JPH02100354A - Icリード用部材 - Google Patents

Icリード用部材

Info

Publication number
JPH02100354A
JPH02100354A JP25303588A JP25303588A JPH02100354A JP H02100354 A JPH02100354 A JP H02100354A JP 25303588 A JP25303588 A JP 25303588A JP 25303588 A JP25303588 A JP 25303588A JP H02100354 A JPH02100354 A JP H02100354A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
alloy
insulating layer
substrate material
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25303588A
Other languages
English (en)
Inventor
Daiji Sakamoto
坂本 大司
Takehisa Seo
武久 瀬尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
Priority to JP25303588A priority Critical patent/JPH02100354A/ja
Publication of JPH02100354A publication Critical patent/JPH02100354A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ICリード用部材に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、ICリード用部材としては42%Ni−Fe合金
、各種Cu合金等が主に用いられており、スタンピング
あるいはフォトエツチングによって所定のリードフレー
ム形状に成形されている。
しかしながら、近年のICの高集積化にともないリード
用部材に対して多ピン化、高精細化の要求が強くなる中
、これまでのような単一材のリードフレームでは微細加
工も限界に達し、リードフレーム板厚よりも狭い幅のリ
ード加工は困難となってきた。
また、ある程度以上の微細リードになるとリード位置ず
れや変形に起因するワイヤーボンディング不良が発生し
易くなる問題を有している。
〔発明が解決しようとする課題〕
多ビン化対応のパッケージ技術としては、多数のリード
ピンをパッケージ下面に配したPGA(Pin Gri
d Array)や、絶縁テープ上に銅箔リードを配し
たT A B (Tape Autmated Bon
ding)などが知られているが、PGAは高密度実装
に不向きで高価格であり、TABは耐湿信頼性に欠ける
等の欠点を有している。
本発明は、以上のような問題点を解決し、多ビン化およ
び高密度実装化を可能とするICリード用部材の提供を
課題とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は1重量%でNi35〜55%、残部実質的にF
eからなる基板材と1重量%でc o、oog%以下、
Ni 35−55%、残部実質的にFeからなるFe−
Ni合金の厚さ100μm以下のリード用金属箔とが1
50℃以上の耐熱性を有する絶縁層を介して接合された
ことを特徴とするICリード用部材である。
本発明において、基板部に重量%でNi35〜55%、
残部実質的にFeからなるF s−N i合金を用いる
のは、Siチップとの熱的整合性を持たせるためである
Ni量が3錦未満では完全なオーステナイト単相組織が
得られず、熱膨張係数の変動をきたす可能性があるため
35%以上とした。また逆に、55%を越えると熱膨張
係数゛が大きくなり過ぎSiチップとの整合性が維持で
きなくなるためNi 55%以下とした。この成分系で
あれば基板として必要な機械的強度を十分満足できる。
リード部を形成する金属箔は、基板との熱膨張整合性、
めっき性、はんだ付は性などを考慮し。
基板との同等組成のF e−N i合金を用いる。なお
この金属箔はフォトエツチングによってできるだけ微細
で精度の良いリード形状に成形できることが必要なため
板厚を100μm以下とする。しかもC含有量は0.0
08%以下、結晶粒度はASTM結晶粒度番号8以上の
細粒であることが必要である。C含有量が0.008%
を越えるとエツチング速度が遅くなり良好なリード形状
が得られず、また結晶粒度番号が8を越えて大きくなる
とエツチング面の肌粗れが生じ、やはり良好なリード形
状が得られなくなる。
基板材とリード用金属箔とを絶縁層を介して接合するの
は、絶縁層によってこれらを電気的に分離させるためで
ある。
すなわち基板材に絶縁層を介して接合された金属箔は、
フォトエツチングによりリード形状に加工されるが、そ
の際に金属箔のみがエツチングされる必要があり、また
形成されたリード同志が短絡しないように絶縁層を介し
て接合するのである。
絶縁層の耐熱性を150℃以上としたのは、150℃未
満では、チップやワイヤーのボンディングの際に絶縁層
が変質を起すため、150℃以上とした。
なお、絶縁層を介して前記基板部とリード部となる箔を
接合する方法としては、エポキシ系樹脂等の絶縁性の接
着剤で接着する、またはエポキシ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂等に紙、布等の基材を含浸させたシート、フィ
ルムの状態で前記基板部とリード部との間に介在させ、
加熱、加圧を施すことにより接合する等の方法が適用さ
れる。
本発明によれば、形成されたリード部が絶縁層を介して
基板材に固定されているため、リードの寄りや段差(以
下これらをまとめて位置ずれともいう)が生じることは
なく、多ピン化や高密度実装化の要求に十分対応し得る
。また、基板部はそのままパッケージの外囲器として用
いることが可能であり、従来の樹脂封止パッケージに比
して熱放散性にも優れている。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例に基づき説明する。
基板部として、厚さ0.35+amの42%Ni−Fe
基板材と、第1表に示す各種の42%Ni−Feリード
用箔(厚さ0.05mm)とを、厚さ0.05onのビ
スフェノールAエポキシ系樹脂を用いて、基板材−樹脂
一り−ド用箔の三層構造に接合し、以下に述べるような
特性評価を行った。
まず、リード用箔をリード幅0.3nm、  リードピ
ッチ0.65n、リード長15+mのQ F P (Q
uad FlatPackage)パターンにフォトエ
ツチング加工し、その際のエツチング速度、リードの位
置ずれ、エツチング面の肌粗れ状況を測定した。エツチ
ング液は濃度42ボーメ、液温40℃の塩化第二鉄水溶
液を用いた。
なお、比較例として厚さ0.15asの42Ni−Fe
合金単体、 CDA194(鉄入り銅)単体についても
同様の測定を行なった。
結果を第1表に併せて示す。
第1表の結果から明らかなように、リード用42Ni−
Fa箔のC含有量をo、oog%以下、結晶粒度を粒度
番号8以上の細粒にすることにより精度の良いリード形
状を得ることができ、また基板材−樹脂−リード用箔の
三層構造にすることにより、リードの位置ずれがほとん
ど零の高精度リードフレームが得られることがわかる。
〔発明の効果〕

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 重量%でNi35〜55%、残部実質的にFeから
    なるFe−Ni合金の基板材と、重量%でC0.008
    %以下、Ni35〜55%、残部実質的にFeからなり
    、さらに結晶粒の大きさがASTM結晶粒度番号8以上
    の細粒であるFe−Ni合金の厚さ100μm以下のリ
    ード用金属箔とが150℃以上の耐熱性を有する絶縁層
    を介して接合されていることを特徴とするICリード用
    部材。
JP25303588A 1988-10-07 1988-10-07 Icリード用部材 Pending JPH02100354A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25303588A JPH02100354A (ja) 1988-10-07 1988-10-07 Icリード用部材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25303588A JPH02100354A (ja) 1988-10-07 1988-10-07 Icリード用部材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02100354A true JPH02100354A (ja) 1990-04-12

Family

ID=17245576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25303588A Pending JPH02100354A (ja) 1988-10-07 1988-10-07 Icリード用部材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02100354A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0768808A1 (en) * 1995-09-28 1997-04-16 Star Micronics Co., Ltd. Lead frame material for electro acoustic transducer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0768808A1 (en) * 1995-09-28 1997-04-16 Star Micronics Co., Ltd. Lead frame material for electro acoustic transducer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6005286A (en) Increasing the gap between a lead frame and a semiconductor die
US20090004775A1 (en) Methods for forming quad flat no-lead (qfn) packages
JP2002124533A (ja) 電極材料、半導体装置及び実装装置
JPH1154552A (ja) 半導体装置、半導体装置用tabテープ及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JPH01183837A (ja) 半導体装置
JPH08186151A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US10811376B2 (en) Cu column, Cu core column, solder joint, and through-silicon via
JPH02100354A (ja) Icリード用部材
JPS63215044A (ja) テ−プキヤリヤ用銅合金箔
JPH02100355A (ja) Icリード用部材
JPS5933851A (ja) 気密封止半導体容器
JPS61150253A (ja) 半導体リ−ドフレ−ム
JPH0817870A (ja) 半導体装置
JPH06216277A (ja) 半導体装置およびその半導体装置を組み込んだicカード
JPH0616523B2 (ja) フィルムキャリヤ及びその製造方法
JPH0294658A (ja) Icリード用部材
JPH01316966A (ja) Icリード部材
JPS63215306A (ja) テ−プキヤリヤ用銅又は銅合金箔の製造方法
US20230369179A1 (en) Semiconductor device
JP2672349B2 (ja) Icリード用部材
JPH01132147A (ja) 半導体装置
JPS6317263Y2 (ja)
JPS60251636A (ja) 半導体装置
JPS62248244A (ja) Pga用リ−ドフレ−ム
JPH0766352A (ja) リードフレーム