JPH02100001A - 赤外線透過材料の製造方法 - Google Patents
赤外線透過材料の製造方法Info
- Publication number
- JPH02100001A JPH02100001A JP63254076A JP25407688A JPH02100001A JP H02100001 A JPH02100001 A JP H02100001A JP 63254076 A JP63254076 A JP 63254076A JP 25407688 A JP25407688 A JP 25407688A JP H02100001 A JPH02100001 A JP H02100001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transmissive material
- dust
- infrared
- infrared transmitting
- protected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims abstract description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M thallium(i) bromide Chemical compound [Tl]Br PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 abstract 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 108091006629 SLC13A2 Proteins 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は赤外分光光度計、フーＩＪ工変換赤外分光光度
計の赤外線を発生している試料と、赤外線を検知する検
知器の間の赤外線の光路間に用いる透過材料及び反射材
料に関するものである。
計の赤外線を発生している試料と、赤外線を検知する検
知器の間の赤外線の光路間に用いる透過材料及び反射材
料に関するものである。
従来の技術
従来の大気中の湿度から、赤外線透過材料を保護するた
めに、赤外線透過材料の周辺を加熱していた。従って、
絶えず電圧を加えておく必要があった。この電圧を切っ
た場合には、赤外線透過材料の表面が、湿度により溶解
して凹凸が発生し、赤外線の透過率を低下させていた。
めに、赤外線透過材料の周辺を加熱していた。従って、
絶えず電圧を加えておく必要があった。この電圧を切っ
た場合には、赤外線透過材料の表面が、湿度により溶解
して凹凸が発生し、赤外線の透過率を低下させていた。
また、塵や汚れから、赤外線透過材料を保護する為に、
金属ケースなどで覆っている場合が多かった。
金属ケースなどで覆っている場合が多かった。
発明が解決しようとする課題
従来の赤外線透過又は反射材料としては、ＫＢｒ、Ｎａ
Ｃ１など（以下、赤外透過材料とする。）が、使用され
ているが、これらの赤外線透過材料は、吸湿性が大きい
ため、大気中などの湿度の高い状態で使用した場合には
、表面が溶解して、赤外線の透過率が減少する。
Ｃ１など（以下、赤外透過材料とする。）が、使用され
ているが、これらの赤外線透過材料は、吸湿性が大きい
ため、大気中などの湿度の高い状態で使用した場合には
、表面が溶解して、赤外線の透過率が減少する。
また、これらの材料は、柔らかいため、硬い塵などと接
触した場合に、傷がつき易く、汚れなどが付着した場合
にも、汚れの除去が困難であった。
触した場合に、傷がつき易く、汚れなどが付着した場合
にも、汚れの除去が困難であった。
更に、調理物から発生する、赤外線を検知する場合には
、調理物からの水蒸気、汚れなどにより透過率が大きく
減少するなど使用しにくい材料であった。
、調理物からの水蒸気、汚れなどにより透過率が大きく
減少するなど使用しにくい材料であった。
課題を解決するための手段
本発明は、上記課題を解決する為に、赤外透過材料の表
面に真空蒸着又は、スパッタリングによりシリコン、Ｋ
Ｈ２−５（シュウ化タリウムとヨウ化タリウムの混合物
）、Ｇｅ、サファイヤ、ＡｇＣｌ、Ｃａ Ｆｚの１種類
以上の表面処理層を形成したものである。
面に真空蒸着又は、スパッタリングによりシリコン、Ｋ
Ｈ２−５（シュウ化タリウムとヨウ化タリウムの混合物
）、Ｇｅ、サファイヤ、ＡｇＣｌ、Ｃａ Ｆｚの１種類
以上の表面処理層を形成したものである。
作用
赤外線透過材料に、表面形成層を形成することにより、
湿度及び塵や汚れなどの付着物から、赤外線透過材料を
保護することが出来る。
湿度及び塵や汚れなどの付着物から、赤外線透過材料を
保護することが出来る。
実施例
以下、本発明の一実施例について説明する。
〈実施例１〉
厚さ５ｍｎ＋のＮａＣ１結晶の赤外線透過材料に、赤外
線の透過損失約５０％、厚さ約２１ｎ１１１のシリコン
の単結晶板を、ターゲットとして、スパッタ装置により
スパッタリングして片面に約２μｍの表面層を形成した
。この表面層を形成した材料の赤外線透過率は、僅かに
減少したが、耐湿度性は、はるかに向上した。
線の透過損失約５０％、厚さ約２１ｎ１１１のシリコン
の単結晶板を、ターゲットとして、スパッタ装置により
スパッタリングして片面に約２μｍの表面層を形成した
。この表面層を形成した材料の赤外線透過率は、僅かに
減少したが、耐湿度性は、はるかに向上した。
更に、表面に素材のＮａＣ１より硬いシリコンで保護さ
れているため、塵などのほこりが表面に、付着した場合
にも表面を軽くこすったり洗浄することにより除去でき
るようになった。
れているため、塵などのほこりが表面に、付着した場合
にも表面を軽くこすったり洗浄することにより除去でき
るようになった。
〈実施例２〉
厚さ約３ｍｍのＫＢｒ結晶の赤外透過線材料に、赤外線
の透過損失約５４％の厚さ約２ｍｍのＧｅの単結晶板を
、ターゲットとして、スパッタ装置によりスパッタリン
グして片面に約１μｍの表面層を形成した。この表面層
を形成した材料は、実施例１と同様の結果であった。
の透過損失約５４％の厚さ約２ｍｍのＧｅの単結晶板を
、ターゲットとして、スパッタ装置によりスパッタリン
グして片面に約１μｍの表面層を形成した。この表面層
を形成した材料は、実施例１と同様の結果であった。
発明の効果
以上、説明したように本発明は
■ 従来の赤外線透過材料のように、大気中の湿度の影
響を懸念する必要がないために、赤外線透過材料を加熱
保護する必要がない。
響を懸念する必要がないために、赤外線透過材料を加熱
保護する必要がない。
■ 塵や汚れなどの付着した場合にも、簡単に表面を軽
くこすって除去するか、洗浄することができる。
くこすって除去するか、洗浄することができる。
■ 赤外線透過材料の表面に形成した層は、赤外線の透
過率の減少、表面の保護状態などの必要に応じ膜厚を任
意に選定することができる。
過率の減少、表面の保護状態などの必要に応じ膜厚を任
意に選定することができる。
Claims (2)
- （１）シリコン、ＺｎＳｃ、ＫＲＳ−５、Ｇｅ、サファ
イヤ、ＡｇＣｌ、ＣａＦ＿２群より選択された少なくと
も１種類の材料で表面層を被覆した赤外線透過材料。 - （２）被覆材料を真空蒸着又はスパッタリング法で形成
した赤外線透過材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254076A JPH02100001A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 赤外線透過材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254076A JPH02100001A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 赤外線透過材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02100001A true JPH02100001A (ja) | 1990-04-12 |
Family
ID=17259888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63254076A Pending JPH02100001A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 赤外線透過材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02100001A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60125801A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 赤外透過材用反射防止膜 |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP63254076A patent/JPH02100001A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60125801A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 赤外透過材用反射防止膜 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE513245C2 (sv) | Belagt substrat och sätt för dess bildning | |
| US2383469A (en) | Method of cleaning and coating glass, plastics, and other surfaces | |
| US2964427A (en) | Ultra-violet filter | |
| JPH04124601A (ja) | 偏光板 | |
| CA1265000A (en) | Process for preparing thin film having high light transmittance | |
| JPH02100001A (ja) | 赤外線透過材料の製造方法 | |
| JPS585855B2 (ja) | 半反射ガラス | |
| JPS6341855A (ja) | フオトマスクのドライ洗浄方法 | |
| CN108193171B (zh) | 多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法 | |
| JP2023533317A (ja) | 基材用のエネルギー的に結合したアルミニウムおよび撥油性／撥水性コーティング | |
| JPH06289227A (ja) | 液晶表示画面用偏光フイルム | |
| JPS60134486A (ja) | 光電変換装置 | |
| JPH0337142A (ja) | リン酸系ガラス保護装置 | |
| JPH03142929A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPS6172201A (ja) | 保護研摩面を有する赤外透過素子 | |
| JP4018420B2 (ja) | 防曇性反射防止膜およびこれを用いた光学部材ならびに防曇性反射防止膜形成方法 | |
| JPS6192022A (ja) | 表面波フイルタ | |
| JPH025687A (ja) | イメージセンサ用前面ガラス | |
| JPS55115042A (en) | Glass mask protection method | |
| JPS54156650A (en) | High durability mirror | |
| JPS6134121B2 (ja) | ||
| JPS6237389B2 (ja) | ||
| JPH06102412A (ja) | 広域ｎｄフィルター | |
| JPH115274A (ja) | 積層体 | |
| JPS6012951B2 (ja) | プロツテイング・フイルム |