JPH02102725U - - Google Patents
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- JPH02102725U JPH02102725U JP1204189U JP1204189U JPH02102725U JP H02102725 U JPH02102725 U JP H02102725U JP 1204189 U JP1204189 U JP 1204189U JP 1204189 U JP1204189 U JP 1204189U JP H02102725 U JPH02102725 U JP H02102725U
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- JP
- Japan
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- cleaning
- semiconductor wafer
- cleaning solution
- tank
- replenished
- Prior art date
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- Granted
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
第1図及び第2図は本考案の第1及び第2の実
施例の構成図である。 1……純水、2……加熱槽、3……液温計、4
……ヒーター、5……液温コントローラ、6……
補充液供給ポンプ、7……アンモニア水、8……
過酸化水素水、9……洗浄液、10……棒状ヒー
ター、11……洗浄槽、12……循環ポンプ、1
3……混合槽、14……エア駆動式バルブ。
施例の構成図である。 1……純水、2……加熱槽、3……液温計、4
……ヒーター、5……液温コントローラ、6……
補充液供給ポンプ、7……アンモニア水、8……
過酸化水素水、9……洗浄液、10……棒状ヒー
ター、11……洗浄槽、12……循環ポンプ、1
3……混合槽、14……エア駆動式バルブ。
Claims (1)
- 複数の薬品溶液からなる洗浄液を洗浄槽に満し
、定期的に洗浄液を補充しながら半導体ウエーハ
を洗浄する半導体ウエーハの洗浄装置において、
補充する洗浄液を加熱するための手段を設けたこ
とを特徴とする半導体ウエーハの洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989012041U JPH0749790Y2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 半導体ウェーハの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1989012041U JPH0749790Y2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 半導体ウェーハの洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02102725U true JPH02102725U (ja) | 1990-08-15 |
JPH0749790Y2 JPH0749790Y2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=31221128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1989012041U Expired - Lifetime JPH0749790Y2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 半導体ウェーハの洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0749790Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109673107A (zh) * | 2018-12-13 | 2019-04-23 | 重庆方正高密电子有限公司 | 褪洗设备和生产线 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59215729A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-05 | Ulvac Corp | 半導体もしくは磁気記録媒体等の基板の洗浄装置 |
JPS63128186A (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-31 | Hitachi Ltd | 湿式エツチング装置 |
JPS63272040A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Fujitsu Ltd | 循環濾過洗浄装置 |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP1989012041U patent/JPH0749790Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59215729A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-05 | Ulvac Corp | 半導体もしくは磁気記録媒体等の基板の洗浄装置 |
JPS63128186A (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-31 | Hitachi Ltd | 湿式エツチング装置 |
JPS63272040A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Fujitsu Ltd | 循環濾過洗浄装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109673107A (zh) * | 2018-12-13 | 2019-04-23 | 重庆方正高密电子有限公司 | 褪洗设备和生产线 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0749790Y2 (ja) | 1995-11-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |