JPH0198908A - ウェハの回転方向位置ずれ検出方法 - Google Patents
ウェハの回転方向位置ずれ検出方法Info
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- JPH0198908A JPH0198908A JP62256869A JP25686987A JPH0198908A JP H0198908 A JPH0198908 A JP H0198908A JP 62256869 A JP62256869 A JP 62256869A JP 25686987 A JP25686987 A JP 25686987A JP H0198908 A JPH0198908 A JP H0198908A
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- Japan
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- wafer
- stage
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- diffraction gratings
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
通常光やＸ線等をマスクを介してウェハに照射してウェ
ハにパターンを形成するに際し、マスクとウェハとの相
対位置を正しく決定するべくウェハの回転方向位置ずれ
を検出する方法に関し、ウェハの回転方向位置ずれを容
易に、かつ、高精痕に検出することを目的とし、 表面に１列に回折格子を設けられたウェハをステージ上
に載置し、該ウェハ上に光を照射することによってその
受光信号レベルから上記回折格子の列方向上所定路１１
ｉｆｉれた異なる２点を上記ステージの座標（Ｘ＋ 、
Ｘ２ ）で求め、ウェハの上記ステージに対する回転方
向位置ずれθを〔産業上の利用分野〕 本発明は、通常光やＸ線等をマスクを介してウェハに照
射してウェハにパターンを形成するに際し、マスクとウ
ェハとの相対位置を正しく決定するべくウェハの回転方
向位置ずれを検出する方法に関する。
ハにパターンを形成するに際し、マスクとウェハとの相
対位置を正しく決定するべくウェハの回転方向位置ずれ
を検出する方法に関し、ウェハの回転方向位置ずれを容
易に、かつ、高精痕に検出することを目的とし、 表面に１列に回折格子を設けられたウェハをステージ上
に載置し、該ウェハ上に光を照射することによってその
受光信号レベルから上記回折格子の列方向上所定路１１
ｉｆｉれた異なる２点を上記ステージの座標（Ｘ＋ 、
Ｘ２ ）で求め、ウェハの上記ステージに対する回転方
向位置ずれθを〔産業上の利用分野〕 本発明は、通常光やＸ線等をマスクを介してウェハに照
射してウェハにパターンを形成するに際し、マスクとウ
ェハとの相対位置を正しく決定するべくウェハの回転方
向位置ずれを検出する方法に関する。
ウェハに所定のパターンを正しい形状で形成するには、
マスクとウェハとの相対位置（Ｘ軸上、Ｙ軸上、回転方
向上）が正しく決定されていることが重要である。特に
、ステージ上に載置したウェハをマスクの下でステップ
的に変位させて同じマスクパターンをウェハの所定部分
に形成せしめるステッパを用いた場合、ウェハ座標、マ
スク座標、ステージ座標の３系統の座標を合わせなけれ
ばならず、ステージ上に載置したウェハとマスクとの相
対位置が正しく合っているか否かはでき上るパターンの
良否に直接関係する。上記相対位置の中でも回転方向ず
れは特に検出が困難であり、これを容易に、かつ、高精
度に検出することが必要である。
マスクとウェハとの相対位置（Ｘ軸上、Ｙ軸上、回転方
向上）が正しく決定されていることが重要である。特に
、ステージ上に載置したウェハをマスクの下でステップ
的に変位させて同じマスクパターンをウェハの所定部分
に形成せしめるステッパを用いた場合、ウェハ座標、マ
スク座標、ステージ座標の３系統の座標を合わせなけれ
ばならず、ステージ上に載置したウェハとマスクとの相
対位置が正しく合っているか否かはでき上るパターンの
良否に直接関係する。上記相対位置の中でも回転方向ず
れは特に検出が困難であり、これを容易に、かつ、高精
度に検出することが必要である。
一般に、ウェハをステージ上に載置するには例えばロボ
ットのような機械的機構による載置手段にて行なってお
り、この載置手段によってウェハはウェハ座標とステー
ジ座標との相対位置関係が大体正しくステージ上に載置
される。ところがウェハ搭載装置の構造上のばらつき等
によってウェハ座標とステージ座標とは正しく一致しな
いこともあり、このような場合、Ｘ軸上、Ｙ軸上のずれ
を夫々検出してこのずれ量に応じて載置手段を調整する
ことが行なわれている。
ットのような機械的機構による載置手段にて行なってお
り、この載置手段によってウェハはウェハ座標とステー
ジ座標との相対位置関係が大体正しくステージ上に載置
される。ところがウェハ搭載装置の構造上のばらつき等
によってウェハ座標とステージ座標とは正しく一致しな
いこともあり、このような場合、Ｘ軸上、Ｙ軸上のずれ
を夫々検出してこのずれ量に応じて載置手段を調整する
ことが行なわれている。
前述のウェハ座標とステージ座標との位置ずれの中でＸ
軸上及びＹ軸上のずれは比較的容易に検出できるが、回
転方向上のずれ（θずれ）は検出が困難であり、このた
め、従来のものはこの分だけ正しいパターンを得ること
ができない問題点があった。
軸上及びＹ軸上のずれは比較的容易に検出できるが、回
転方向上のずれ（θずれ）は検出が困難であり、このた
め、従来のものはこの分だけ正しいパターンを得ること
ができない問題点があった。
本発明はウェハの回転方向位置ずれを容易に、かつ、高
精度に検出できる検出方法を提供することを目的とする
。
精度に検出できる検出方法を提供することを目的とする
。
上記問題点は、表面に１列以上の回折格子を設けられた
ウェハをステージ上に載置して、該ウェハ上に光を照射
することにより、その受光信号レベルから上記回折格子
の列方向上所定距離離れた異なる２点を上記ステージの
座標で求め、ウェハの上記ステージに対する回転方向位
置ずれθをθ＝ ｌ ｘ２ Ｘ ＋ ｌ （ｒ
ａ ｄ）！ 又１よ’θ＝ｔａｎ−’（ｘ−Ｘ） 之 で求めることを特徴とするウェハの回転方向位置ずれ検
出方法によって解決される。
ウェハをステージ上に載置して、該ウェハ上に光を照射
することにより、その受光信号レベルから上記回折格子
の列方向上所定距離離れた異なる２点を上記ステージの
座標で求め、ウェハの上記ステージに対する回転方向位
置ずれθをθ＝ ｌ ｘ２ Ｘ ＋ ｌ （ｒ
ａ ｄ）！ 又１よ’θ＝ｔａｎ−’（ｘ−Ｘ） 之 で求めることを特徴とするウェハの回転方向位置ずれ検
出方法によって解決される。
回折格子の列方向と直角方向にステージをスキャンさせ
る動作を、回折格子の列方向上所定距離（２）離れた異
なる２点で行なう。受光信号レベルから該２点をステー
ジの座標（Ｘ＋ 、Ｘ２ ）で求め、ウェハのステージ
に対する回転方向位置ずれ（θ）を θ−□ ” （ｒａｄ） 又は、θ＝ ｊａｎ−’ （Ｘ２” ）で求める
。距Ｍ２を長くとる程、θの検出精度は高くなることは
明らかであり、高精度に回転方向位置ずれを検出でき、
しかも、その方法は容易である。
る動作を、回折格子の列方向上所定距離（２）離れた異
なる２点で行なう。受光信号レベルから該２点をステー
ジの座標（Ｘ＋ 、Ｘ２ ）で求め、ウェハのステージ
に対する回転方向位置ずれ（θ）を θ−□ ” （ｒａｄ） 又は、θ＝ ｊａｎ−’ （Ｘ２” ）で求める
。距Ｍ２を長くとる程、θの検出精度は高くなることは
明らかであり、高精度に回転方向位置ずれを検出でき、
しかも、その方法は容易である。
第１図は本発明方法の一実施例を説明する構成図を示す
。同図中、１はウェハで、例えば４等分した線上（４個
所）に例えば直方体のような形状をした回折格子１ａ（
幅は例えば１０μｍ）が−列に多数設けられており、ス
テージ２上に前述の載置手段７によって載置されている
。回折格子１ａは１個所でもよい。３はレーザ光源、４
はミラー、５はフォトダイオード等の受光部で、レーザ
光源３からのレーザ光（径は約１００μｍ）はミラー４
にて反射されてウェハ１に照射され、ここから反射され
たレーザ光がミラー４にて反射されて受光部５に至るよ
うに設けられている。６は測定及び演算装置で、受光部
５から取出された信号レベルから回折格子１ａのステー
ジ２の例えばＸ軸上の位置を検出し、ウェハ載置の際に
必要な補正量を演算してウェハ載置手段７に供給する。
。同図中、１はウェハで、例えば４等分した線上（４個
所）に例えば直方体のような形状をした回折格子１ａ（
幅は例えば１０μｍ）が−列に多数設けられており、ス
テージ２上に前述の載置手段７によって載置されている
。回折格子１ａは１個所でもよい。３はレーザ光源、４
はミラー、５はフォトダイオード等の受光部で、レーザ
光源３からのレーザ光（径は約１００μｍ）はミラー４
にて反射されてウェハ１に照射され、ここから反射され
たレーザ光がミラー４にて反射されて受光部５に至るよ
うに設けられている。６は測定及び演算装置で、受光部
５から取出された信号レベルから回折格子１ａのステー
ジ２の例えばＸ軸上の位置を検出し、ウェハ載置の際に
必要な補正量を演算してウェハ載置手段７に供給する。
ここで、レーザ光源３からレーザ光を発射してウェハ１
上に照射し、ステージ２を回折格子１ａの列とは直角方
向（矢印Ａ）にスキャンする。ステージ２のスキャンに
より、受光部５では第２図に示すような信号レベルを得
ることができる。この場合、回折格子１ａにレーザ光が
照射された時はその他の部分にレーザ光が照射された時
に比して信号レベルが極端に高くなる。
上に照射し、ステージ２を回折格子１ａの列とは直角方
向（矢印Ａ）にスキャンする。ステージ２のスキャンに
より、受光部５では第２図に示すような信号レベルを得
ることができる。この場合、回折格子１ａにレーザ光が
照射された時はその他の部分にレーザ光が照射された時
に比して信号レベルが極端に高くなる。
いま、第３図に示す如く、ウェハ座標がステージ座標に
対してθずれて載置されている場合、θの求め方につい
て説明する。ステージ２のＸ軸上のスキャンによって回
折格子１ａの点Ｐ１にレーザ光を照射し、この点Ｐ１に
対するステージ座標を測定及び演算装置６で×１として
得る。次に、ステージ２をＹ軸上に距＋ｍｅだけ変位さ
せ、距離２を測定及び演算装置６に記憶させる。ここで
、前記の場合と同様に、ステージ２のＸ軸上のスキャン
によって回折格子１ａの点Ｐ２にレーザ光を照射し、こ
の点Ｐ２に対するステージ座標を測定及び演算装置６で
×２として得る。
対してθずれて載置されている場合、θの求め方につい
て説明する。ステージ２のＸ軸上のスキャンによって回
折格子１ａの点Ｐ１にレーザ光を照射し、この点Ｐ１に
対するステージ座標を測定及び演算装置６で×１として
得る。次に、ステージ２をＹ軸上に距＋ｍｅだけ変位さ
せ、距離２を測定及び演算装置６に記憶させる。ここで
、前記の場合と同様に、ステージ２のＸ軸上のスキャン
によって回折格子１ａの点Ｐ２にレーザ光を照射し、こ
の点Ｐ２に対するステージ座標を測定及び演算装置６で
×２として得る。
このようにしてステージ座標ｘ、、ｘ２が求められ、こ
れらと距離計とを用いて測定及び演算装置６にて θ（回転方向位置ずれ）が求められる。つまり、θが小
さいと仮定すると、 なる式にてθが求められる。θはウェハ載置手段７に供
給され、ここでウェハ載置手段はこのθに応じて実際に
パターンを形成するウェハをウェハ座標とステージ座標
とが一致するようにステージ２に載置するべく調整され
る。
れらと距離計とを用いて測定及び演算装置６にて θ（回転方向位置ずれ）が求められる。つまり、θが小
さいと仮定すると、 なる式にてθが求められる。θはウェハ載置手段７に供
給され、ここでウェハ載置手段はこのθに応じて実際に
パターンを形成するウェハをウェハ座標とステージ座標
とが一致するようにステージ２に載置するべく調整され
る。
θの検出精度は、回折格子１ａの幅やレーザ光の径等に
依るが、之を長くとる程検出精度を高くし得ることは明
らかである。例えば、Ｉ！−＝ ２ ｃｍで１Ｘ２Ｘ１
１が１０μｍ精度で決定できれば、θは０．５（ｍｒａ
ｄ）の精度で求められる。
依るが、之を長くとる程検出精度を高くし得ることは明
らかである。例えば、Ｉ！−＝ ２ ｃｍで１Ｘ２Ｘ１
１が１０μｍ精度で決定できれば、θは０．５（ｍｒａ
ｄ）の精度で求められる。
以上説明した如く、本発明によれば、ウェハのステージ
に対する回転方向位置ずれを高精度に、しかも、容易に
検出でき、これにより、ウェハ上にマスクに対応したパ
ターンを高精度に形成することができる。
に対する回転方向位置ずれを高精度に、しかも、容易に
検出でき、これにより、ウェハ上にマスクに対応したパ
ターンを高精度に形成することができる。
第１図は本発明方法を説明する構成図、第２図は受光部
の信号レベル特性図、 第３図はθの求め方を示す図である。 図において、 １はウェハ、 １ａは回折格子、 ２はステージ ３はレーザ光源、 ４はミラー、 ５は受光部、 ６は測定及び演算装置、 ７はウェハ載置手段 を示す。 第１図 ↑１ θのボ、！ｌ＞方しホオ図 第３図
の信号レベル特性図、 第３図はθの求め方を示す図である。 図において、 １はウェハ、 １ａは回折格子、 ２はステージ ３はレーザ光源、 ４はミラー、 ５は受光部、 ６は測定及び演算装置、 ７はウェハ載置手段 を示す。 第１図 ↑１ θのボ、！ｌ＞方しホオ図 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 表面に１列以上の回折格子（１ａ）を設けられたウェ
ハ（１）をステージ（２）上に載置し、該ウェハ（１）
上に光を照射することによつてその受光信号レベルから
上記回折格子（１ａ）の列方向上所定距離（ｌ）離れた
異なる２点を上記ステージ（２）の座標（Ｘ＿１、Ｘ＿
２）で求め、ウェハの上記ステージ（２）に対する回転
方向位置ずれ（θ）を ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、▲数式、化学式、表等があります▼ で求めることを特徴とするウェハの回転方向位置ずれ検
出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62256869A JPH0198908A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | ウェハの回転方向位置ずれ検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62256869A JPH0198908A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | ウェハの回転方向位置ずれ検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198908A true JPH0198908A (ja) | 1989-04-17 |
Family
ID=17298547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62256869A Pending JPH0198908A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | ウェハの回転方向位置ずれ検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0198908A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9354047B2 (en) | 2011-12-02 | 2016-05-31 | Kobe Steel, Ltd. | Rotational misalignment measuring device of bonded substrate, rotational misalignment measuring method of bonded substrate, and method of manufacturing bonded substrate |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP62256869A patent/JPH0198908A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9354047B2 (en) | 2011-12-02 | 2016-05-31 | Kobe Steel, Ltd. | Rotational misalignment measuring device of bonded substrate, rotational misalignment measuring method of bonded substrate, and method of manufacturing bonded substrate |
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