熱帯側の移送ビーム（３）の搬送量を加熱帯側の
移送ビーム（３）の処理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）
より短い均熱帯側の移送ビーム（６）の位相で駆動させ
、 ■ 加熱帯域（１ａ）での移送ビーム（３）と固定ビー
ム（２）との間での処理材（Ａ）の受け渡しを転動させ
て行うと共に、 ■ 均熱帯域（ｌｂ）での移送ビームｆｂｌと固定ビー
ム（５）との間での処理材（Ａ）の受け渡しは転動しな
い静置送りとする。
長方向に加熱帯域（１ａ）と均熱帯域（１ｂ）とに区分
され、ウオーキングビーム方式によって処理材（Ａ）を
加熱移送するに際して、 ■ 加熱帯側の移送ビーム（３）の搬送量を加熱帯側の
移送ビーム（３）の処理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）
より短い均熱帯側の移送ビーム（６）の位相で駆動させ
、 ■ 加熱帯域（１ａ）での移送ビーム（３）と固定ビー
ム（２）との間での処理材（Ａ）の受け渡しを転動させ
て行うと共に、 ■ 均熱帯域（ｌｂ）での移送ビームｆｂｌと固定ビー
ム（５）との間での処理材（Ａ）の受け渡しは転動しな
い静置送りとする。
；という技術的方法を採用しており、
第２項においては、前記方法を実施するためにウオーキ
ングビーム式加熱炉における処理材の移送装置を、 ■ 炉長方向に加熱帯域（ｌａ）と均熱帯域（１ｂ）と
に区分され、ウオーキングビーム方式によって処理材（
Ａ）を加熱移送する装置であって、■ 加熱帯域（１ａ
）に固定ビーム（２）と移送ビーム（３）を並設し、こ
れらのビーム（２１＋３）の上面に設けられた一定間隔
毎の半円形状の処理材受け部（４）の間隔（Ｓ、）を、 ■ 均熱帯域（１ｂ）の固定ビーム（５）及び移送ビー
ム（６）の上面に設けられた一定間隔毎の半円形状の処
理材受け部（７）の間隔（Ｓ２）より長く構成するとい
う技術的手段を採用している。
ングビーム式加熱炉における処理材の移送装置を、 ■ 炉長方向に加熱帯域（ｌａ）と均熱帯域（１ｂ）と
に区分され、ウオーキングビーム方式によって処理材（
Ａ）を加熱移送する装置であって、■ 加熱帯域（１ａ
）に固定ビーム（２）と移送ビーム（３）を並設し、こ
れらのビーム（２１＋３）の上面に設けられた一定間隔
毎の半円形状の処理材受け部（４）の間隔（Ｓ、）を、 ■ 均熱帯域（１ｂ）の固定ビーム（５）及び移送ビー
ム（６）の上面に設けられた一定間隔毎の半円形状の処
理材受け部（７）の間隔（Ｓ２）より長く構成するとい
う技術的手段を採用している。
加熱帯域（１ａ）にある処理材（Ａ）は、加熱帯側移送
ビーム（３）の搬送量が加熱帯側固定ビーム（２）に設
けられた処理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）でなく、均
熱帯側移送ビーム（６）の処理材受け部（７）の間隔（
Ｓ２）で進むので処理材受け部（４）が不一致となり、
加熱帯域（１ａ）での移送ビーム（３）と固定ビーム（
４）との受け渡し時に、処理材受け部（４）の斜面に処
理材（Ａ）が移載され、移送ビーム（３）が固定ビーム
（２）から離間すると処理材（Ａ）が転動して処理材受
け部（４）の底部に転落することになる。続いて処理材
（Ａ）が進行して均熱帯域（ｌｂ）に達すると、移送ビ
ーム（４）の搬送量と均熱帯域（１ｂ）との固定ビーム
（５）の処理材受け部（７）のピッチが一致し、その結
果転動することなく静止状態で移送でき処理材表面にに
疵がつかない。
ビーム（３）の搬送量が加熱帯側固定ビーム（２）に設
けられた処理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）でなく、均
熱帯側移送ビーム（６）の処理材受け部（７）の間隔（
Ｓ２）で進むので処理材受け部（４）が不一致となり、
加熱帯域（１ａ）での移送ビーム（３）と固定ビーム（
４）との受け渡し時に、処理材受け部（４）の斜面に処
理材（Ａ）が移載され、移送ビーム（３）が固定ビーム
（２）から離間すると処理材（Ａ）が転動して処理材受
け部（４）の底部に転落することになる。続いて処理材
（Ａ）が進行して均熱帯域（ｌｂ）に達すると、移送ビ
ーム（４）の搬送量と均熱帯域（１ｂ）との固定ビーム
（５）の処理材受け部（７）のピッチが一致し、その結
果転動することなく静止状態で移送でき処理材表面にに
疵がつかない。
〔実 施 例］
以下、本発明の実施例を示す図面について説明すれば、
（１）はウオーキングビーム式加熱炉で、炉長方向に昇
温加熱帯域（ｌａ）と保持均熱帯域（１ｂ）とに区分さ
れていて炉長の約３の長さが昇温加熱帯域（１ａ）にな
っている。昇温加熱帯域（１ａ）には固定ビーム（２）
と移送ビーム（３ンが複数本並設され、その上面に半円
形状の溝からなる処理材受け部（４）を−定間隔（Ｓ、
）で凹設しである。保持均熱帯域（１ｂ）にも昇温加熱
帯域（１ａ）と同様に固定ビーム（５）及び移送ビーム
（６）が複数本並設されていて、その上面に半円形状の
溝からなる処理材受け部（７）を一定間隔（Ｓ２）で凹
設しであるが、この間隔（Ｓ２）は昇温加熱帯域（１ａ
）の固定ビーム（２）と移送ビーム（３）に形成した処
理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）よりｆｄ）の幅だけ短
くなっている。この昇温加熱帯域（１ａ）の移送ビーム
（３）と保持均熱帯域（１ｂ）の移送ビーム（６）は分
割体でなく、一定の長尺に形成されていて、独立して同
一駆動を行う６（８）は処理材の装入用ローラ、（９）
は処理材の抽出ローラ、００）は熱風用ファン、０υは
ヒーターである。
（１）はウオーキングビーム式加熱炉で、炉長方向に昇
温加熱帯域（ｌａ）と保持均熱帯域（１ｂ）とに区分さ
れていて炉長の約３の長さが昇温加熱帯域（１ａ）にな
っている。昇温加熱帯域（１ａ）には固定ビーム（２）
と移送ビーム（３ンが複数本並設され、その上面に半円
形状の溝からなる処理材受け部（４）を−定間隔（Ｓ、
）で凹設しである。保持均熱帯域（１ｂ）にも昇温加熱
帯域（１ａ）と同様に固定ビーム（５）及び移送ビーム
（６）が複数本並設されていて、その上面に半円形状の
溝からなる処理材受け部（７）を一定間隔（Ｓ２）で凹
設しであるが、この間隔（Ｓ２）は昇温加熱帯域（１ａ
）の固定ビーム（２）と移送ビーム（３）に形成した処
理材受け部（４）の間隔（Ｓｌ）よりｆｄ）の幅だけ短
くなっている。この昇温加熱帯域（１ａ）の移送ビーム
（３）と保持均熱帯域（１ｂ）の移送ビーム（６）は分
割体でなく、一定の長尺に形成されていて、独立して同
一駆動を行う６（８）は処理材の装入用ローラ、（９）
は処理材の抽出ローラ、００）は熱風用ファン、０υは
ヒーターである。
このように構成した本発明のウオーキングビーム式加熱
炉における処理材の移送について述べると、固定ビーム
（２） ＋５１上に載置された処理材（Ａ）は移動ビー
ム（３１（６１の上昇、前進で固定ビーム（２） （５
１上に移載することを繰り返して処理材（Ａ）を搬送す
るものである。昇降機械には喫方式、ベルクランク方式
、偏心カム方式など種々のものがあり、油圧シリンダー
（１２１を介して行い、又前進、後退は１つの移送用油
圧シリンダ−０りで行っている。
炉における処理材の移送について述べると、固定ビーム
（２） ＋５１上に載置された処理材（Ａ）は移動ビー
ム（３１（６１の上昇、前進で固定ビーム（２） （５
１上に移載することを繰り返して処理材（Ａ）を搬送す
るものである。昇降機械には喫方式、ベルクランク方式
、偏心カム方式など種々のものがあり、油圧シリンダー
（１２１を介して行い、又前進、後退は１つの移送用油
圧シリンダ−０りで行っている。
そして、加熱帯側移送ビーム（３）並びに均熱帯側移送
ビーム（６）を上昇、前進、下降、後退させて処理材（
Ａ）を１ピンチずつ前進させて行くのであるが、加熱帯
側移送ビーム（３）と均熱帯側移送ビーム（６）の処理
材受け部（４１＋７１のピンチ（Ｓｌ） （Ｓ２）がそ
れぞれ異なっている。即ち、加熱帯側移送ビーム（３）
の方が均熱帯側移送ビーム（６）より（ｄｌＯ幅だけ長
くなっている。
ビーム（６）を上昇、前進、下降、後退させて処理材（
Ａ）を１ピンチずつ前進させて行くのであるが、加熱帯
側移送ビーム（３）と均熱帯側移送ビーム（６）の処理
材受け部（４１＋７１のピンチ（Ｓｌ） （Ｓ２）がそ
れぞれ異なっている。即ち、加熱帯側移送ビーム（３）
の方が均熱帯側移送ビーム（６）より（ｄｌＯ幅だけ長
くなっている。
第３図に１サイクルの作動を示している。起点は加熱帯
側移送ビーム（３）及び均熱帯側移送ビーム（６）が加
熱帯側固定ビーム（２）及び均熱帯側固定ビーム（５）
の真下にあり、処理材受け部＜４１ （７１も、また固
定ビーム（２） （５１の位置と移送ビーム（３１＋６
１の位置とは高さが違うだけで同一位置にある。次に、
移送ビーム（３１（６１が上昇して固定ビーム（２１（
５）から処理材（Ａ）を持ち上げた状態が２点鎖線の状
態であり、続いて処理材（Ａ）を持ち上げたままで図中
右方に均熱帯側ビーム（６）の位相で１ピッチ移行する
。
側移送ビーム（３）及び均熱帯側移送ビーム（６）が加
熱帯側固定ビーム（２）及び均熱帯側固定ビーム（５）
の真下にあり、処理材受け部＜４１ （７１も、また固
定ビーム（２） （５１の位置と移送ビーム（３１＋６
１の位置とは高さが違うだけで同一位置にある。次に、
移送ビーム（３１（６１が上昇して固定ビーム（２１（
５）から処理材（Ａ）を持ち上げた状態が２点鎖線の状
態であり、続いて処理材（Ａ）を持ち上げたままで図中
右方に均熱帯側ビーム（６）の位相で１ピッチ移行する
。
その状態から移送ビームｆ３１ （６）を下降すると、
加熱帯側移送ビーム（３）上の処理材（Ａ）は固定ビー
ム（２）のａ点で固定ビーム（２）と移送ビーム（３）
に各々接触して、更に移送ビーム（３）が下降すると偏
心１（ｄｉだけ処理材（Ａ）が転動して加熱帯側固定ビ
ーム（２）の受け部（４）に納まる。一方、均熱帯側移
送ビーム（６）の処理材（Ａ）は均熱帯側移送ビーム（
６）と均熱帯側固定ビーム（５）との処理材受け部（７
）のピンチが等しく、加熱帯側のような偏心が無いため
、処理材（Ａ）は回転することなく静止状態用移送され
る。以上のような動作を繰り返して処理材（Ａ）を１ピ
ンチずつ転動させて所定温度で加熱するものである。
加熱帯側移送ビーム（３）上の処理材（Ａ）は固定ビー
ム（２）のａ点で固定ビーム（２）と移送ビーム（３）
に各々接触して、更に移送ビーム（３）が下降すると偏
心１（ｄｉだけ処理材（Ａ）が転動して加熱帯側固定ビ
ーム（２）の受け部（４）に納まる。一方、均熱帯側移
送ビーム（６）の処理材（Ａ）は均熱帯側移送ビーム（
６）と均熱帯側固定ビーム（５）との処理材受け部（７
）のピンチが等しく、加熱帯側のような偏心が無いため
、処理材（Ａ）は回転することなく静止状態用移送され
る。以上のような動作を繰り返して処理材（Ａ）を１ピ
ンチずつ転動させて所定温度で加熱するものである。
本発明は昇温加熱帯域では処理材の受け渡しを転動させ
ながら移送するから、偏光伝熱による撓曲りを防止でき
、処理材を均一に効率よく加熱できると共に、保持均熱
帯域では転動することなく静止状態で移送するので処理
材の表面に疵をつけることがない。
ながら移送するから、偏光伝熱による撓曲りを防止でき
、処理材を均一に効率よく加熱できると共に、保持均熱
帯域では転動することなく静止状態で移送するので処理
材の表面に疵をつけることがない。
さらに加熱：！１シ域のビームと均熱帯域のビームを連
立した同一駆動で行うことにより、移送用シリンダーが
１台でよく、処理材のビーム間における受け渡しを円滑
、確実にでき、同調装置も必要がないので装置を安価に
供給できるものである。
立した同一駆動で行うことにより、移送用シリンダーが
１台でよく、処理材のビーム間における受け渡しを円滑
、確実にでき、同調装置も必要がないので装置を安価に
供給できるものである。
図面は本発明の実施例を示すもので、第１図は要部の簡
略縦断側面図、第２図は加熱帯域のビームが下限の状態
と均熱帯域のビームが上限を示す簡略ｔｌｌ正正面図第
３図はビームの部分拡大図で１サイクルの動作を示す説
明図である。 （１ａ）・・・加熱帯域 （１ｂ）・・・均熱
帯域＋２１． （５）・・・固定ビーム ｆ３）、
（６１・・・移送ビーム（４，１，ｆｉｌ・・・処理
材受け部 （Ａ）・・・処理材特許出願人 口ザイ
工業株式会社
略縦断側面図、第２図は加熱帯域のビームが下限の状態
と均熱帯域のビームが上限を示す簡略ｔｌｌ正正面図第
３図はビームの部分拡大図で１サイクルの動作を示す説
明図である。 （１ａ）・・・加熱帯域 （１ｂ）・・・均熱
帯域＋２１． （５）・・・固定ビーム ｆ３）、
（６１・・・移送ビーム（４，１，ｆｉｌ・・・処理
材受け部 （Ａ）・・・処理材特許出願人 口ザイ
工業株式会社
Claims (1)
- （１）炉長方向に加熱帯域と均熱帯域とに区分され、ウ
ォーキングビーム方式によって処理材を加熱移送するに
際して、加熱帯側の移送ビームの搬送量を加熱帯側の移
送ビームの処理材受け部の間隔より短い均熱帯側の移送
ビームの位相で駆動させ、加熱帯域での移送ビームと固
定ビームとの間での処理材の受け渡しを転動させて行う
と共に、均熱帯域での移送ビームと固定ビームとの間で
の処理材の受け渡しは転動しない静置送りとすることを
特徴とするウォーキングビーム式加熱炉における処理材
の移送方法。 ２ 炉長方向に加熱帯域と均熱帯域とに区分されウォー
キングビーム方式によって処理材を加熱移送する装置で
あって、加熱帯域に固定ビームと移送ビームを並設し、
これらのビーム上面に設けられた一定間隔毎の半円形状
の処理材受け部の間隔を均熱帯域の固定ビーム及び移送
ビームの上面に設けられた一定間隔毎の半円形状の処理
材受け部の間隔より長くしたことを特徴とするウォーキ
ングビーム式加熱炉における処理材の移送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26483788A JPH02111812A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ウォーキングビーム式加熱炉における処理材の移送方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26483788A JPH02111812A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ウォーキングビーム式加熱炉における処理材の移送方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111812A true JPH02111812A (ja) | 1990-04-24 |
Family
ID=17408898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26483788A Pending JPH02111812A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | ウォーキングビーム式加熱炉における処理材の移送方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02111812A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS599002U (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-20 | 村上 隆大 | ネクタイ止め付きワイシヤツ |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26483788A patent/JPH02111812A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS599002U (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-20 | 村上 隆大 | ネクタイ止め付きワイシヤツ |
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