JPH0193182A - 熱起電力素子 - Google Patents

熱起電力素子

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JPH0193182A
JPH0193182A JP62251351A JP25135187A JPH0193182A JP H0193182 A JPH0193182 A JP H0193182A JP 62251351 A JP62251351 A JP 62251351A JP 25135187 A JP25135187 A JP 25135187A JP H0193182 A JPH0193182 A JP H0193182A
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JP
Japan
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plate
type
members
type ceramic
thermoelectromotive force
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Pending
Application number
JP62251351A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Kumada
明 久万田
Norimitsu Kito
鬼頭 範光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Priority to US07/253,718 priority patent/US5055140A/en
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/81Structural details of the junction
    • H10N10/817Structural details of the junction the junction being non-separable, e.g. being cemented, sintered or soldered

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  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、セラミック半導体を用いた熱起電力素子に
関するもので、特に、全体として取出される熱起電力の
増大を図るため、n型セラミック半導体とp型セラミッ
ク半導体とを電気的に直列接続した、熱起電力素子に関
するものである。
[従来の技術] 各種の物質が熱雷能を持つことは広く知られている。ま
た、この熱雷能によって発生する起電力を利用するもの
として、熱雷対や熱発電素子等があり、これらは、既に
広く実用化されている。なお、このような実用に足りる
特性値を持つ物質としては、金属・金属間化合物、半金
属化合物、半導体がある。
上述した物質の中で、半導体は、他の物質に比べて、熱
電能が大きく、さらに半導体内の多数キャリアの極性に
応じて、正または負の起電力を持っている。すなわち、
n型キャリアの場合は高温側が正となり、p型キャリア
の場合は高温側が負となる。このようなn型とp型の半
導体を接合し、接合部を温度接点とすることにより、全
体として取出される熱起電力を増大させ得ることは、公
知の手段である。たとえば、鉄ケイ素化合物に鉄および
ケイ素の酸化物を混入して半導体化して、pn接合を形
成する場合には、原料粉末を混合、加圧成形した後に焼
結を行ない、pn接合を得る。また、シリコン基板に半
導体プロセスを用いてpn接合を形成する場合には、イ
オン打込みやCVD等の技術によりpn接合を形成して
いる。
[発明が解決しようとする問題点コ 一方、同じ半導体の範鴎に入るものであっても、セラミ
ック半導体の場合は、p型セラミック半導体とn型セラ
ミック半導体との接合の形成は、前述したようなセラミ
ック以外の半導体のように容品には行なえない場合が多
い。
すなわち、金属酸化物セラミックの金属原子を過剰また
は不足状態として半導体化させたセラミック半導体の場
合は、pn接合部にもとの金属酸化物層が形成され、し
たがって素子抵抗が極めて増大し、実用となる素子が得
られない場合が多い。
また、原子価制御により半導体化させたセラミック半導
体においても、添加物の拡散により、pn接合が十分に
形成されない場合がある。
以上は、セラミック半導体の焼成時にpn接合を形成す
る場合について述べたものであるが、焼成後のセラミッ
ク半導体を後で電気的に接続して、このような接続部を
介してpn接合を実現する方法もある。しかしながら、
焼成後のセラミック半導体は、直接、半田付けを行なう
ことができず、適当な手段によりメタライズした後に半
田付けをする必要があった。たとえば、特開昭54−1
14090号公報に開示される技術では、第6図に示す
ように、還元性酸化チタンからなる複数個のセラミック
半導体1〜4の多段直列接続による出力の増大を図るた
め、各セラミック半導体1〜4に、蒸着、厚膜印刷等の
方法でオーミック性の電極5〜12をそれぞれ形成し、
導線13〜17を用いて、各電極5〜12に順次半田付
けを行なうことにより、セラミック半導体1〜4の直列
接続を行なっていた。したがって、この従来技術では、
各セラミック半導体1〜4間の電気的接続が煩雑になる
とともに、素子としてのコンパクト性に欠けるという問
題点があった。
そこで、この発明は、複数個のセラミック半導体の電気
的接続が容易に達成されるとともに、コンパクト化また
は小形化が容易な、熱起電力素子を提供しようとするも
のである。
[問題点を解決するための手段] この発明は、全体として取出される熱起電力の増大を図
るため、口型セラミック半導体とp型セラミック半導体
とを電気的に直列接続した、熱起電力素子に向けられる
ものであって、上述した問題点を解決するため、次のよ
うな構成を備えることが特徴である。
すなわち、前記n型およびp型セラミック半導体がそれ
ぞれ板状部材として構成され、かつ前記板状部材は、そ
の隣り合うものの相対向する少なくとも一方の面に厚膜
印刷およびその後の焼成により形成された絶縁層および
直列接続用導体層を介して積層化されていることを主成
分とする、ものである。
[発明の作用および効果] この発明によれば、n型およびp型セラミック半導体が
それぞれ板状部材として構成されるとともに、これら板
状部材が積層された構造をとるので、多数のn型および
p型セラミック半導体が組合わされたとしても、熱起電
力素子全体として、小形化またはコンパクト化を図るこ
とができる。
このように素子が小形化されたときには、また、熱容量
を小さくでき、素子に対して与えられる温度勾配をより
敏感に検知することができるようになる。
また、全体として取出される熱起電力の増大を図るため
のn型およびp型セラミック半導体の電気的な直列接続
は、積層された板状部材の隣り合うものの間で、絶縁層
により不所望な部分での接触を避けながら、導体層を介
して行なわれているため、導線を用いて半田付けすると
いった煩雑な接続作業は不要となる。
なお、好ましい実施例では、絶縁層および導体層の厚膜
印刷後であって焼成前に、板状部材は積層状態とされる
。そして、絶縁層および導体層の焼成によって、板状部
材の積層状態が固定される。
このような構成を採用することにより、絶縁層および導
体層は、本来の電気的機能の他に、積層化された板状部
材相互を固定するための接合材としても機能させること
ができる。
また、好ましくは、n型セラミック半導体はBa−Ti
系酸化物を主成分とするものが用いられ、p型セラミッ
ク半導体はN1−Mn−Cu系酸化物を主成分とするも
のが用いられる。
さらに、導体層はオーミック接合電極を構成することが
なお好ましい。このようなオーミック接合電極とされる
と、pn接合が当該オーミック接合電極を介して行なわ
れるため、pn接合による整流特性が現われず、したが
って、素子に加わる温度勾配の向きに制限がなくなる。
[実施例コ 第1図は、この発明の一実施例の熱起電力素子20の外
観を示す斜視図である。第1図では詳細に図示されてい
ないが、この熱起電力素子20は、外部端子21および
22間において取出される全体としての熱起電力の増大
を図るため、n−型セラミック半導体とp型セラミック
半導体とを多段直列接続した構造を有している。第1図
に示した熱起電力素子20の構造を明らかにするため、
以下に、第2図ないし第5図を参照して、その製造方法
について説明する。
まず、第2図に示すように、n型およびp型セラミック
半導体は、それぞれ、板状部材23として用意される。
この段階では、板状部材23を構成するセラミック半導
体は既に焼成を終えている。
次に、第3図に示すように、板状部材23の一方面であ
って、長手方向の一方端に偏った位置に、導体層24が
厚膜印刷により形成される。
次に、第4図に示すように、板状部材23の導体層24
が形成された面において、導体層24が形成された領域
を除いたほぼ全領域に、絶縁層25が、厚膜印刷により
形成される。
なお、導体層24と絶縁層25との形成順序は逆であっ
てもよい。
次に、第4図のようにして得られた板状部材23は、第
5図に示す位置関係をもって積層される。
第5図において、p型セラミック半導体からなる板状部
材はr23pJで表わされ、n型セラミック半導体で構
成される板状部材はr23nJで表わされている。p型
の板状部材23pとn型の板状部材23nとは、交互に
積層されている。そして、p型の板状部材23pにおけ
る導体層24の位置と、n型の板状部材23nにおける
導体層24の位置とは、板状部材23pおよび23nの
長手方向における互いに逆の端部に位置するようにされ
ている。
複数個の板状部材23pおよび23nが積層されてから
、厚膜印刷により形成された導体層24および絶縁層2
5の焼成が実施される。これによって、複数個の板状部
材23pおよび23nの積層状態が機械的に固定される
このようにして積層され一体化されたとき、第1図に示
すような熱起電力素子20が得られる。
この熱起電力素子20において、複数個の板状部材23
pおよび23nは、それぞれの長手方向を通して、導体
層24によって直列接続される。
このように直列接続された板状部材23pまたは23n
の両端部に位置するものからは、第1図に示すように、
外部端子21および22がそれぞれ取出される。第1図
において、一方の外部端子21は、たとえば第5図との
関連で説明すると、第5図の左端にある板状部材23p
に形成された導体層24に直接接続される。他方、もう
一方の外部端子22については、これが接続される導体
層26を、この端部に位置する板状部材が第5図の板状
部材23pであれば、当該板状部材23pにおける導体
層24が形成された面と逆の面であって、導体層24が
形成された位置とは板状部材23pの長平方向の逆の端
部に形成すればよい。
また、この端部に位置する板状部材が第5図の板状部材
23nであれば、この板状部材23nに形成された導体
層24を逆の面にまで引き出して、ここを導体層26と
すればよい。あるいは、端部に位置する板状部材が板状
部材23nである場合には、第1図に示した導体層26
を、長平方向の逆の端部に形成してもよい。
次に、この発明を、より具体化した実験例に基づいて説
明する。
まず、n型セラミック半導体にはBa TI O3にサ
マリウムを添加した正特性サーミスタ材料を用いた。ま
た、n型セラミック半導体にはNiMn204にCuO
を添加したものを用いた。これらの材料で構成されたと
き、n型セラミック半導体の熱電能は、20℃で、73
0μV/にであり、n型セラミック半導体では、20℃
で、−160μV/にであった。これらn型およびn型
セラミック半導体からなる板状部材の片面に、導体層と
してオーミック銀ペーストを、絶縁層としてガラスフリ
ットペーストを、それぞれスクリーン印刷法で印刷した
。これら印刷ペーストの乾燥後、各板状部材を、n型と
p型とが交互にかつ電気的に直列に接続されるように積
層した。そして、ホットプレートにて加温しながら圧着
して、積層体を得た。その後、積層体を、800℃に設
定されたトンネル炉にて焼成し、焼結された積層体を得
た。
なお、積層枚数は10枚であった。
この試料に、20℃の雰囲気中で、5℃の温度差を両端
に与えたところ、8.4 mV/にの熱起電力が得られ
た。
なお、上述した実施例の説明では、製造途中において、
板状部材の一方面に絶縁層および導体層が共に形成され
ていたが、導体層が形成される面と絶縁層が形成される
面とを互いに逆にして、結果として相隣り合う板状部材
の間に絶縁層および導体層が介在するようにしてもよい
。また、板状部材の両面に、導体層および絶縁層をそれ
ぞれ形成したものを用いてもよい。また、板状部材を積
層する前に、厚膜印刷により形成された絶縁層および導
体層を焼成して、積層状態の機械的な固定のための手段
として、別の材料または部材を用いてもよい。
なお、この発明に係る熱起電力素子においては、導体層
を介して直列接続が達成されるため、等価直列抵抗が増
大する傾向にあるが、これを、たとえば、熱流センサ、
赤外線センサ、等の検知素子として用いる場合には、こ
のような等価直列抵抗はそれほど問題ではなく、むしろ
、素子出力の増大により得られる感度向上が大きなメリ
ットとなるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係る熱起電力素子の外
観を示す斜視図である。第2図、第3図、第4図および
第5図は、第1図に示した熱起電力素子の製造方法を説
明するための図である。第6図は、従来の多段直列接続
構造を持つ熱起電力素子を図解的に示す斜視図である。 図において、20は熱起電力素子、21. 22は外部
端子、23.23p、23nは板状部材、24は導体層
、25は絶縁層である。 (ほか2名) 第11り 窩2図   第3■   あ40 第5(2)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)全体として取出される熱起電力の増大を図るため
    、n型セラミック半導体とp型セラミック半導体とを電
    気的に直列接続した、熱起電力素子において、 前記n型およびp型セラミック半導体がそれぞれ板状部
    材として構成され、かつ前記板状部材は、その隣り合う
    ものの相対向する少なくとも一方の面に厚膜印刷および
    その後の焼成により形成された絶縁層および直列接続用
    導体層を介して積層化されていることを特徴とする、熱
    起電力素子。
  2. (2)前記板状部材は、前記絶縁層および前記導体層の
    前記厚膜印刷後であって前記焼成前に、積層状態とされ
    る、特許請求の範囲第1項記載の熱起電力素子。
  3. (3)前記絶縁層および前記導体層の前記焼成によって
    、前記板状部材の積層状態が機械的に固定される、特許
    請求の範囲第2項記載の熱起電力素子。
  4. (4)前記n型セラミック半導体はBa−Ti系酸化物
    を主成分とし、前記p型セラミック半導体はNi−Mn
    −Cu系酸化物を主成分とする、特許請求の範囲第1項
    ないし第3項のいずれかに記載の熱起電力素子。
  5. (5)前記導体層はオーミック接合電極を構成する特許
    請求の範囲第1 項ないし第4項のいずれかに記載の熱
    起電力素子。
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