JPH0157118B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0157118B2
JPH0157118B2 JP59229938A JP22993884A JPH0157118B2 JP H0157118 B2 JPH0157118 B2 JP H0157118B2 JP 59229938 A JP59229938 A JP 59229938A JP 22993884 A JP22993884 A JP 22993884A JP H0157118 B2 JPH0157118 B2 JP H0157118B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
deoxy
fluorouridine
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP59229938A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61106593A (ja
Inventor
Setsuo Fujii
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP59229938A priority Critical patent/JPS61106593A/ja
Priority to DE8585113724T priority patent/DE3583726D1/de
Priority to DE3588103T priority patent/DE3588103T2/de
Priority to DE3588036T priority patent/DE3588036T2/de
Priority to EP85113723A priority patent/EP0180188B1/en
Priority to EP89102313A priority patent/EP0323441B1/en
Priority to EP85113724A priority patent/EP0180897B1/en
Priority to EP90124970A priority patent/EP0436902B1/en
Priority to DE8585113723T priority patent/DE3585869D1/de
Priority to DK198504967A priority patent/DK174238B1/da
Priority to DK198504965A priority patent/DK175432B1/da
Priority to KR1019850008045A priority patent/KR920006824B1/ko
Priority to ES549011A priority patent/ES8708141A1/es
Publication of JPS61106593A publication Critical patent/JPS61106593A/ja
Priority to US06/903,824 priority patent/US4864021A/en
Priority to ES557309A priority patent/ES8800213A1/es
Priority to ES557310A priority patent/ES8800209A1/es
Priority to ES557311A priority patent/ES8800210A1/es
Priority to US07/219,521 priority patent/US4983609A/en
Priority to US07/437,315 priority patent/US5155113A/en
Publication of JPH0157118B2 publication Critical patent/JPH0157118B2/ja
Priority to HK98102172A priority patent/HK1003112A1/xx
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は新規な2′―デオキシ―５―フルオロウ
リジン誘導体に関する。 従来の技術 本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明者等は2′―デオキシ―５―フルオロウリ
ジンの抗腫瘍強化向上及び低毒性化を企てるべく
鋭意検討を重ねた結果、該2′―デオキシ―５―フ
ルオロウリジンの3′位又は5′位を特定の、置換基
を有しもしくは有さないフエニル低級アルキル基
で置換した新規な化合物の合成に成功すると共
に、該化合物が上記目的に合致した優れた制癌作
用を発揮し、抗腫瘍剤としてきわめて有用である
ことを見い出した。 問題点を解決するための手段 本発明は、一般式 式中R1及びR2は一方がフエニル環上に低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、及びハロゲン原子
から選ばれる置換基を有することのあるベンジル
基又は置換基として低級アルキレンジオキシ基も
しくはフエニル基を有するベンジル基を示し、 他方が水素原子、低級アルカノイル基、フエニ
ル置換低級アルカノイル基、フエノキシ置換低級
アルカノイル基、ハロゲン置換低級アルカノイル
基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、低級
アルキル基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基
置換ベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、フエ
ノキシカルボニル基又は低級アルコキシカルボニ
ル基を示し、 R3は水素原子、低級アルカノイル基、ベンゾ
イル基、ナフチルカルボニル基、低級アルキル基
置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基置換ベンゾ
イル基、、ハロゲン置換ベンゾイル基、ピリジル
カルボニル基、フエノキシカルボニル基又はテト
ラヒドロフラニル基を示す。 但し、R1及びR2の一方が水素原子を示し、他
方が未置換ベンジル基を示すとき、R3は水素原
子又はベンゾイル基であつてはならない。 で表わされる2′―デオキシ―５―フルオロウリジ
ン誘導体に係る。 本発明誘導体を表わす上記一般式(1)中、R1，
R2及びR3で定義される各基は、具体的には、そ
れぞれ次の通りである。 ベンジル基の置換基としての低級アルキル基と
しては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ｔ―ブチル、ペンチル、ヘキ
シル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基を、低級アルコキシ基としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｔ―ブトキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基を、またハロゲン原子として
は、フツ素、塩素、臭素、沃素原子を夫々例示で
きる。以下、本明細書に用いる之等各基は、上記
と同様の意味を有するものとする。その具体例は
次に示す通りである。 ベンジル、２―メチルベンジル、３―メチルベ
ンジル、４―メチルベンジル、２―エチルベンジ
ル、３―エチルベンジル、４―エチルベンジル、
２―プロピルベンジル、３―プロピルベンジル、
４―プロピルベンジル、２―ブチルベンジル、３
―ブチルベンジル、４―ブチルベンジル、２―ｔ
―ブチルベンジル、３―ｔ―ブチルベンジル、４
―ｔ―ブチルベンジル、２―ペンチルベンジル、
３―ペンチルベンジル、４―ペンチルベンジル、
２―ヘキシルベンジル、３―ヘキシルベンジル、
４―ヘキシルベンジル、２，３―ジメチルベンジ
ル、２，４―ジメチルベンジル、２，５―ジメチ
ルベンジル、２，６―ジメチルベンジル、３，４
―ジメチルベンジル、３，５―ジメチルベンジ
ル、２，３，４―トリメチルベンジル、２，４，
５―トリメチルベンジル、２，３，５―トリメチ
ルベンジル、２，４，６―トリメチルベンジル、
３，４，５―トリメチルベンジル、２，３―ジエ
チルベンジル、２，４―ジエチルベンジル、２，
５―ジエチルベンジル、２，６―ジエチルベンジ
ル、２，４，６―トリエチルベンジル、２，４―
ジプロピルベンジル、３，４，５―トリエチルベ
ンジル、３―メチル―４―エチルベンジル、２―
メトキシベンジル、３―メトキシベンジル、４―
メトキシベンジル、２，３―ジメトキシベンジ
ル、２，４―ジメトキシベンジル、２，５―ジメ
トキシベンジル、３―メトキシ―４―エトキシベ
ンジル、２，６―ジメトキシベンジル、３，４―
ジメトキシベンジル、３，５―ジメトキシベンジ
ル、２，３，４―トリメトキシベンジル、２，
４，５―トリメトキシベンジル、２，３，５―ト
リメトキシベンジル、２，４，６―トリメトキシ
ベンジル、３，４，５―トリメトキシベンジル、
２―エトキシベンジル、４―プロポキシベンジ
ル、３―ブトキシベンジル、２―ｔ―ブトキシベ
ンジル、３―ペンチルオキシベンジル、４―ヘキ
シルオキシベンジル、２，３―ジエトキシベンジ
ル、２―フルオロベンジル、３―フルオロベンジ
ル、４―フルオロベンジル、２，３―ジフルオロ
ベンジル、２，４―ジフルオロベンジル、２，５
―ジフルオロベンジル、２―フルオロ―３―クロ
ロベンジル、２―フルオロ―３―ブロモベンジ
ル、２，６―ジフルオロベンジル、２，３，４―
トリフルオロベンジル、２，４，５―トリフルオ
ロベンジル、２，３，５―トリフルオロベンジ
ル、２，４，６―トリフルオロベンジル、３，
４，５―トリフルオロベンジル、２―ブロモベン
ジル、３―ブロモベンジル、４―ブロモベンジ
ル、２，３―ジブロモベンジル、２―ブロモ―３
―フルオロベンジル、２―フルオロ―４―ブロモ
ベンジル、２，４―ジブロモベンジル、２，５―
ジブロモベンジル、２，６―ジブロモベンジル、
２，３，４―トリブロモベンジル、２，４，５―
トリブロモベンジル、２，３，５―トリブロモベ
ンジル、２，４，６―トリブロモベンジル、３，
４，５―トリブロモベンジル、２―クロロベンジ
ル、３―クロロベンジル、４―クロロベンジル、
２，３―ジクロロベンジル、２，４―ジクロロベ
ンジル、２，５―ジクロロベンジル、２，６―ジ
クロロベンジル、２―ブロモ―４―クロロベンジ
ル、２―フルオロ―４―クロロベンジル、２，
３，４―トリクロロベンジル、２，４，５―トリ
クロロベンジル、２，３，５―トリクロロベンジ
ル、２，４，６―トリクロロベンジル、３，４，
５―トリクロロベンジル、２―ヨードベンジル、
３―ヨードベンジル、４―ヨードベンジル、３，
４―ジヨードベンジル、３，４，５―トリヨード
ベンジル基等。 置換基として低級アルキレンジオキシ基又はフ
エニル基を有するベンジル基としては、例えば
２，３―メチレンジオキシベンジル、３，４―メ
チレンジオキシベンジル、２，３―エチレンジオ
キシベンジル、３，４―エチレンジオキシベンジ
ル、３，４―トリメチレンジオキシベンジル、
３，４―テトラメチレンジオキシベンジル、２―
フエニルベンジル、３―フエニルベンジル、４―
フエニルベンジル基等の炭素数１〜４のアルキレ
ンジオキシ基又はフエニル基が置換したベンジル
基を例示できる。 低級アルカノイル基としては、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル、ペンタノイル、ヘキサノイル基等の、炭
素数１〜６の鎖状アルカノイル基を例示できる。 フエニル置換低級アルカノイル基としては、例
えば、α―フエニルアセチル、２―フエニルプロ
ピオニル、３―フエニルプロピオニル、４―フエ
ニルブチリル、５―フエニルペンタノイル、６―
フエニルヘキサノイル、α―（２―クロロフエニ
ル）アセチル、α―（４―メチルフエニル）アセ
チル、α―（３，４―ジメトキシフエニル）アセ
チル、α―（４―ニトロフエニル）アセチル、基
等の、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ニトロ基等を有することのあるフエニ
ル基が置換した炭素数１〜６の鎖状アルカノイル
基を例示できる。 フエノキシ置換低級アルカノイル基としては、
例えば、フエノキシアセチル、２―フエノキシプ
ロピオニル、３―フエノキシプロピオニル、４―
フエノキシブチリル、５―フエノキシペンタノイ
ル、６―フエノキシヘキサノイル、基等の、フエ
ノキシ基が置換した炭素数１〜６の鎖状アルカノ
イル基を例示できる。 ハロゲン置換低級アルカノイル基としては、例
えば、モノクロロアセチル、モノブロモアセチ
ル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、３
―クロロプロピオニル、４―クロロブチル、５―
クロロペンタノイル、６―クロロペンタノイル、
基等の、ハロゲン原子が置換した炭素数１〜６の
鎖状アルカノイル基を例示できる。 ナフチルカルボニル基としては、α―ナフチル
カルボニル基、β―ナフチルカルボニル基を例示
できる。 低級アルキル基置換ベンゾイル基としては、例
えば、２―メチルベンゾイル、３―メチルベンゾ
イル、４―メチルベンゾイル、２，４―ジメチル
ベンゾイル、３，４，５―トリメチルベンゾイ
ル、４―エチルベンゾイル基等の、炭素数１〜６
の直鎖又は分鎖状のアルキル基が置換したベンゾ
イル基を例示できる。 低級アルコキシ置換ベンゾイル基としては、例
えば、２―メトキシベンゾイル、３―メトキシベ
ンゾイル、４―メトキシベンゾイル、２，４―ジ
メトキシベンゾイル、３，４，５―トリメトキシ
ベンゾイル、４―エトキシベンゾイル、２―メト
キシ―４―エトキシベンゾイル、２―プロポキシ
ベンゾイル、３―プロポキシベンゾイル、４―プ
ロポキシベンゾイル、２，４―ジプロポキシベン
ゾイル、３，４，５―トリプロポキシベンゾイル
基等の、炭素数１〜６の直鎖又は分子鎖状のアル
コキシ基が置換したベンゾイル基を例示できる。 ハロゲン置換ベンゾイル基としては、例えば、
２―クロロベンゾイル、３―クロロベンゾイル、
４―クロロベンゾイル、２，３―ジクロロベンゾ
イル、２，４，６―トリクロロベンゾイル、２―
ブロモベンゾイル、４―フルオロベンゾイル基等
の、ハロゲン原子が置換したベンゾイル基を例示
できる。 ピリジルカルボニル基としては、例えば、２―
ピリジルカルボニル、３―ピリジルカルボニル、
４―ピリジルカルボニル基等を例示できる。 フエノキシカルボニル基としては、例えば、フ
エノキシカルボニル、２―メチルフエノキシカル
ボニル、３―メチルフエノキシカルボニル、４―
メチルフエノキシカルボニル、２，４―ジメチル
フエノキシカルボニル、３，４，５―トリメチル
フエノキシカルボニル、４―エチルフエノキシカ
ルボニル、２―メトキシフエノキシカルボニル、
３―メトキシフエノキシカルボニル、４―メトキ
シフエノキシカルボニル、２，４―ジメトキシフ
エノキシカルボニル、３，４，５―トリメトキシ
フエノキシカルボニル、４―エトキシフエノキシ
カルボニル、２―プロポキシフエノシキカルボニ
ル、３―プロポキシフエノキシカルボニル、４―
プロポキシフエノキシカルボニル、２，４―ジプ
ロポキシフエノキシカルボニル、３，４，５―ト
リプロポキシフエノキシカルボニル、２―クロロ
フエノキシカルボニル、３―クロロフエノキシカ
ルボニル、４―クロロフエノキシカルボニル、
２，３―ジクロロフエノキシカルボニル、２，
４，６―トリクロロフエノキシカルボニル、２―
ブロモフエノキシカルボニル、４―フルオロフエ
ノキシカルボニル、基等の、フエニル環上に低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等
を有することのあるフエノキシカルボニル基を例
示できる。 低級アルコキシカルボニル基としては、例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ｔ―ブトキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル、基等の、アルキル部分の炭素数が１
〜６である鎖状アルコキシカルボニル基を例示で
きる。 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物は、下
記反応工程式ａ〜ｄに示す方法により製造するこ
とができる。 ＜反応工程式 ａ＞ 〔式中R3は前記に同じ。R4及びR5は少なくと
も一方が、水素原子であり、他方は低級アルカノ
イル基、フエニル置換低級アルカノイル基、フエ
ノキシ置換低級アルカノイル基、ハロゲン置換低
級アルカノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカル
ボニル基、低級アルキル基置換ベンゾイル基、低
級アルコキシ基置換ベンゾイル基、ピリジルカル
ボニル基、フエノキシカルボニル基、低級アルコ
キシカルボニル基又は保護基を示す。Ｒはフエニ
ル環上に低級アルキル基、低級アルコキシ基及び
ハロゲン原子から選ばれる置換基を有することの
あるフエニル低級アルキル基又は置換基として低
級アルキレンジオキシ基又はフエニル基を有する
フエニル低級アルキル基を示す。R1a及びR2aの
一方は水素原子又は、低級アルカノイル基、フエ
ニル置換低級アルカノイル基、フエノキシ置換低
級アルカノイル基、ハロゲン置換低級アルカノイ
ル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、低
級アルキル基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ
基置換ベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、フ
エノキシカルボニル基又は低級アルコキシカルボ
ニル基であり、他方は上記Ｒと同一基を示す。Ｘ
はハロゲン原子を示す。〕 上記においてR4又はR5で示される保護基には、
下記の各基が包含される。 (A) 一般式 〔式中Arはアリール基を示す〕 で表わされるトリアリール置換メチル基。該基
としては、置換基としてハロゲン原子、ニトロ
基、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を有
することのあるフエニル基等のアリール基の３
個で置換されたメチル基を例示できる。 (B) 一般式 〔式中R′は低級アルキル基及びｎは２又は
３を示す〕 で表わされる環状エーテル残基。該基の例とし
ては、２―テトラヒドロフラニル基、３―テト
ラヒドロピラニル基等を例示できる。 (C) 低級アルコキシメチル基。該基としては、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ヘキシルオキ
シメチル基等を例示できる。 (D) トリ低級アルキルシリル基。該基としては、
トリメチルシリル、ｔ―ブチルジメチルシリル
基等を例示できる。 本反応は、一般式(2)の化合物（化合物(2)とい
う、以下同様とする）にフエニル低級アルキルハ
ライド（RX）を反応させて、該化合物(2)の3′位
又は5′位の水素原子を目的とするＲ基に置換さ
せ、次いで必要に応じて脱保護基反応又は脱アシ
ル化反応を行なつて、化合物(3)を得るものであ
る。 上記においてＲ基の導入反応は通常の脱ハロゲ
ン化水素反応の反応条件下に行なわれる。脱ハロ
ゲン化水素剤としては、この種の反応に通常用い
られている各種の塩基性化合物をいずれも使用で
きる。その具体例としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属や水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
カリ金属類等を挙げることができる。 上記反応は、無溶媒でもあるいは溶媒の存在下
でも行なうことができる。溶媒としては通常の不
活性溶媒をいずれも使用でき、例えば水、テトラ
ヒドロフラン（THF）、ジオキサン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル類等が有利に用いられ
る。 化合物(2)とフエニル低級アルキルハライド
（RX）との使用割合は、特に限定されず広い範
囲から適宜選択すればよいが、通常前者に対し後
者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル
量〜５倍モル量用いるのがよい。反応温度も特に
限定されず広い範囲から適宜選択されるが、一般
には０〜100℃、好ましくは室温〜80℃の範囲か
ら選択されるのがよく、通常５〜64時間程度で反
応は終了する。 上記反応によつて得られる化合物が、その3′位
又は5′位に保護基を有する場合は、引続き該保護
基の脱離反応を行なうことにより、目的とする化
合物(3)が得られる。この脱保護基反応は、通常の
酸加水分解反応に慣用される適当な触媒、例えば
塩酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、
プロピオン酸等の低級アルカン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、４―メチルベンゼンスルホン酸等の有
機スルホン酸等の有機酸の適当量を用いて、通常
溶媒中で実施される。溶媒としては、通常の不活
性溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチル
エーテル、THF、ジオキサン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン
等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の
低級アルカン酸等やこれらの混合溶媒を用いるこ
とができる。反応温度は、特に限定されず広い範
囲から適宜選択すればよいが、通常０〜100℃、
好ましくは室温〜80℃程度とすればよく、反応は
３分〜20時間程度で終了する。尚、使用される酸
としては通常触媒量〜過剰量程度、好ましくは過
剰量程度とするのがよい。 また上記反応工程式ａにおいて得られる化合物
(3)中３位、3′位及び5′位の少なくとも１つにアシ
ル基を有する化合物は、これを加水分解反応させ
ることにより、該アシル基のいずれか１つ又は全
部を水素原子に変換させ得る。この加水分解反応
は通常の酸又はアルカリ加水分解の条件下に行な
われる。この際使用される触媒としては、通常の
酸又はアルカリ加水分解反応に用いられるものが
いずれも使用できる。代表的なものとしては水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、、水酸化バリウ
ム等の塩基性化合物及び塩酸、硫酸、硝酸等の無
機酸を例示できる。之等触媒の使用量は特に限定
がなく広い範囲から適宜選択すればよい。本反応
は一般に溶媒中で有利に進行し、この際使用され
る溶媒としては、通常の不活性溶媒を広く使用で
きる。例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等の低級アルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類やこれらの混合
溶媒等を有利に用いることができる。反応温度も
特に限定されず広い範囲から適宜選択すればよい
が、通常０〜100℃、好ましくは室温〜80℃程度
で反応を行なうのがよい。本反応は30分〜10時間
程度で終了する。 ＜反応工程式 ｂ＞ （式中R1′及びR2′は一方が上記Ｒ基で、他方が
水素原子、低級アルカノイル基、フエニル置換低
級アルカノイル基、フエノキシ置換低級アルカノ
イル基、ハロゲン置換低級アルカノイル基、ベン
ゾイル基、ナフチルカルボニル基、低級アルキル
基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基置換ベン
ゾイル基、ピリジルカルボニル基、フエノキシカ
ルボニル基、低級アルコキシカルボニル基又は保
護基を示す。R3aは低級アルカノイル基、ベンゾ
イル基、ナフチルカルボニル基、低級アルキル基
置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基置換ベンゾ
イル基、ハロゲン置換ベンゾイル基、ピリジルカ
ルボニル基又はフエノキシカルボニル基を示す。） 本反応は、ピリミジン骨格の３位にアシル基を
導入する反応（アシル化反応）であり、通常の方
法例えば酸クロライド法にしたがつて実施でき
る。該酸クロライド法によれば化合物(4)にアシル
ハライド（R3aＸ）を、脱酸剤の存在下、適当な
溶媒中で作用させることにより、目的とする化合
物(5)が収得される。上記において脱酸剤としては
例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、ピリジン、トリエチルアミンなどを
使用できる。溶媒としては、例えばベンゼン、ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどが用いられる。ア
シルハライドの用量は、化合物(4)に対し少なくと
も等モル量程度、好ましくは等モル〜３モル程度
とするのがよい。反応温度は通常−30〜100℃、
好ましくは室温〜80℃程度であり、20分〜20時間
程度で反応は終了する。 尚上記反応において化合物(4)が、その3′位又は
5′位に遊離水酸基を有する場合は、これらの部位
も３位と同時にアシル化される。従つて之等化合
物の上記アシル化に当つては、予め3′位又は5′位
の水酸基を、保護しておき、アシル化後、保護基
の脱離を行なうのが好ましい。この保護基の導入
反応については後記する。また該保護基の脱離反
応は、前記反応工程式ａの項で説明した方法と同
様にして行ない得る。 ＜反応工程式 ｃ＞ 〔式中R1b及びR2bは、一方が水素原子、他方
が前記Ｒ基を示す。R1c及びR2cは一方が低級アル
カノイル基、フエニル置換低級アルカノイル基、
フエノキシ置換低級アルカノイル基、ハロゲン置
換低級アルカノイル基、ベンゾイル基、ナフチル
カルボニル基、低級アルキル基置換ベンゾイル
基、低級アルコキシ基置換ベンゾイル基、ピリジ
ルカルボニル基、フエノキシカルボニル基又は低
級アルコキシカルボニル基、他方が前記Ｒ基を示
す。R3は上記に同じ。〕 本反応によれば化合物(6)の3′位又は5′位遊離水
酸基をアシル化することにより、化合物(7)が得ら
れる。このアシル化反応には、通常のアシル化反
応方法、例えば酸クロライド法、酸無水物法、混
合酸無水物法、Ｎ，Ｎ―ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド法（DCC法）等のいずれをも適用する
ことができ、特に酸無水物法及び酸クロライド法
が有利に適用される。 酸無水物法は、化合物(6)を適当な溶媒中、酸無
水物と共に加熱することにより実施される。酸無
水物としては、3′位又は5′位に導入すべきアシル
基に対応する酸の無水物を使用する。その具体例
としては例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無
水酪酸、無水安息香酸等を例示できる。之等の酸
無水物は化合物(6)に対して少なくとも等モル量、
好ましくは１〜３倍モル量程度用いられるのがよ
い。溶媒としては各種の不活性溶媒、例えばピリ
ジン、クロロホルム、ジクロルメタン等のハロゲ
ン化炭化水素、ジオキサン、THF等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホ
キシド（DMSO）、アセトニトリル等を使用でき
る。反応温度は通常−30℃〜100℃程度、好まし
くは室温〜80℃程度とされ、約20分〜20時間で反
応は終了する。また上記反応は、塩基性化合物の
存在下に有利に行なわれる。該塩基性化合物とし
ては、例えばピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ―ジメチルアニリン等の第三級アミン類等の有
機塩基や、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、
酢酸ナトリウム等の無機塩基性化合物を例示でき
る。 酸クロライド法は、化合物(6)にアシルハライド
（R3aＸ）を、脱酸剤の存在下、適当な溶媒中で
作用させることにより実施される。該方法は前記
反応工程式ｂに示したそれと同様にして行ない得
る。 上記反応工程式ｂ及び反応工程式ｃにおいて、
試薬即ち無水物又は酸ハライドの使用量を原料に
対して少なくとも２倍モル量とする時には、3′位
又は5′位（Ｏ―アシル体）と３位（Ｎ―アシル
体）とが同時にアシル化された化合物が得られる
場合もあるが、このＯ―及びＮ―アシル体はＯ―
アシル体又はＮ―アシル体と容易に分離すること
ができる。 ＜反応工程式 ｄ＞ 〔式中R1及びR2は前記に同じ。Ａはトリ低級
アルキルシリル基及びＢは低級アルカノイル基を
示す。またR1″及びR2″は一方が前記Ｒ基で他方
が上記Ａ基又は、低級アルカノイル基、フエニル
置換低級アルカノイル基、フエノキシ置換低級ア
ルカノイル基、ハロゲン置換低級アルカノイル
基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、低級
アルキル基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基
置換ベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、フエ
ノキシカルボニル基又は低級アルコキシカルボニ
ル基を示す。〕 上記によれば、化合物(8)にビス―Ｎ，Ｏ―トリ
低級アルキルシリルアセトアミドを反応（トリア
ルキルシリル化反応）させて化合物(9)を得、次い
でこれに２―低級アルカノイルオキシテトラヒド
ロフランを反応（テトラヒドロフラニル化反応）
させることにより、化合物(10)を収得できる。 トリアルキルシリル化反応は、適当な不活性溶
媒、例えばジオキサン、THF等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
DMF、DMSO、アセトニトリル等の溶媒中、約
０〜100℃、好ましくは室温〜50℃の温度下に30
分〜６時間を要して行なわれる。上記においてビ
ス―Ｎ、Ｏ―トリ低級アルキルシリルアセトアミ
ドは、反応させるべき官能基１個に対して少なく
とも当量、好ましくは１〜２倍当量となる量で用
いられるのがよい。 上記に引き続くテトラヒドロフラニル化反応
は、上記と同様の溶媒中、約０〜100℃、好まし
くは室温〜50℃の温度下に30分〜６時間で行なわ
れる。２―低級アルカノイルオキシテトラヒドロ
フランの使用量は原料に対して少なくとも等モル
量、好ましくは１〜２倍モル量とするのがよい。
この反応はまた、反応系内に塩化第２錫
（SnCl4）、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイ
ス酸を通常原料に対して約0.1モル以上存在させ
ることにより有利に進行する。また該テトラヒド
ロフラニル化反応において、R1″又はR2″がトリ
低級アルキルシリル基である化合物を用いる場合
には、引き続き該トリ低級アルキルシリル基の脱
離反応を行なうことにより、目的とする化合物(10)
が収得される。この脱離反応は、反応工程式ａの
項で述べた脱保護基反応と同様にして実施され
る。 かくして本発明化合物を収得する。得られる化
合物は通常の分離手段例えば再沈澱、再結晶、シ
リカゲルクロマトグラフイー、イオン交換クロマ
トグラフイー、ゲルクロマトグラフイー、親和ク
ロマトグラフイー等により容易に単離精製され
る。 尚前記反応工程式ａ〜ｄにおいて用いる出発原
料化合物は、例えば下記反応工程式ｅ〜ｇに示す
方法により得られる。 ＜反応工程式 ｅ＞ 〔R6は低級アルカノイル基、フエニル置換低
級アルカノイル基、フエノキシ置換低級アルカノ
イル基、ハロゲン置換低級アルカノイル基、ベン
ゾイル基、ナフチルカルボニル基、低級アルキル
基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基置換ベン
ゾイル基、ピリジルカルボニル基、フエノキシカ
ルボニル基又は低級アルコキシカルボニル基及び
R7は保護基を示す〕 化合物(11)のアシル化反応は、前記反応工程式ｃ
に示す化合物(6)のアシル化反応と同様にしておこ
なわれる。より好ましくは、該アシル化反応は、
5′位に導入すべきアシル基に対応する酸無水物
を、化合物(11)に対して約１〜1.5倍モル量用い、
反応工程式ｃに示す酸無水物法と同様の不活性溶
媒中、−30℃〜80℃程度の温度条件下に約１〜６
時間を要して行なわれる。 上記反応により5′位がアシル化された化合物(12)
が主成分として得られ、副成分として3′位がアシ
ル化された化合物も得られる。 上記により得られる化合物(12)は、次いでその
3′位水酸基の保護反応に供される。この保護反応
は反応工程式ａの項で説明した保護基を化合物(12)
の3′位に導入するものであり、該保護基を導入す
るための試薬としては前記一般式(A)で表わされる
保護基を与えるトリアリール置換メチルハライ
ド、前記一般式(B)で表わされる保護基を与える下
記一般式 〔式中R′及びｎは一般式(B)におけるそれらに
同じ〕 で表わされる不飽和環状エーテル、低級アルコキ
シメチルハライド及びトリ低級アルキルシリルハ
ライドが用いられる。 上記ハライドを利用する保護基導入反応は、前
記反応工程式ａに示した脱ハロゲン化水素反応と
同様にして行なわれる。但し試薬量を化合物(12)に
対して１〜２倍モル、好ましくは１〜1.5倍とし、
反応温度を−30℃〜80℃とするのがよい。 上記一般式（B′）で表わされる不飽和環状エ
ーテルを利用した保護基導入反応は、酸触媒の存
在下、例えばTHF、ジオキサン、アセトニトリ
ル等の非プロトン性不活性溶媒中で行なわれる。
酸触媒としては臭化水素、塩化水素等のハロゲン
化水素酸や、塩化アルミニウム、弗化硼素、塩化
亜鉛等のルイス酸を使用できる。反応は試薬を化
合物(12)に対して１〜1.5倍モル量用い、−30℃〜60
℃下に約２〜５時間を要して行なわれる。 かくして得られる化合物（13）の5′位アシル基
の脱離反応は、アルカリ加水分解条件下に行なわ
れる。該条件は触媒として塩基性化合物を用いる
前記反応工程式ａの項で説明した加水分解反応と
同様である。 ＜反応工程式 ｆ） 〔式中R7は上記に同じ〕 上記によれば、化合物(11)に直接保護基導入反応
を行なうことにより、5′位に保護基の導入された
化合物（15）が得られる。この保護基導入反応
は、反応工程式ｅに示すそれと同条件下に行なわ
れる。 上記反応工程式ｅ及びｆに示す反応により、
3′位又は5′位のいずれか一方にアシル基又は保護
基の導入された原料化合物を収得できる。 ＜反応工程式 ｇ＞ 化合物（16）のトリアルキルシリル化反応は、
ビス―Ｏ，Ｎ―トリ低級アルキルシリルアセトア
ミドを化合物（16）に対して少なくとも３モル用
いる以外は、反応工程式ｄに示す化合物(8)のトリ
アリルキルシリル化反応と同様にして行なわれ
る。 得られる化合物（17）の３位のテトラヒドロフ
ラニル化反応及びこれに引き続く化合物（18）の
3′位及び5′位トリ低級アルキシリル基の脱離反応
は、いずれも反応工程式ｄに示す各反応と同様に
して行なわれる。かくして３位にテトラヒドロフ
ラニル基を有する化合物（19）が得られる。該化
合物（19）を上記反応工程式ｅ及びｆに示す反応
に従わせることにより、３位にテトラヒドロフラ
ニル基を有し、3′位又は5′位のいずれか一方にア
シル基又は保護基の導入された原料化合物を収得
できる。 上記各式に示す反応により得られる原料化合物
は、そのまま原料化合物として用いることもで
き、また通常の方法に従い反応系より分離して
後、原料化合物として用いることもできる。 本発明化合物(1)は優れた制癌作用を有し、しか
も低毒性であり、例えば体重減少等の副作用も少
なく、人及び動物の癌治療のための抗腫瘍剤とし
て非常に有用である。 また本発明者らの研究によれば、本発明化合物
(1)の制癌作用は、これを下記一般式（Ｘ）で表わ
されるピリジン誘導体と併用することにより、一
層増強されることが確認された。 〔式中Y′及びY3は一方が水素原子で、他方が
水酸基を示す。Y2は水素原子、ハロゲン原子、
低級アルキル基、シアノ基又はニトロ基を示す。〕 上記化合物〔Ｘ〕は、公知であるか又は公知の
方法〔Triv.Chem.Rec.73，704（1954）〕に準じて
容易に製造できる。 本発明化合物は、通常一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑
沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調整され
る。この医薬製剤としては各種の形態が治療目的
に応じて選択でき、その代表的なものとして錠
剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、
カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、
軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに
際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナ
トリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カル
シウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の
賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロ
ツプ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、
カルボキシメチルセルロース、セラツク、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポニビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナト
リウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプ
ン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収
促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デン
プン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド
状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸
塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢
剤等を使用できる。さらに錠剤は必要に応じ通常
の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被
包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形
態に成形するに際しては、担体として例えばブド
ウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、
カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、
トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用で
きる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、
高級アルコール、高級アルコールのエステル類、
ゼラチン、半合成グリセライド等を使用できる。
カプセル剤は常法に従い通常本発明化合物を上記
で例示した各種の担体と混合して硬質ゼラチンカ
プセル、軟質カプセル等に充填して調整される。
注射剤として調整される場合、液剤、乳剤及び懸
濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ま
しく、これらの形態に成形するに際しては、希釈
剤として例えば水、エチルアルコール、マクロゴ
ール、プロピレングリコールエトキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリル
アルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類等を使用できる。なお、この場合等
張性の溶液を調整するに充分な量の食塩、ブドウ
糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめ
てもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛
化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着色
剤、保存剤、香料、風味剤、甘剤剤等や他の医薬
品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペース
ト、クリーム及びゲルの形態に成形するに際して
は、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフイ
ン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレ
ングリコール、シリコン、ベントナイト等を使用
できる。 本発明の医薬製剤中に含有されるべき本発明の
化合物の量としては、特に限定されず広範囲に適
宜選択されるが、通常医薬製剤中１〜70重量％と
するのがよい。 上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各
種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患
者の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸
剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
は経口投与される。注射剤は単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内
投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直腸
内投与される。 上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性
別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択さ
れるが、通常有効成分である本発明化合物の量が
１日当り体重１Kg当り約0.5〜20mg程度とするの
がよく、該製剤は１日に１〜４回に分けて投与す
ることができる。 実施例 以下に参考例、実施例、薬理試験例及び製剤例
を挙げる。 参考例 １ 2′―デオキシ―5′―Ｏ―トリチル―５―フルオ
ロウリジンの製造 2′―デオキシ―５―フルオロウリジン5.00ｇの
ピリジン溶液に室温攪拌下、塩化トリチル9.00ｇ
を加えた。15時間後溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チルに溶解し飽和食塩水で３回洗浄した。酢酸エ
チル層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムを用いクロロホルム〜２％メ
タノル―クロロホルムで溶出して2′―デオキシ―
5′―Ｏ―トリチル―５―フルオロウリジン6.80ｇ
（69％）を得た。 参考例 ２ 2′―デオキシ―５―フルオロ―３―（２―テト
ラヒドロフラニル）ウリジンの製造 2′―デオキシ―５―フルオロウリジン5.00ｇの
乾燥ジクロロメタン50ml懸濁液に、室温攪拌下、
Ｎ，Ｏ―ビス（トリメチルシリル）アセトアミド
16.5ｇを加えた。４時間後、２―アセトキシテト
ラヒドロフラン4.00ｇと塩化第二錫1.17mlの乾燥
ジクロロメタン10ml溶液を加え、さらに1.5時間
攪拌した。次いでトリエチルアミン8.0mlを加え
て中和し、水洗した。ジクロロメタン層を濃縮
し、残残渣をメタノール100mlに溶解し、ここに
酢酸３mlを加えて40℃で３時間放置した。溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロ
ホルム〜４％メタノール―クロロホルムで溶出し
て油状の2′―デオキシ―５―フルオロ―３―（２
―テトラヒドロフラニル）ウリジン5.25ｇ（81.7
％）を得た。1 H―NMR（CDCl3）δ： 8.06（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 6.53（1H、bt、Ｊ＝６Hz、
【式】） 6.23（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.45―3.75（8H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、C3′，5′
―
OH、
【式】） 2.29―2.16（6H、ｍ、C2′―Ｈ、
【式】） 参考例 ３ 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1＝C6H5CH2〕の
製造 ベンゼン50mlとジオキサン50mlとの混液に、
2′―デオキシ―５―フルオロ―5′―Ｏ―トリチル
ウリジン1.00ｇ、臭化ベンジル0.30ml及び水酸化
カリウム0.23ｇの粉末を加え、25時間還流した。
不溶物を去し、液を濃縮した後、残渣を80％
酢酸５mlに溶解し、80℃で２時間放置した。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロ
ロホルム〜２％メタノール―クロロホルムで溶出
して、3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フ
ルオロウリジンに対応するフラクシヨンを集め、
濃縮し、エタノールから再結晶して、目的化合物
0.14ｇ（20％）を得た。 融 点 138〜139℃ 元素分析値：C16H17FN2O5として 計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09； Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.16；Ｈ 5.30； Ｎ 8.131 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.82（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失）、 8.21（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.35（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.16（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.22（1H、bs、5′―OH、D2O添加で消失） 4.54（2H、ｓ、
【式】） 4.24−4.19（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.09−4.06（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.65−3.53（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.51−2.16（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 １ 2′―デオキシ―５―フルオロ―3′―Ｏ―（３，
４―メチレンジオキシベンジル）ウリザジン
〔R2＝R3＝Ｈ、R1＝３，４―メチレンジオキシ
ベンジル基〕の製造 参考例３において反応溶媒として用いるジオキ
サンをアセトニトリルに代える以外は同様に反応
させて、目的化合物を23％の収率で得た。 融 点186〜188℃ 元素分析値：C17H17FN2O7・0.5 H2Oとして 計算値（％）：Ｃ 52.44；Ｈ 4.66； Ｎ 7.19 実測値（％）：Ｃ 52.60；Ｈ 4.62； Ｎ 7.031 H―NMR（CDCl3）δ： 11.80（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz、―NH―、D2O添加
で消失）、 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 6.90−6.85（3H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.11（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.99（2H、ｓ、―Ｏ―CH2―Ｏ―） 5.17（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加で
消失） 4.42（2H、ｓ、
【式】） 4.18−4.00（2H、ｍ、C3′，C4′―Ｈ） 3.64−3.61（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.30−2.20（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 参考例４及び５ 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1＝C6H5CH2〕及
び5′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フル
オロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、R2＝C6H5CH2〕
の製造 水350mlとジオキサン100mlとの混液に水酸化カ
リウム11.4ｇを溶解し、室温攪拌下、2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン10.0ｇ及び臭化ベンジ
ル3.0mlを加えた。この後24時間おきに５％水酸
化カリウム水溶液100mlと臭化ベンジル3.0mlとを
３回加え、さらに一夜攪拌を続けた。反応溶液を
エーテル200mlで２回洗浄後、水層6N―HClで中
和し約200mlまで濃縮した。これを再び6N―HCl
でPH約３−４に調整し、酢酸エチル100mlで２回
抽出した。酢酸エチル層を分取し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、濃縮した。油状残渣をシリカゲ
ルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノール
―クロロホルムで溶出し3′―Ｏ―ベンジル―2′―
デオキシ―５―フルオロウリジンに対応するフラ
クシヨンを集め、濃縮し、エタノールから再結晶
して目的化合物3.57ｇ（26.1％）を得た。 融 点 138〜139℃ 元素分析値：C16H17FN2O5として 計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09； Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.12；Ｈ 5.28； Ｎ 8.24 ついで溶出した5′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジンに対応するフラクシヨ
ンを集め、濃縮し、エタノールから再結晶して、
目的化合物0.40ｇ（2.9％）を得た。 融 点 129−130℃ 元素分析値：C16H17FN2O5として 計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09； Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.29；Ｈ 5.30； Ｎ 8.26 実施例 ３〜13 参考例４及び５と同様にして下記各化合物を得
た。 実施例 ２ 3′―Ｏ―（２―フルオロベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝２―フルオロベンジル基〕 収 率 34％ 融 点 121−123℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.82（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失） 8.21（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.67−7.19（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝6H、C1′―Ｈ） 5.26（1H、bs、5′―OH、D2O添加で消失） 4.60（2H、ｓ、
【式】） 4.28−4.05（2H、ｍ、C3′，C4′―Ｈ） 3.77−3.67（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.41−2.18（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ３ 5′―Ｏ―（２―フルオロベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、
R2＝２―フルオロベンジル基〕 収 率 5.2％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.7（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失） 7.92（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.52−7.07（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.62（2H、ｓ、
【式】） 4.44−3.97（2H、ｍ、C3′，C4′―Ｈ） 3.84−3.57（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.21−2.08（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ４ 3′―Ｏ―（３―フルオロベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝３―フルオロベンジル基〕 収 率 27％ 融 点 113−115℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.81（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失） 8.21（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.46−7.01（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.17（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.22（1H、bt、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.58（2H、ｓ、
【式】） 4.31−4.06（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.74−3.59（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.38−2.03（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ６ 5′―Ｏ―（３―フルオロベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、
R2＝３―フルオロベンジル基〕 収 率 5.9％ 融 点−（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 10.4（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失） 7.92（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.41−6.77（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.28（1H、bs、C1′―Ｈ） 4.63−3.51（6H、ｍ、C3′，4′5′−Ｈ、
【式】） 2.49−1.93（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ６ 3′―Ｏ―（２―ブロモベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝２―ブロモベンジル基〕 収 率 33％ 融 点 122−124℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.81（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失）、 8.20（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.67−7.32（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.21（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加で
消失） 4.57（2H、ｓ、
【式】） 4.25−4.05（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.70−3.52（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.40−1.94（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ７ 5′―Ｏ―（２―ブロモベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、R2
＝２―ブロモベンジル基〕 収 率 ５％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.78（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.91（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.69−7.32（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.35（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.60（2H、ｓ、
【式】） 4.31−3.42（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.20−2.09（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 12 3′―Ｏ―（３―ブロモベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3′＝Ｈ、R1
＝３―ブロモベンジル基〕 収 率 19％ 融 点 166〜168℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.80（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.69−7.31（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.19（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.54（2H、ｓ、
【式】） 4.23−4.03（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.71−3.57（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.34−2.21（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 ８ 5′―Ｏ―（３―ブロモベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3′＝Ｈ、R2
＝３―ブロモベンジル基〕 収 率 ３％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.90（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.00（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.67−7.34（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.46（1H、bs、3′―OH、D2O添加により消失） 4.54（2H、ｓ、
【式】） 4.30−3.90（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.74−3.68（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.13（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C2′―Ｈ） 実施例 ９ 3′―Ｏ―（４―ブロモベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝４―ブロモベンジル基〕 収 率 12％ 融 点 214〜217℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.80（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.55と7.30（各々2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、フエニル
―Ｈ） 6.11（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.19（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.51（2H、ｓ、
【式】） 4.23−4.02（2H、ｍ、C3′，4′−Ｈ） 3.73−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.36−2.07（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 11 3′―Ｏ―（４―ｔ―ブチルベンジル）―2′―デ
オキシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝４―ｔ―ブチルベンジル基〕 収 率 17％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.80（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.48と7.30（各々2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、フエニル
―Ｈ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.18（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.48（2H、ｓ、
【式】） 4.30−4.04（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.76−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.24―2.08（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 1.27（9H、ｓ、CH3×３） 実施例 12 5′―Ｏ―（４―ｔ―ブチルベンジル）―2′―デ
オキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、
R2＝４―ｔ―ブチルベンジル基〕 収 率 ２％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.80（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.94（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.34と7.16（各々2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、フエニル
―Ｈ） 6.14（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.31（1H、bs、3′―OH、D2O添加により消失） 4.51（2H、ｓ、
【式】） 4.28−3.94（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.74−3.64（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.13（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C2′―Ｈ） 1.27（9H、ｓ、CH3×３） 実施例 13 3′―Ｏ―（４―フエニルベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝４―フエニルベンジル基〕 収 率 12％ 融 点 207−209℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.90（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.19（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.69−7.39（9H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.25（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.58（2H、ｓ、
【式】） 4.29−4.07（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.83−3.63（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.62−2.06（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例14及び15 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝４―クロロベンジル基〕及び5′―Ｏ―（４―
クロロベンジル）―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン〔R1＝R3＝Ｈ、R2＝４―クロロベ
ンジル基〕の製造 水150mlとジオキサン40mlとの混液に、水酸化
カリウム4.0ｇを溶解し、室温攪拌下、2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン2.00ｇと４―クロロ
ベンジルクロリド5.5ｇとを加えた。２日後参考
例４及び５と同様に後処理し、シリカゲルカラム
を用い、クロロホルム〜２％メタノール―クロロ
ホルムで溶出し、3′―Ｏ―（４―クロロベンジ
ル）―2′―デオキシ―５―フルオロウリジンに対
応するフラクシヨンを集め、濃縮して目的化合物
0.50ｇ（17％）を得た。 融 点 196−198℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.81（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.20（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.38（4H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.14（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C1′―Ｈ） 5.21（1H、bt、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.53（2H、ｓ、
【式】） 4.23−4.14（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.10−4.03（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.71−3.58（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.41−2.02（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 元素分析値：C16H16ClFN2O5として 計算値（％）：Ｃ 51.83；Ｈ 4.35； Ｎ 7.56 実測値（％）：Ｃ 51.82；Ｈ 4.60； Ｎ 7.41 ついで溶出した5′―Ｏ―（４―クロロベンジ
ル）―2′―デオキシ―５―フルオロウリジンに対
応するフラクシヨンを集め、濃縮して粉末状の目
的物質0.12ｇ（4.0％）を得た。1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.79（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.91（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.38（4H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.13（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.33（1H、bs、3′―OH、D2O添加で消失） 4.53（2H、ｓ、
【式】） 4.38−4.21（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.04−3.82（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.78−3.74（2H、ｍ、C5′−Ｈ） 2.25−1.98（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 元素分析値：C16H16ClFN2O5として 計算値（％）：Ｃ 51.83；Ｈ 4.35； Ｎ 7.56 実測値（％）：Ｃ 51.73；Ｈ 4.80； Ｎ 7.97 実施例 16〜18 実施例14及び15と同様にして下記各化合物を得
た。 実施例 16 3′―Ｏ―（２，４―ジクロロベンジル）―2′―
デオキシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝
Ｈ、R1＝２，４―ジクロロベンジル基〕 収 率 14％ 融 点 88〜90℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.82（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.20（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.60−7.37（3H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.14（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.21（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.59（2H、ｓ、
【式】） 4.28−4.03（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.69−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.37−2.19（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 17 5′―Ｏ―（２，４―ジクロロベンジル）―2′―
デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝R3′＝
Ｈ、R2＝２，４―ジクロロベンジル基〕 収 率 3.3％ 融 点 109〜111℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.77（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.89（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.60−7.36（3H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.14（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.33（1H、bs、3′―OH、D2O添加により消失） 4.61（2H、ｓ、
【式】） 4.36−3.83（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.74−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.14（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C2′―Ｈ） 実施例 18 3′―Ｏ―（４―メトキシベンジル）―2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝４―メトキシベンジル基〕 収 率 8.1％ 融 点 164−166℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.81（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.19（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.27と6.91（各々2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、フエニル
―Ｈ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.19（1H、bt、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.45（2H、ｓ、
【式】） 4.19−4.02（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.70−3.50（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.31−2.13（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 19 2′―デオキシ―５―フルオロ―3′―（２―メチ
ルベンジル）ウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1＝２
―メチルベンジル基〕の製造 水33mlとアセトニリル16mlとの混液に、水酸化
カリウム1.14ｇを溶解し、室温攪拌下、2′―デオ
キシ―５―フルオロウリジン1.00ｇと２―臭化メ
チルベンジル1.50ｇを加えた。その後参考例４及
び５と同様に後処理して、目的化合物0.29ｇ（20
％）を得た。 融 点；114−116℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.79（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.19（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.30−7.17（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.11（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.19（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.45（2H、ｓ、
【式】） 4.22−4.02（2H、ｍ、C3′，C4′―Ｈ） 3.66−3.62（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.29−2.21（5H、ｍ、C2′―ＨとCH3） 元素分析値：C17H19FN2O5として 計算値（％）：Ｃ 58.28；Ｈ 5.46 Ｎ 7.99 実測値（％）：Ｃ 58.12；Ｈ 5.64； Ｎ 8.01 実施例20及び21 実施例19と同様にして下記各化合物を得た。 実施例 20 3′―Ｏ―（３―メチルベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝３―メチルベンジル基〕 収 率 23％ 融 点 129〜131℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.80（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.19（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.15（4H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.18（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.49（2H、ｓ、
【式】） 4.21−4.02（2H、ｍ、C3′，C4′―Ｈ） 3.66−3.61（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.31−2.22（5H、ｍ、C2′―ＨとCH3） 実施例 21 3′―Ｏ―（４―メチルベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝４―メチルベンジル基〕 収 率 21％ 融 点 178−180℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.81（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.18（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.30−7.13（4H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.17（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′―OH、D2O添加に
より消失） 4.20−4.01（2H、ｍ、C3′，C4′−Ｈ） 3.65−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.29−2.12（5H、ｍ、C2′―ＨとCH3） 実施例 22 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロ―5′―Ｏ―ニコチノイルウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R3＝Ｈ、R2＝３ピリジンカルボニ
ル基〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン0.2ｇのピリジン10ml溶液に、塩化ニ
コチノイル・塩酸塩0.21ｇを加え、80℃で３時間
放置した。溶媒を留去後残渣を酢酸エチル30mlに
溶解し、水20mlで２回洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し、油状残渣
をシリカゲルカラムを用い、クロロホルムで溶出
して目的化合物0.18ｇ（69％）を得た。 融 点 130−132℃1 H―NMR（CDCl3）δ： 11.14（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 9.22（1H、ｓ、
【式】） 8.81（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz、
【式】） 8.24（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 7.53−7.28（7H、ｍ、
【式】C6―Ｈ、
【式】） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.71−4.21（6H、ｍ、
【式】C3′，4 ′，5′―Ｈ） 2.75−2.04（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 元素分析値：C22H20FN3O6として 計算値（％）：Ｃ 59.86；Ｈ 4.57； Ｎ 9.52 実測値（％）：Ｃ 60.01；Ｈ 4.56； Ｎ 9.58 実施例 23〜24 実施例22と同様にして下記各化合物を得た。 実施例 23 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―ベンゾイル―2′―
デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝C6H5CO、R3＝Ｈ〕 収 率 75％ 融 点 125−127℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.94（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.00−7.41（6H、ｍ、
【式】C6― Ｈ） 7.33（5H、ｓ、
【式】） 6.17（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.59−（6H、ｍ、
【式】C3′，4′，5′― Ｈ） 2.40―2.27（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 24 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―フエノキシカルボ
ニル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
〔R2＝C6H5CH2、R2＝C6H5OCO、R3＝Ｈ〕 収 率 38％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 12.00（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.95（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.55−7.16（10H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.17（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.56−4.21（6H、ｍ、
【式】C3′，4 ′，5′―Ｈ） 2.39−2.28（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 25 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―ｎ―ヘキサノイル
―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝CH3（CH2）4CO、R3＝Ｈ〕 収 率 51％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.94（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.90（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.33（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.54（2H、ｓ、
【式】） 4.29―4.12（4H、ｍ、C3′4′，5′―Ｈ） 2.38―2.23（4H、ｍ、C2′―Ｈ、―CH2CO―） 1.61−1.15（6H、ｍ、CH3（ＣＨ 2）3CH2CO―） 0.84（3H、ｔ、Ｊ＝６Hz、ＣＨ 3CH2―） 実施例 26 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―ベンジルカルボニ
ル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1
＝C6H5CH2、R2＝C6H5CH2CO、R3＝Ｈ〕 収 率 42％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 10.06（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.42−7.23（11H、ｍ、フエニル―Ｈ、C6―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.43（2H、ｓ、
【式】） 4.33−4.11（3H、ｍ、C3′，5′―Ｈ） 3.96−3.83（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.64（2H、ｓ、
【式】） 2.47−2.27、1.65−1.49（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 27 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―エトキシカルボニ
ル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1
＝C6H5CH2、R2＝CH3CH2OCO、R3＝Ｈ〕 収 率 37％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 10.18（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.68（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.32（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.31（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.40（2H、ｓ、
【式】） 4.37−4.10（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、OCＨ
2CH3） 2.67−2.42、2.23−1.92（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 1.30（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、―OCH2CＨ 3） 実施例 28 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―（３―メチルベン
ゾイル）―2′―デオキシ―５―フルオロウリジ
ン〔R1＝C6H5CH2、R2＝３―メチルベンゾイ
ル、R3＝Ｈ〕 収 率 67％ 融 点 131〜133℃1 H―NMR（CDCl3）δ： 9.61（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.78−7.73（2H、ｍ、
【式】） 7.60（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.38−7.22（7H、ｍ、
【式】
【式】） 6.25（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.55−4.35（5H、ｍ、C3′，5′―Ｈ、
【式】） 4.28−4.18（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 2.73−2.47、2.16−1.87（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 2.38（3H、ｓ、
【式】） 実施例 29 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―（４―ｎ―プロポ
キシベンゾイル）2′―デオキシ―５―フルオロ
ウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝４―ｎ―プロ
ポキシベンゾイル、R3＝Ｈ〕 収 率 78％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 9.27（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.91（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.62（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.32（5H、ｓ、
【式】） 6.91（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 6.25（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.55−4.52（4H、ｍ、
【式】C5′― Ｈ） 4.45−4.39（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.29−4.15（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.97（2H、ｔ、Ｊ＝７Hz、―CH2O―） 2.74−2.52、2.16−1.64（4H、ｍ、CH3CＨ 2CH2
―Ｏ―、C2′―Ｈ） 1.04（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、ＣＨ 3CH2―） 実施例 30 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―フエノキシメチル
カルボニル―2′―デオキシ―５―フルオロウリ
ジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝フエノキシメチル
カルボニル、R3＝Ｈ〕 収 率 90％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 10.03（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 7.58（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.35−6.77（10H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.65（2H、ｓ、
【式】） 4.42−4.23（5H、ｍ、C3′，5′―Ｈ、
【式】） 3.97−3.84（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 2.49−2.23、1.96−1.65（1H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 31 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―α―ナフチルカル
ボニル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
〔R1＝C6H5CH2、R2＝α―ナフチルカルボニ
ル、R3＝Ｈ〕 収 率 48％ 融 点 158−160℃1 H―NMR（CDCl3）δ： 9.20（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.87−8.73（1H、ｍ、
【式】） 8.10−7.38（12H、ｍ、C6―Ｈ、
【式】
【式】） 6.25（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.68−4.56（4H、ｍ、C5′―Ｈ、
【式】） 4.45−4.38（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.32−4.18（１、ｍ、C4′―Ｈ） 2.70−2.43、2.17−1.86（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 32 3′―Ｏ―（４―クロロベンゾイル）―5′―Ｏ―
ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジ
ン〔R1＝４−クロロベンゾイル、R2＝
C6H5CH2、R3＝Ｈ〕 収 率 57％ 融 点 215−217℃1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.83（1H、bs、―NH―、D2O添加により消
失）、 8.06−7.97（3H、ｍ、C6―Ｈ、
【式】） 7.61（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 7.35（5H、
【式】） 6.27（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.54−5.47（1H、ｍ、C3′−Ｈ） 4.60（2H、ｓ、
【式】） 4.42−4.32（1H、ｍ、C4′―Ｈ） 3.80−3.71（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.52−2.38（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 33 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―（３，４，５―ト
リメトキシベンゾイル）―2′―デオキシ―５―
フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝３，
４，５―トリメトキシベンゾイル、R3＝Ｈ〕 収 率 63％1 H―NMR（DMSO―d6）δ： 11.87（1H、ｓ、―NH―、D2O添加で消失） 7.93（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.33（5H、ｓ、
【式】） 7.25（2H、ｓ、
【式】） 6.17（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C1′―Ｈ） 4.61−4.35（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、
【式】） 3.82、3.77（9H、各々ｓ、
【式】） 2.54−2.39（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 34 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―5′―Ｏ―ア
セチル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
〔R1＝４―クロロベンジル、R2＝CH3CO、R3
＝Ｈ〕 収 率 90％1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.67（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.28（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.50（2H、ｓ、
【式】） 4.40−4.11（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.71−2.46、2.28−1.93（5H、ｍ、C2′―Ｈ、
CH3CO―） 実施例 35 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロ―３―フエノキシカルボニルウリジン〔R1
＝C6H5CH2、R2＝Ｈ、R3＝フエノキシカルボ
ニル〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン0.50ｇのジオキサン20ml溶液にトリメ
チルクロロシラン0.38mlとトリエチルアミン1.04
mlとを加え、室温で２時間攪拌した後、60℃で30
分放置した。ついでフエノキシカルボニルクロリ
ド0.40ｇとトリエチルアミン1.00mlとを加え、さ
らに60℃で３時間放置した。溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和食塩水で洗浄
し、酢酸エチル層を分取した。これを濃縮し、残
渣をメタノール30mlに溶解した。ここに酢酸0.5
mlを加え、一夜放置し、濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノー
ル―クロロホルムで溶出して目的化合物0.58ｇ
（86％）を得た。 融 点 110−112℃1 H―NMR（CDCl3）δ： 8.16（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ）、 7.34−7.22（10H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.27（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′−Ｈ） 4.49（2H、ｓ、
【式】） 4.26−4.17（2H、ｍ、C3′，4′―Ｈ） 3.95−3.60（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.63−1.98（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 元素分析値：C23H21FN2O7として 計算値（％）：Ｃ 60.53；Ｈ 4.64； Ｎ 6.14 実測値（％）：Ｃ 60.60；Ｈ 4.72； Ｎ 6.08 実施例 36 実施例35と同様にして下記各化合物を得た。 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―３―（４―
プロポキシベンゾイル）―５―フルオロウリジ
ン〔R1＝C6H5CH2、R2＝Ｈ、R3＝４―プロポ
キシベンゾイル〕 収 率 65％ 融 点 −（ガラス状粉末）1 H―NMR（CDCl3）δ： 8.19（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.85（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.27（5H、ｓ、
【式】） 6.90（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 6.25（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.44（2H、ｓ、
【式】） 4.20−3.55（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、―CH2CＨ
2O―） 2.57−1.58（4H、ｍ、C2′―Ｈ、CH3CＨ 2CH2O
―） 0.99（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、ＣＨ 3CH2―） 実施例 37 5′―Ｏ―アセチル―3′―Ｏ―ベンジル―３―ベ
ンゾイル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジ
ン〔R1＝C6H5CH2、R2＝CH3CO、R3＝
C6H5CO〕の製造 5′―Ｏ―アセチル―3′―Ｏ―ベンジル―2′―デ
オキシ―５―フルオロウリジン0.20ｇのジオキサ
ン10ml溶液に塩化ベンゾイル0.29ｇとトリエチル
アミン0.73mlとを加え、80℃で２時間放置した。
溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチル50mlに溶解
し水洗した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した後、残渣をシリカゲルカラム
を用い、クロロホルムで溶出して油状の目的化合
物0.20ｇ（78％）を得た。1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.95−7.27（11H、ｍ、フエニル―Ｈ、C6―Ｈ）、 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.45（2H、ｓ、
【式】） 4.23−4.08（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.60−2.05（5H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3） 元素分析値：C25H23FN2O7として 計算値（％）Ｃ 62.24；Ｈ 4.80； Ｎ 5.81 実測値（％）Ｃ 62.34；Ｈ 5.06； Ｎ 5.77 実施例 38〜48 実施例37と同様にして下記各化合物を得た。 実施例 38 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―（４―プロポキシベンゾイル）―
５―フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝
CH3CO、R3＝４―プロポキシベンゾイル〕 収 率 38％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.85（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.75（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.30（5H、ｓ、
【式】） 6.92（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.45（2H、ｓ、
【式】） 4.23−4.08（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 3.96（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz、―OCＨ 2CH2CH3） 2.70−1.68（7H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3、―
OCH2CＨ 2CH3） 1.01（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、―Ｏ（CH2）2CＨ 3） 実施例 39 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―（４―クロロベンゾイル）―５―
フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝
CH3CO、R3＝４―クロロベンゾイル〕 収 率 73％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.84（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.78（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.44（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.30（5H、ｓ、
【式】） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.51（2H、ｄ、Ｊ＝１Hz、
【式】） 4.28−4.08（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.70−2.43、2.25−2.03（5H、ｍ、C2′―Ｈ、
COCH3） 実施例 40 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―（２―メチルベンゾイル）―フル
オロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝CH3CO、
R3＝２―メチルベンゾイル〕 収 率 44％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.62−7.32（10H、ｍ、C6―Ｈ、フエニル―Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C1′―Ｈ） 4.47（2H、ｄ、Ｊ＝１Hz、
【式】） 4.25−4.07（4H、ｍ、C3′，4′，5′，―Ｈ） 2.67−2.00（8H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3、
【式】） 実施例 41 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―（３―メチルベンゾイル）―５―
フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝
CH3CO、R3＝３―メチルベンゾイル〕 収 率 68％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.81−7.65（3H、ｍ、C6―Ｈ、
【式】） 7.47−7.16（7H、ｍ、
【式】
【式】） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、―Ｈ） 4.46（2H、ｓ、
【式】） 4.25−4.08（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.67−2.00（8H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3、
【式】） 実施例 42 3′―Ｏ―ベンジル―5′―アセチル―2′―デオキ
シ―３―（４―メチルベンゾイル）―５―フル
オロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝CH3CO、
R3＝４―メチルベンゾイル〕 収 率 84％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.79（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 7.78（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.27（5H、ｓ、
【式】） 7.22（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.45（2H、ｓ、
【式】） 4.24−4.08（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.60−2.05（8H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3、
【式】） 実施例 43 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―（４―メトキシベンゾイル）―５
―フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝
CH3CO、R3＝４―メトキシベンゾイル〕 収 率 70％ 融 点 −（粉末）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.85（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 7.77（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.28（5H、ｓ、
【式】） 6.91（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz、
【式】） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.47（2H、ｓ、
【式】） 4.25−4.09（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 3.80（3H、ｓ、ＣＨ 3O―） 2.49−2.07（5H、ｍ、C2′―Ｈ、COCH3） 実施例 44 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―ベンゾイル―2′―
デオキシ―３―ベンゾイル―５―フルオロウリ
ジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝R3＝C6H5CO） 収 率 94％ 融 点−（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 8.03−7.32（16H、ｍ、フエニル−Ｈ、C6―Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.48−4.16（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、
【式】） 2.70−2.42、2.25−1.95（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 45 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―フエノキシカルボ
ニル―2′―デオキシ―３―フエノキシカルボニ
ル―５―フルオロウリジン〔R1＝C6H5CH2、
R2＝R3＝フエノキシカルボニル〕 収 率 48％ 融 点−（油状）1 H―NMR（DMSO−d6）δ： 8.21（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.57−7.16（15H、ｍ、フエニル―Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C1′―Ｈ） 4.59−4.28（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、
【式】） 2.54−2.38（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 46 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―α―ナフチルカル
ボニル―2′―デオキシ―３―α―ナフチルカル
ボニル―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝R3＝α―ナフチルカルボニ
ル〕 収 率 29％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 9.11−8.79（2H、ｍ、
【式】） 8.11−7.19（13H、ｍ、
【式】 C6―Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C1′―Ｈ） 4.71−4.10（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、
【式】） 2.64−2.36、2.15−1.85（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 実施例 47 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―（３―メチルベン
ゾイル）―2′―デオキシ―３―（３―メチルベ
ンゾイル）―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝R3＝３―メチルベンゾイル〕 収 率 18％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.81−7.62（5H、ｍ、
【式】C6 ―Ｈ） 7.43−7.24（9H、ｍ、
【式】
【式】） 6.23（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.60−4.20（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、
【式】） 2.78−2.50、2.24−1.93（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 2.39、2.37（各々、ｓ、3H、
【式】） 実施例 48 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―３―ヘキサノイル―５―フルオロウリ
ジン〔R1＝C6H5CH2、R2＝CH3CO、R3＝ヘ
キサノイル〕 収 率 48％ 融 点 −（油状）1 H―NMR（CDCl3）δ： 7.66（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.32（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.54（2H、ｓ、
【式】） 6.38−4.07（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.82（2H、ｔ、Ｊ＝９Hz、―CH2―CO―） 2.59−2.44、2.22−2.02（5H、ｍ、C2′―Ｈと
CH3CO―） 1.92−1.67（2H、ｍ、―ＣＨ 2CH2CO―） 1.56−1.22（4H、ｍ、CH3CＨ 2CＨ 2CH2CH2CO
―） 0.90（3H、ｔ、Ｊ＝５Hz、ＣＨ 3CH2） 実施例 49 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―アセチル―2′―デ
オキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝CH3CO、R3＝Ｈ〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン3.95ｇのピリジン30ml溶液に、無水酢
酸3.33mlを加え、40℃で一夜放置した。溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチル30mlに溶解し、水15mlで
２回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラムを用いク
ロロホルムで溶出して目的化合物3.62ｇ（81.5
％）を得た。 融 点 87−88℃1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.86（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz、―NH―、D2O添加
で消失） 7.93（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.35（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.15（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.55（2H、ｓ、
【式】） 4.32−4.20（4H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ） 2.39−2.28（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C2′―Ｈ） 2.04（3H、ｓ、COCH3） 元素分析値：C18H19FN2O6として 計算値（％）Ｃ 57.14；Ｈ 5.06； Ｎ 7.40 実測値（％）Ｃ 56.99；Ｈ 5.22； Ｎ 7.37 実施例 50 3′―Ｏ―アセチル―5′―Ｏ―ベンジル―2′―デ
オキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝
CH3CO、R2＝C6H5CH2、R3＝Ｈ〕の製造 実施例49と同様にして、5′―Ｏ―ベンジル―
2′―デオキシ―５―フルオロウリジン1.00ｇを用
いて反応させて、目的化合物1.00ｇ（88.9％）を
得た。 融 点 114−116℃1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.85（1H、bs、−NH―、D2O添加で消失） 7.95（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6―Ｈ） 7.34（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.17（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 5.25−5.23（1H、ｍ、C3′―Ｈ） 4.57（2H、ｓ、
【式】） 4.32−4.20（1H、ｍ、C4′，―Ｈ）、 3.84−3.73（2H、ｍ、C5′―Ｈ） 2.37−2.25（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 2.06（3H、ｓ、COCH3） 元素分析値：C18H19FN2O6として 計算値（％）Ｃ 57.14；Ｈ 5.06； Ｎ 7.40 実測値（％）Ｃ 56.91；Ｈ 5.32； Ｎ 7.25 実施例 51 3′―Ｏ―ベンジル―5′―Ｏ―クロロアセチル―
2′―デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝
C6H5CH2、R2＝CH2Cl―CO、R3＝Ｈ〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン0.20ｇのピリジン10ml溶液に無水クロ
ロ酢酸を加え、室温で一夜放置した。後処理を実
施例49と同様にして、目的化合物0.11ｇ（45％）
を油状物として得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 10.22（1H、bs、―NH―、D2O添加で消失） 7.60（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.32（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.23（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.53（2H、ｄ、Ｊ＝３Hz、
【式】） 4.45−4.08（6H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、ClCH2CO
―） 2.69−2.06（2H、ｍ、C2′―Ｈ） 元素分析値：C18H18ClFN2O6として 計算値（％）Ｃ 52.37；Ｈ 4.39 Ｎ 6.79 実測値（％）Ｃ 52.43；Ｈ 4.63 Ｎ 6.80 実施例 51 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―３―（２ー
テトラヒドロフラニル）―５―フルオロウリジ
ン〔R1＝C6H5CH2、R2＝Ｈ、R3＝２―テトラ
ヒドロフラニル〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン0.40ｇを用い、参考例２と同様にして
反応させて、油状の目的化合物0.37ｇ（77％）を
得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.01（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6―Ｈ） 7.30（5H、ｓ、フエニル―Ｈ） 6.58（1H、bt、Ｊ＝６Hz、
【式】） 6.26（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C1′―Ｈ） 4.51（2H、ｓ、
【式】） 4.39−3.50（7H、ｍ、C3′，4′，5′―Ｈ、C5′―OH、
【式】） 2.60−1.86（6H、ｍ、C2′―Ｈ、
【式】） 元素分析値：C20H23FN2O6として 計算値（％）Ｃ 59.11；Ｈ 5.70 Ｎ 6.89 実測値（％）Ｃ 59.02；Ｈ 6.11； Ｎ 6.78 実施例 53 3′―Ｏ―（３―クロロベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝３―クロロベンジル基〕の製造 水75mlとジオキサン40mlとの混液に水酸化カリ
ウム2.00ｇを溶解し、これに2′―デオキシ―５―
フルオロウリジン1.00ｇと３―クロロベンジルク
ロライド2.50ｇとを加え、45℃で３日間攪拌し
た。反応溶液をエーテル200mlで２回洗浄後、水
層を6N―HClで中和し約200mlまで濃縮した。こ
れを再び6N―HClでPH約３〜４に調整し、酢酸
エチル100mlで２回抽出した。酢酸エチル層を分
取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。
油状残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホル
ム〜２％メタノール―クロロホルムで溶出して目
的化合物0.21ｇ（収率14％）を得た。 融 点 153〜155℃ 実施例 54 3′―Ｏ―（２―クロロベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、R1
＝２―クロロベンジル基〕の製造 水150mlとジオキサン40mlとの混液に水酸化カ
リウム3.75ｇを溶解し、これに2′―デオキシ―５
―フルオロウリジン1.00ｇと２―クロロベンジル
クロライド10mlとを加え、30℃で３日間攪拌し
た。反応後、実施例53と同様に後処理し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにて２％メタノー
ル―クロロホルムで溶出して目的化合物0.34ｇ
（収率23％）を得た。 融 点 78〜80℃ 実施例 55 2′―デオキシ―５―フルオロ―3′―Ｏ―（４―
フルオロベンジル）ウリジン〔R2＝R3＝Ｈ、
R1＝４―フルオロベンジル基〕の製造 水300mlとジオキサン80mlとの混液に水酸化カ
リウム7.5ｇを溶解し、これに2′―デオキシ―５
―フルオロウリジン2.00ｇと４―フルオロベンジ
ルクロライド4.9mlとを加え、35℃で２日間攪拌
した。反応後、実施例53と同様に後処理し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにて２％メタノ
ール―クロロホルムで溶出して目的化合物0.57ｇ
（収率20％）を得た。 融 点 130〜131℃ 実施例 56 5′―Ｏ―アセチル―３―Ｏ―ベンゾイル―3′―
Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―デオキシ―
５―フルオロウリジン〔R1＝４―クロロベン
ジル基、R2＝CH3CO、R3＝C6H5CO〕の製造 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―5′―Ｏ―ア
セチル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
0.25ｇのジオキサン30ml溶液にベンゾイルクロラ
イド0.26ｇとトリエチルアミン0.51mlとを加え、
90℃で２時間攪拌した。反応溶液を濃縮し、残渣
を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウムで３回次いで飽和食塩水で３回洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥の後、酢酸エチルを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にかけクロロホルムで溶出して目的化合物0.29ｇ
（収率92％）を得た。 NMR（CDCl3）δ 7.98−7.87（2H，ｍ，
【式】） 7.77（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz、H6） 7.69−7.32（3H，ｍ，
【式】） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝３Hz，フエニル―Ｈ） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝４Hz，H1′） 4.90（2H，ｄ，Ｊ＝１Hz，
【式】） 4.32−4.03（4H，ｍ，H3′，H4′，H5′） 2.72−1.96（5H，ｍ，H2とCH3CO―） 実施例 57 5′―Ｏ―アセチル―３―（４―クロロベンゾイ
ル）―3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―
デオキシ―５―フルオロウリジン〔R1＝４―
クロロベンジル基、R2＝CH3CO、R3＝４―ク
ロロベンゾイル基〕の製造 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―5′―Ｏ―ア
セチル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
0.30ｇのジオキサン30ml溶液に４―クロロベンゾ
イルクロライド0.38ｇとトリエチルアミン0.61ml
とを加え、40℃で３時間攪拌した。不溶物を去
し、残渣を酢酸エチル50mlに溶解し、水洗し、乾
燥後、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーにかけクロホルム―ｎ―
ヘキサン（３：２）で溶出して目的化合物0.33ｇ
（収率82％）を得た。 NMR（CDCl3）δ 7.86（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.77（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz、H6） 7.48（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz，
【式】） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝４Hz，
【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，H1′） 4.49（2H，ｓ，
【式】） 4.32−4.03（4H，ｍ，H3′，H4′，H5′） 2.75―1.95（5H，ｍ，H2′CH3 CO―） 実施例 58 5′―Ｏ―アセチル―３―（４―ｎ―プロポキシ
ベンゾイル）―3′―Ｏ―（４―クロロベンジ
ル）―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
〔R1＝４―クロロベンジル基、R2＝CH3CO、
R3＝４―ｎ―プロポキシベンゾイル基〕の製
造 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―5′―Ｏ―ア
セチル―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
0.30ｇのジオキサン30ml溶液に４―ｎ―プロポキ
シベンゾイルクロライド0.44ｇとトリエチルアミ
ン0.61mlとを加え、70℃で３時間攪拌した。不溶
物を去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗
し、乾燥後、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにかけクロロホル
ム―石油エーテル（１：１）で溶出して目的化合
物0.15ｇ（収率36％）を得た。 NMR（CDCl3）δ 7.87（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz、
【式】） 7.74（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，H6） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝３Hz，
【式】） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝４Hz，H1′） 4.49（2H，ｓ，
【式】） 4.31−3.93（6H，ｍ，H3′，H4′，H5′と―Ｏ―
ＣH2 CH2CH3） 2.72−1.65（7H，ｍ，H2，CH3CO―と―Ｏ―
CH2CH2 CH3） 1.04（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，―OCH2CH2CH3 ） 実施例 59 3′―ベンゾイル―3′―Ｏ―（４―クロロベンジ
ル）―2′―デオキシ―５―フルオロウリジン
〔R1＝４―クロロベンジル基、R2＝Ｈ、R3＝
C6H5CO―〕の製造 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン0.50ｇのジオキサン20
ml溶液にトリメチルクロロシラン0.75mlとトリエ
チルアミン2.00mlを加え、室温で２時間攪拌後、
60℃で30分間放置した。次いで臭化ベンゾイル
0.42ｇとトリエチルアミン1.00mlとを加え、さら
に60℃で１時間放置した。溶媒を留去し、残渣を
酢酸エチル50mlに溶解し、飽和食塩水で洗浄し
た。酢酸エチル層を分取し、濃縮し、残渣をメタ
ノール30mlに溶解し、ここに酢酸0.5mlを加えて
室温で一夜放置した。溶媒を留去後、残渣をシリ
カゲルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノ
ール―クロロホルムで溶出して、粉末状の目的化
合物0.46ｇ（収率72％）を得た。 融 点―（粉末） NMR（CDCl3）δ 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz、H6） 7.90（2H，bd，Ｊ＝７Hz，
【式】） 7.65−7.35（3H，ｍ，
【式】） 7.24（4H，ｓ，
【式】） 6.24（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，H1′） 4.42（2H，ｓ，
【式】） 4.24−4.15（2H，ｍ，H3′，H4′） 3.95−3.60（2H，ｍ，H5′） 2.59−1.98（2H，ｍ，H2′） 実施例 60 3′―ベンゾイル―5′―Ｏ―ベンゾイル―3′―Ｏ
―（４―クロロベンジル）―2′―デオキシ―５
―フルオロウリジン〔R1＝４―クロロベンジ
ル基、R2＝R3＝C6H5CO―〕の製造 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―デオキ
シ―５―フルオロウリジン0.25ｇのピリジン溶液
にベンゾイルクロライド0.23mlを加え、室温で２
時間攪拌した。溶媒を留去後、残渣に酢酸エチル
と水とを加え、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにかけクロロホルム
で溶出して、目的化合物0.27ｇ（収率70％）を得
た。 NMR（CDCl3）δ 8.05−7.85（4H，ｍ，
【式】） 7.71（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，H6） 7.63−7.32（6H，ｍ，
【式】） 7.25（4H，ｓ，
【式】） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝４Hz，H1′） 4.63−4.20（6H，ｍ，H3′，H4′，
H5′
【式】） 2.77−2.02（2H，ｍ，H2′） 実施例 61 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロ―３―ニコチノイル―5′―Ｏ―ニコチノイル
ウリジン〔R1＝C6H5CH2―、R2＝R3―３―ニ
コチノイル基〕の製造 3′―Ｏ―ベンジル―2′―デオキシ―５―フルオ
ロウリジン0.50ｇのジオキサン40ml溶液に、塩酸
塩化ニコチノイル0.40ｇとトリエチルアミン1.0
mlとを加え、６時間還流した。溶媒を留去後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ
１％メタノール―クロロホルムで溶出して、目的
化合物0.23ｇへ（収率29％）を得た。 NMR（DMSO―d6）δ 9.27と9.11（各1H，ｄ，
【式】） 8.97−8.81（2H，ｍ，
【式】） 8.57−8.16（3H，ｍ，H6と
【式】） 7.73−7.50（2H，ｍ，
【式】） 7.32（5H，ｓ，
【式】） 6.10（1H，ｍ，Ｊ＝６Hz，H1′） 4.59（2H，ｓ，
【式】） 4.54−4.33（4H，ｍ，H3′，H4′，H5′） 2.37−2.20（2H，ｍ，H2′） 薬理試験例 ICR系マウスに腹水として継代したザルコーマ
（Sarcoma）−180を、生理食塩水で希釈して１匹
当り２×107個となる量を同系マウスの背部皮下
に移植し実験に供した。腫瘍移植24時間後より１
日１回、７日間、５％アラビアゴムで懸濁させた
薬剤を連日経口投与した。 腫瘍移植10日目に背部皮下の固型癌を摘出し、
腫瘍重量を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量（Ｔ）
と薬剤投与の対照群の腫瘍重量(C)との比（Ｔ／
Ｃ）を求め、薬剤投与量と該比（Ｔ／Ｃ）の用量
−反応曲線よりＴ／Ｃが0.5となる50％腫瘍抑制
用量（ED50値）を求めた。結果を第１表に示す。
【表】
【表】
【表】 薬理試験例 （急性毒性） 実施例２及び実施例49で得た本発明化合物を、
各々５週齢のICR雄性マウス（１群８例）に経口
投与し、一般症状、体重の推移及び生死の有無を
投与14日間に亘り観察した。また死亡率からリツ
チフイールド・ウイルコツクソン（Litchfield−
Wilcoxon）法に従い、LD50値を求めた。結果を
下記第２表に示す。
【表】 薬理試験例 （治療係数） 薬理試験例の方法により、50％腫瘍抑制用量
（ED50値）を求めた。 また、上記薬理試験期間に、上記薬剤投与群の
体重増加量が、薬剤未投与の対照群の体重増加量
に比し、10％だけ低く抑制される薬剤の１回当り
の投与量（10％体重抑制量）を求めた。 上記ED50値及び10％体重抑制量から、次式に
従い、治療係数を算出した。 治療係数＝10％体重抑制量／ED50 結果を下記第３表に示す。なお第３表には、比
較化合物２（第１表記載のもの）を用いた場合の
結果を併記する。
【表】 実施例54の化合物 50mg 乳 糖 97mg 結晶セルロース 50mg ステアリン酸マグネシウム ３mg 上記配合割合で１カプセル当たり200mgのカプ
セル剤を調整する。 製剤例 ２ 実施例49の化合物 10mg 乳 糖 184mg 結晶セルロース 100mg ステアリン酸マグネシウム ６mg 上記配合割合で１カプセル当たり300mgのカプ
セル剤を調整する。 製剤例 ３ 実施例49の化合物 10mg 乳 糖 240mg コーンスターチ 340mg ヒドロキシプロピルセルロース 10mg 上記配合割合で１包当たり600mgの顆粒剤を調
整する。 製剤例 ４ 実施例49の化合物 10mg マクロゴール300 500mg 注射用蒸溜水 適量 上記配合割合で１アンプル当たり５mgの注射用
剤を調整する。 製剤例 ５ それぞれ10mgの実施例49の化合物を含有する経
口使用のための錠剤1000錠が次の処方により調製
される。 実施例49の化合物 10ｇ 乳 糖（日本薬局方品） 45ｇ コーンスターチ（日本薬局方品） 25ｇ 結晶セルロース（日本薬局方品） 25ｇ メチルセルロース（日本薬局方品） 1.5ｇ ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品）
１ｇ 実施例49の化合物、乳糖、コーンスターチ及び
結晶セルロースを十分混合し、メチルセルロース
の５％水溶液で顆粒化し、200メツシユの篩に通
して注意深く乾燥する。乾燥した顆粒を200メツ
シユの篩に通してステアリン酸マグネネシウムと
混合して錠剤にプレスする。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1及びR2は一方がフエニル環上に低級
    アルキル基、低級アルコキシ基、及びハロゲン原
    子から選ばれる置換基を有することのあるベンジ
    ル基又は置換基として低級アルキレンジオキシ基
    もしくはフエニル基を有するベンジル基を示し、 他方が水素原子、低級アルカノイル基、フエニ
    ル置換低級アルカノイル基、フエノキシ置換低級
    アルカノイル基、ハロゲン置換低級アルカノイル
    基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、低級
    アルキル基置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基
    置換ベンゾイル基、ピリジルカルボニル基、フエ
    ノキシカルボニル基又は低級アルコキシカルボニ
    ル基を示し、 R3は水素原子、低級アルカノイル基、ベンゾ
    イル基、ナフチルカルボニル基、低級アルキル基
    置換ベンゾイル基、低級アルコキシ基置換ベンゾ
    イル基、、ハロゲン置換ベンゾイル基、ピリジル
    カルボニル基、フエノキシカルボニル基又はテト
    ラヒドロフラニル基を示す。 但し、R1及びR2の一方が水素原子を示し、他
    方が未置換ベンジル基を示すとき、R3は水素原
    子又はベンゾイル基であつてはならない〕で表さ
    れる2′―デオキシ―５―フルオロウリジン誘導
    体。 ２ R1がフエニル環上にハロゲン原子を有する
    ベンジル基である特許請求の範囲第１項記載の
    2′―デオキシ―５―フルオロウリジン誘導体。 ３ 3′―Ｏ―（４―クロロベンジル）―2′―デオ
    キシ―５―フルオロウリジンである特許請求の範
    囲第２項記載の2′―デオキシ―５―フルオロウリ
    ジン誘導体。 ４ 3′―Ｏ―（４―ブロモベンジル）―2′―デオ
    キシ―５―フルオロウリジンである特許請求の範
    囲第２項記載の2′―デオキシ―５―フルオロウリ
    ジン誘導体。 ５ 3′―Ｏ―（２，４―ジクロロベンジル）―
    2′―デオキシ―５―フルオロウリジンである特許
    請求の範囲第２項記載の2′―デオキシ―５―フル
    オロウリジン誘導体。 ６ 3′―Ｏ―（２―クロロベンジル）―2′―デオ
    キシ―５―フルオロウリジンである特許請求の範
    囲第２項記載の2′―デオキシ―５―フルオロウリ
    ジン誘導体。
JP59229938A 1984-10-30 1984-10-30 ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体 Granted JPS61106593A (ja)

Priority Applications (20)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59229938A JPS61106593A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体
DE8585113724T DE3583726D1 (de) 1984-10-30 1985-10-29 5-fluoruracilderivate.
DE3588103T DE3588103T2 (de) 1984-10-30 1985-10-29 5-Fluorouracil-Derivate
DE3588036T DE3588036T2 (de) 1984-10-30 1985-10-29 5-Fluoruracilderivate.
EP85113723A EP0180188B1 (en) 1984-10-30 1985-10-29 A composition for increasing the anti-cancer activity of an anti-cancer compound
EP89102313A EP0323441B1 (en) 1984-10-30 1985-10-29 5-Fluorouracil derivatives
EP85113724A EP0180897B1 (en) 1984-10-30 1985-10-29 5-fluorouracil derivatives
EP90124970A EP0436902B1 (en) 1984-10-30 1985-10-29 5-Fluorouracil derivatives
DE8585113723T DE3585869D1 (de) 1984-10-30 1985-10-29 Zusammensetzung zur steigerung der antikrebsaktivitaet einer antikrebsverbindung.
DK198504967A DK174238B1 (da) 1984-10-30 1985-10-29 5-Fluoruracilderivater, deres fremstilling og lægemidler indeholdende sådanne forbindelser
DK198504965A DK175432B1 (da) 1984-10-30 1985-10-29 Middel til forögelse af anticancervirkningen af anticancerforbindelser
KR1019850008045A KR920006824B1 (ko) 1984-10-30 1985-10-30 5-플루오로우라실 유도체의 제조방법
ES549011A ES8708141A1 (es) 1984-10-30 1985-10-30 Procedimiento de preparar derivados 5-fluouracilicos
US06/903,824 US4864021A (en) 1984-10-30 1986-09-03 5-fluorouracil derivatives
ES557309A ES8800213A1 (es) 1984-10-30 1987-01-14 Procedimiento mejorado de obtencion de derivados 5-fluouracilicos
ES557310A ES8800209A1 (es) 1984-10-30 1987-01-14 Metodo de preparacion de derivados fluouracilicos
ES557311A ES8800210A1 (es) 1984-10-30 1987-01-14 Metodo perfeccionado de preparar derivados 5-fluouracilicos
US07/219,521 US4983609A (en) 1984-10-30 1988-07-15 5-fluorouracil derivatives
US07/437,315 US5155113A (en) 1984-10-30 1989-11-17 Composition for increasing the anti-cancer activity of an anti-cancer compound
HK98102172A HK1003112A1 (en) 1984-10-30 1998-03-16 5-fluorouracil derivatives

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59229938A JPS61106593A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61106593A JPS61106593A (ja) 1986-05-24
JPH0157118B2 true JPH0157118B2 (ja) 1989-12-04

Family

ID=16900071

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59229938A Granted JPS61106593A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61106593A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5929699A (ja) * 1982-08-11 1984-02-16 Funai Corp ２′−デオキシ−５−フルオロウリジンのエ−テル誘導体およびその製造方法並びにこれを含有する抗腫瘍剤
JPS6061591A (ja) * 1983-09-14 1985-04-09 Taiho Yakuhin Kogyo Kk ２′―デオキシ―５―フルオロウリジン誘導体及びそれを含む抗腫瘍剤

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5929699A (ja) * 1982-08-11 1984-02-16 Funai Corp ２′−デオキシ−５−フルオロウリジンのエ−テル誘導体およびその製造方法並びにこれを含有する抗腫瘍剤
JPS6061591A (ja) * 1983-09-14 1985-04-09 Taiho Yakuhin Kogyo Kk ２′―デオキシ―５―フルオロウリジン誘導体及びそれを含む抗腫瘍剤

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61106593A (ja) 1986-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3530218B2 (ja) ▲ｎ４▼−アシル−５’−デオキシ−５−フルオロシチジン誘導体の新規製造法
JP4253342B2 (ja) ４’−ｃ−置換−２−ハロアデノシン誘導体
RU2211223C2 (ru) Новые нуклеозиды, имеющие бициклическую сахарную группировку, и содержащие их олигонуклеотиды
US7291726B2 (en) Process for the preparation of 2′-halo-β-L-arabinofuranosyl nucleosides
HU215543B (hu) Fényérzékeny védőcsoportot tartalmazó nukleozidszármazékok, eljárás előállításukra és alkalmazásuk
WO1991019713A1 (en) Pyrimidine nucleoside derivative
EP0180188A2 (en) A composition for increasing the anti-cancer activity of an anti-cancer compound
AU2002303187A1 (en) Process for the preparation of 2'-HALO-Beta-L-arabinofuranosyl nucleosides
JPH0853490A (ja) ２’−デオキシ−２’，２’−ジハロゲノ−４’−チオヌクレオシド
EP0350292B1 (en) Process for preparing 2'-deoxy-beta-adenosine
JPH0157118B2 (ja)
US5175267A (en) Stereoselective glycosylation of hetercyclic bases
JP3046359B2 (ja) Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法
JPH0446244B2 (ja)
JP3165420B2 (ja) Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法
EP0437527A1 (en) Nucleoside derivatives
CA2135498A1 (en) Synthesis of nucleotide monomers
JPH0925289A (ja) ４’−チオアラビノピリミジンヌクレオシドの製造方法
JPS62155215A (ja) 抗腫瘍活性増強剤
JPH07116211B2 (ja) ウラシル誘導体
JPH0564123B2 (ja)
JPH07157496A (ja) デオキシヌクレオシドの製造法
JPS62149696A (ja) ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体
JPS62234020A (ja) 抗腫瘍剤
JPH05163294A (ja) ２−置換アデノシン誘導体および循環器疾患用薬

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term