JP3165420B2 - Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法 - Google Patents
Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法Info
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- JP3165420B2 JP3165420B2 JP2000014691A JP2000014691A JP3165420B2 JP 3165420 B2 JP3165420 B2 JP 3165420B2 JP 2000014691 A JP2000014691 A JP 2000014691A JP 2000014691 A JP2000014691 A JP 2000014691A JP 3165420 B2 JP3165420 B2 JP 3165420B2
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３'−Ｃ−置換リ
ボヌクレオシド誘導体の工業的合成中間体として有用な
新規Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法に関す
る。
ボヌクレオシド誘導体の工業的合成中間体として有用な
新規Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】下記一般式（６）
【０００３】
【化２】
【０００４】（式中、Ｂは置換基を有していてもよい核
酸塩基を示し、Ｚはトリアルキルシリル基で置換されて
いてもよいエチニル基を示す。）で表される３'−Ｃ−
置換リボヌクレオシド誘導体は優れた抗腫瘍活性を有
し、抗腫瘍剤として有用な化合物である（国際出願番号
ＰＣＴ／ＪＰ９５／０２５５４）。
酸塩基を示し、Ｚはトリアルキルシリル基で置換されて
いてもよいエチニル基を示す。）で表される３'−Ｃ−
置換リボヌクレオシド誘導体は優れた抗腫瘍活性を有
し、抗腫瘍剤として有用な化合物である（国際出願番号
ＰＣＴ／ＪＰ９５／０２５５４）。
【０００５】従来、３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘
導体の合成法としては、３'−ケトヌクレオシドに対す
る求核付加反応が知られている（Chem. Pharm. Bull.,3
5,2605(1987)、Tetrahedron,47,1727(1991)）。しか
し、５′位の水酸基を保護した３'−ケトヌクレオシド
に対して求核付加反応を行なうと、キシロースタイプの
ヌクレオシドが生成し、目的とするリボースタイプのヌ
クレオシドはほとんど得られない。また、Tetrahedron
Letters,36,1031-1034(1995)に、５′位の水酸基を保護
しない３'−ケトヌクレオシドに対する求核付加反応を
行なうことにより、目的の３'−Ｃ−置換リボヌクレオ
シドを合成できることが報告されているが、５'−Ｏ−
無置換−３'−ケトヌクレオシドは非常に不安定な化合
物であるため、工業的な合成中間体としては適していな
い。
導体の合成法としては、３'−ケトヌクレオシドに対す
る求核付加反応が知られている（Chem. Pharm. Bull.,3
5,2605(1987)、Tetrahedron,47,1727(1991)）。しか
し、５′位の水酸基を保護した３'−ケトヌクレオシド
に対して求核付加反応を行なうと、キシロースタイプの
ヌクレオシドが生成し、目的とするリボースタイプのヌ
クレオシドはほとんど得られない。また、Tetrahedron
Letters,36,1031-1034(1995)に、５′位の水酸基を保護
しない３'−ケトヌクレオシドに対する求核付加反応を
行なうことにより、目的の３'−Ｃ−置換リボヌクレオ
シドを合成できることが報告されているが、５'−Ｏ−
無置換−３'−ケトヌクレオシドは非常に不安定な化合
物であるため、工業的な合成中間体としては適していな
い。
【０００６】また、３−Ｃ−置換リボフラノース誘導体
とシリル化核酸塩基を非プロトン性溶媒中、ルイス酸存
在下に反応させることにより、目的の３'−Ｃ−置換リ
ボヌクレオシド誘導体が合成できることが報告されてい
る（国際出願番号ＰＣＴ／ＪＰ９５／０２５５４）が、
各中間体を結晶として得ることはできず、カラムクロマ
トグラフィーを用いた精製操作を必要とするため、工業
的合成法としては適さない。更に、この方法では、キシ
ロフラノースの３位の水酸基を酸化して３−ケトフラノ
ースを中間体として経由するが、酸化反応として、通常
ジメチルスルホキシドを用いた酸化反応、あるいはクロ
ム酸を用いた酸化反応が用いられる。このため、ジメチ
ルスルホキシドを用いた場合には悪臭のジメチルスルフ
ィドが生成し、また、クロム酸が有害な重金属であるこ
とから、環境への悪影響が考えられ、好ましくない方法
である。
とシリル化核酸塩基を非プロトン性溶媒中、ルイス酸存
在下に反応させることにより、目的の３'−Ｃ−置換リ
ボヌクレオシド誘導体が合成できることが報告されてい
る（国際出願番号ＰＣＴ／ＪＰ９５／０２５５４）が、
各中間体を結晶として得ることはできず、カラムクロマ
トグラフィーを用いた精製操作を必要とするため、工業
的合成法としては適さない。更に、この方法では、キシ
ロフラノースの３位の水酸基を酸化して３−ケトフラノ
ースを中間体として経由するが、酸化反応として、通常
ジメチルスルホキシドを用いた酸化反応、あるいはクロ
ム酸を用いた酸化反応が用いられる。このため、ジメチ
ルスルホキシドを用いた場合には悪臭のジメチルスルフ
ィドが生成し、また、クロム酸が有害な重金属であるこ
とから、環境への悪影響が考えられ、好ましくない方法
である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、有害な試薬を用いず、経済性に優れ、簡便かつ効率
的に３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体を工業的に
製造するための安定な中間体及びその製造法を提供する
ことにある。
は、有害な試薬を用いず、経済性に優れ、簡便かつ効率
的に３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体を工業的に
製造するための安定な中間体及びその製造法を提供する
ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】斯かる実情において、本
発明者らは鋭意検討した結果、次の一般式（１）、
（２）、（３）及び（４）で表されるＤ−ペントフラノ
ース誘導体が３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体の
合成中間体として有用であることを見出し、本発明を完
成するに至った。
発明者らは鋭意検討した結果、次の一般式（１）、
（２）、（３）及び（４）で表されるＤ−ペントフラノ
ース誘導体が３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体の
合成中間体として有用であることを見出し、本発明を完
成するに至った。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】本発明は、このうち一般式（４）で示され
るＤ−ペントフラノース誘導体を提供するものである。
るＤ−ペントフラノース誘導体を提供するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】前記一般式（１）、（２）及び
（３）中、Ｘ及びＹで示される低級アルキル基として
は、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙
げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基等が挙げられる。このうち、好ましくはメチ
ル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基であ
る。
（３）中、Ｘ及びＹで示される低級アルキル基として
は、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙
げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基等が挙げられる。このうち、好ましくはメチ
ル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基であ
る。
【００１５】前記一般式（３）及び（４）中、Ｚで表さ
れるトリアルキルシリル基が置換していてもよいエチニ
ル基としては、例えば、２−トリメチルシリルエチニル
基、２−トリエチルシリルエチニル基等の２−トリＣ
1-6アルキルシリルエチニル基、エチニル基が挙げられ
る。このうち、好ましくはエチニル基、２−トリメチル
シリルエチニル基、２−トリエチルシリルエチニル基で
あり、より好ましくはエチニル基、２−トリメチルシリ
ルエチニル基である。
れるトリアルキルシリル基が置換していてもよいエチニ
ル基としては、例えば、２−トリメチルシリルエチニル
基、２−トリエチルシリルエチニル基等の２−トリＣ
1-6アルキルシリルエチニル基、エチニル基が挙げられ
る。このうち、好ましくはエチニル基、２−トリメチル
シリルエチニル基、２−トリエチルシリルエチニル基で
あり、より好ましくはエチニル基、２−トリメチルシリ
ルエチニル基である。
【００１６】前記一般式（４）中、Ｒ1で表される脂肪
族低級アシル基としては、例えばホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピ
バロイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基等の炭素
数１〜６の直鎖状又は分枝状の脂肪族低級アシル基が挙
げられる。このうち、好ましくはアセチル基、プロピオ
ニル基、イソブチリル基であり、より好ましくはイソブ
チリル基である。
族低級アシル基としては、例えばホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピ
バロイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基等の炭素
数１〜６の直鎖状又は分枝状の脂肪族低級アシル基が挙
げられる。このうち、好ましくはアセチル基、プロピオ
ニル基、イソブチリル基であり、より好ましくはイソブ
チリル基である。
【００１７】また、置換基を有していてもよいベンゾイ
ル基としては、例えば、ベンゾイル基、ハロゲノベンゾ
イル基、Ｃ1-6アルキルベンゾイル基、Ｃ1-6アルコキシ
ベンゾイル基、ニトロベンゾイル基が挙げられる。この
うち、好ましくはベンゾイル基、４−クロロベンゾイル
基、４−トルオイル基であり、より好ましくはベンゾイ
ル基、４−トルオイル基である。
ル基としては、例えば、ベンゾイル基、ハロゲノベンゾ
イル基、Ｃ1-6アルキルベンゾイル基、Ｃ1-6アルコキシ
ベンゾイル基、ニトロベンゾイル基が挙げられる。この
うち、好ましくはベンゾイル基、４−クロロベンゾイル
基、４−トルオイル基であり、より好ましくはベンゾイ
ル基、４−トルオイル基である。
【００１８】また、低級アルキルオキシカルボニル基と
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシ
カルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキ
シカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７の
直鎖状又は分枝状のアルコキシカルボニル基が挙げられ
る。このうち、好ましくはメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基であり、より好ましくはエトキシカル
ボニル基である。
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシ
カルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキ
シカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７の
直鎖状又は分枝状のアルコキシカルボニル基が挙げられ
る。このうち、好ましくはメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基であり、より好ましくはエトキシカル
ボニル基である。
【００１９】本発明化合物の製造法を以下の反応工程式
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００２０】反応工程式１
【００２１】
【化７】
【００２２】（式中、Ｘ、Ｙ及びＺは前記に同じ。Ｒ2
は脂肪族低級アシル基、置換基を有していてもよいベン
ゾイル基又は低級アルキルオキシカルボニル基を示し、
Ｖはハロゲン原子を示し、Ｗ1及びＷ2は同一又は異なっ
て水素原子又は低級アルコキシ基を示すか又はＷ1とＷ2
は一緒になってオキソ基を示す。）
は脂肪族低級アシル基、置換基を有していてもよいベン
ゾイル基又は低級アルキルオキシカルボニル基を示し、
Ｖはハロゲン原子を示し、Ｗ1及びＷ2は同一又は異なっ
て水素原子又は低級アルコキシ基を示すか又はＷ1とＷ2
は一緒になってオキソ基を示す。）
【００２３】（Ａ工程）上記反応工程式において、Ａ工
程は、一般式（７）で表される従来公知な化合物を塩基
の存在下、適当な溶媒中で４−クロロベンゾイルハライ
ド（８）と反応させることにより、一般式（１）で表さ
れる化合物を得る工程である。
程は、一般式（７）で表される従来公知な化合物を塩基
の存在下、適当な溶媒中で４−クロロベンゾイルハライ
ド（８）と反応させることにより、一般式（１）で表さ
れる化合物を得る工程である。
【００２４】４−クロロベンゾイルハライド（８）にお
いて、Ｖで表されるハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好
ましくは塩素原子又は臭素原子である。
いて、Ｖで表されるハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好
ましくは塩素原子又は臭素原子である。
【００２５】本工程における塩基としては、例えばピリ
ジン、トリエチルアミン、ピペリジン等の有機アミン
類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、酢酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム等が使用でき、好ましくは
ピリジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウムであり、より好ましくはト
リエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウムである。
ジン、トリエチルアミン、ピペリジン等の有機アミン
類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、酢酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム等が使用でき、好ましくは
ピリジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウムであり、より好ましくはト
リエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウムである。
【００２６】本工程で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒等が例示でき、これらを単
独で又は水と混合して使用してもよい。
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒等が例示でき、これらを単
独で又は水と混合して使用してもよい。
【００２７】また、反応を促進させる目的で、４−ジメ
チルアミノピリジン等の有機アミン類を触媒として一般
式（７）の化合物に対し、０．００１〜１当量加えても
よい。
チルアミノピリジン等の有機アミン類を触媒として一般
式（７）の化合物に対し、０．００１〜１当量加えても
よい。
【００２８】反応の割合は、一般式（７）の化合物に対
し、４−クロロベンゾイルハライドを１〜５当量程度、
好ましくは１〜２当量使用するのがよい。反応温度は−
２０〜１００℃、好ましくは０〜４０℃である。反応時
間は通常０．１〜１０時間であり、好ましくは１０分〜
５時間で反応は有利に進行する。
し、４−クロロベンゾイルハライドを１〜５当量程度、
好ましくは１〜２当量使用するのがよい。反応温度は−
２０〜１００℃、好ましくは０〜４０℃である。反応時
間は通常０．１〜１０時間であり、好ましくは１０分〜
５時間で反応は有利に進行する。
【００２９】本工程によって得られた式（１）で表され
る化合物は単離あるいは単離することなく、Ｂ工程に用
いられる。
る化合物は単離あるいは単離することなく、Ｂ工程に用
いられる。
【００３０】（Ｂ工程）Ｂ工程は、一般式（１）で表さ
れる化合物及び一般式（５）で表される化合物を適当な
溶媒に溶解し、次亜塩素酸塩類の水溶液もしくは懸濁液
を無機塩又は無機酸でｐＨ８〜９に調整した液と反応さ
せることにより、一般式（２）で表される化合物を得る
工程である。
れる化合物及び一般式（５）で表される化合物を適当な
溶媒に溶解し、次亜塩素酸塩類の水溶液もしくは懸濁液
を無機塩又は無機酸でｐＨ８〜９に調整した液と反応さ
せることにより、一般式（２）で表される化合物を得る
工程である。
【００３１】ここで、一般式（５）中、Ｗ1及びＷ2で表
される低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、
ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状のアルコキ
シ基が挙げられる。このうち、好ましくはメトキシ基、
エトキシ基であり、より好ましくはメトキシ基である。
される低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、
ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基等の炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状のアルコキ
シ基が挙げられる。このうち、好ましくはメトキシ基、
エトキシ基であり、より好ましくはメトキシ基である。
【００３２】次亜塩素酸塩類としては例えば、次亜塩素
酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム等が挙げられる。
酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム等が挙げられる。
【００３３】本工程で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されず、例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等の酢酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の非
プロトン性極性溶媒等が挙げられる。
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されず、例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等の酢酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の非
プロトン性極性溶媒等が挙げられる。
【００３４】本工程で使用される無機塩としては、例え
ば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げら
れ、無機酸としては、例えば塩酸、硫酸等が挙げられ
る。
ば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げら
れ、無機酸としては、例えば塩酸、硫酸等が挙げられ
る。
【００３５】反応の割合は、一般式（１）で表される化
合物に対し、一般式（５）で表される化合物を０．００
０１〜１当量、好ましくは０．００１〜０．１当量使用
し、次亜塩素酸塩類は１〜１０当量、好ましくは１〜３
当量使用し、ｐＨの調整に用いる無機塩又は無機酸を
０．５〜１００当量、好ましくは１〜５当量使用するの
がよい。
合物に対し、一般式（５）で表される化合物を０．００
０１〜１当量、好ましくは０．００１〜０．１当量使用
し、次亜塩素酸塩類は１〜１０当量、好ましくは１〜３
当量使用し、ｐＨの調整に用いる無機塩又は無機酸を
０．５〜１００当量、好ましくは１〜５当量使用するの
がよい。
【００３６】反応温度は０〜６０℃、好ましくは０〜３
０℃である。反応時間は通常１分〜１０時間であり、好
ましくは１０分〜３時間で反応は有利に進行する。本工
程によって得られた式（２）で表される化合物は単離あ
るいは単離することなく、Ｃ工程に用いられる。
０℃である。反応時間は通常１分〜１０時間であり、好
ましくは１０分〜３時間で反応は有利に進行する。本工
程によって得られた式（２）で表される化合物は単離あ
るいは単離することなく、Ｃ工程に用いられる。
【００３７】（Ｃ工程）Ｃ工程は、一般式（２）で表さ
れる化合物とＺＭｇＶ（９）で表されるグリニヤール試
薬を適当な溶媒中において反応させることにより、一般
式（３）で表される化合物を得る工程である。
れる化合物とＺＭｇＶ（９）で表されるグリニヤール試
薬を適当な溶媒中において反応させることにより、一般
式（３）で表される化合物を得る工程である。
【００３８】ＺＭｇＶ（９）で表されるグリニヤール試
薬は、従来公知の化合物又は従来公知の方法で製造され
る化合物であり、Ｖで表されるハロゲン原子としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げ
られ、好ましくは塩素原子又は臭素原子である。
薬は、従来公知の化合物又は従来公知の方法で製造され
る化合物であり、Ｖで表されるハロゲン原子としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げ
られ、好ましくは塩素原子又は臭素原子である。
【００３９】本工程で使用される溶媒としては、通常グ
リニヤール反応に用いられる溶媒であれば特に限定され
ないが、例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙
げられる。
リニヤール反応に用いられる溶媒であれば特に限定され
ないが、例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙
げられる。
【００４０】反応の割合は一般式（２）で表される化合
物に対し、グリニヤール試薬を１〜１０当量、好ましく
は１〜５当量使用するのがよい。反応温度は−７８℃〜
６０℃、好ましくは−２０℃〜３０℃である。反応時間
は通常５分〜５０時間であり、好ましくは３０分〜２４
時間で反応は有利に進行する。
物に対し、グリニヤール試薬を１〜１０当量、好ましく
は１〜５当量使用するのがよい。反応温度は−７８℃〜
６０℃、好ましくは−２０℃〜３０℃である。反応時間
は通常５分〜５０時間であり、好ましくは３０分〜２４
時間で反応は有利に進行する。
【００４１】本工程によって得られた式（３）で表され
る化合物は単離あるいは単離することなく、Ｄ工程に用
いられる。
る化合物は単離あるいは単離することなく、Ｄ工程に用
いられる。
【００４２】（Ｄ工程）Ｄ工程は、一般式（３）で表さ
れる化合物を適当な溶媒中、酸性化合物存在下で加水分
解を行うことにより、一般式（４−１）で表される化合
物を得る工程である。
れる化合物を適当な溶媒中、酸性化合物存在下で加水分
解を行うことにより、一般式（４−１）で表される化合
物を得る工程である。
【００４３】酸性化合物としては、例えば、ギ酸、酢酸
等のカルボン酸、無水酢酸等の酸無水物、塩化アセチル
等の酸ハロゲン化物、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機
酸等が挙げられる。
等のカルボン酸、無水酢酸等の酸無水物、塩化アセチル
等の酸ハロゲン化物、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機
酸等が挙げられる。
【００４４】本工程で使用される溶媒としては、水又は
水と有機溶媒の混合液が挙げられ、有機溶媒としては、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル等の非プロトン性極性溶媒等が例示できる。
水と有機溶媒の混合液が挙げられ、有機溶媒としては、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル等の非プロトン性極性溶媒等が例示できる。
【００４５】反応の割合は、一般式（３）で表される化
合物に対し、酸性化合物を０．１〜５０００当量、好ま
しくは、１〜２０００当量用いるのがよい。反応温度は
０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃である。反応
時間は通常１０分〜８０時間であり、好ましくは、３０
分〜５０時間で反応は有利に進行する。
合物に対し、酸性化合物を０．１〜５０００当量、好ま
しくは、１〜２０００当量用いるのがよい。反応温度は
０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃である。反応
時間は通常１０分〜８０時間であり、好ましくは、３０
分〜５０時間で反応は有利に進行する。
【００４６】本工程によって得られた式（４−１）で表
される化合物は単離あるいは単離することなく、Ｅ工程
に用いられる。
される化合物は単離あるいは単離することなく、Ｅ工程
に用いられる。
【００４７】（Ｅ工程）Ｅ工程は、一般式（４−１）で
表される化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、酸ハロゲ
ン化物（１０）又は酸無水物（１１）と反応させ、一般
式（４−２）で表される化合物を得る工程である。
表される化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、酸ハロゲ
ン化物（１０）又は酸無水物（１１）と反応させ、一般
式（４−２）で表される化合物を得る工程である。
【００４８】酸ハロゲン化物（１０）及び酸無水物（１
１）のＲ2で表される脂肪族低級アシル基としては、前
記Ｒ1の脂肪族低級アシル基と同様の基が挙げられる。
１）のＲ2で表される脂肪族低級アシル基としては、前
記Ｒ1の脂肪族低級アシル基と同様の基が挙げられる。
【００４９】また、置換基を有していてもよいベンゾイ
ル基としては、前記Ｒ1の置換基を有していてもよいベ
ンゾイル基と同様の基が挙げられる。
ル基としては、前記Ｒ1の置換基を有していてもよいベ
ンゾイル基と同様の基が挙げられる。
【００５０】また、低級アルキルオキシカルボニル基と
しては、前記Ｒ1の低級アルキルオキシカルボニル基と
同様の基が挙げられる。
しては、前記Ｒ1の低級アルキルオキシカルボニル基と
同様の基が挙げられる。
【００５１】酸ハロゲン化物としては、例えば塩化アセ
チル、塩化イソブチリル、塩化ベンゾイル、塩化−ｐ−
トルオイル等が挙げられ、酸無水物としては、例えば無
水酢酸、無水イソ酪酸、無水安息香酸等が挙げられる。
チル、塩化イソブチリル、塩化ベンゾイル、塩化−ｐ−
トルオイル等が挙げられ、酸無水物としては、例えば無
水酢酸、無水イソ酪酸、無水安息香酸等が挙げられる。
【００５２】塩基としては、例えばピリジン、トリエチ
ルアミン、ピペリジン等の有機アミン類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、酢
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げ
られる。
ルアミン、ピペリジン等の有機アミン類、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、酢
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げ
られる。
【００５３】本工程で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒類が例示でき、これらを単
独で又は水と混合して使用してもよい。
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒類が例示でき、これらを単
独で又は水と混合して使用してもよい。
【００５４】また、反応を促進させる目的で、４−ジメ
チルアミノピリジン等の有機アミン類を触媒として一般
式（４−１）で表される化合物に対し、０．００１〜１
当量加えてもよい。
チルアミノピリジン等の有機アミン類を触媒として一般
式（４−１）で表される化合物に対し、０．００１〜１
当量加えてもよい。
【００５５】反応の割合は、一般式（４−１）で表され
る化合物に対し、酸ハロゲン化物又は酸無水物を１〜２
０当量、好ましくは３〜５当量使用するのがよい。
る化合物に対し、酸ハロゲン化物又は酸無水物を１〜２
０当量、好ましくは３〜５当量使用するのがよい。
【００５６】反応温度は−２０〜２００℃、好ましくは
０〜１００℃である。反応時間は通常０．１〜５０時間
であり、好ましくは３０分〜３０時間で反応は有利に進
行する。
０〜１００℃である。反応時間は通常０．１〜５０時間
であり、好ましくは３０分〜３０時間で反応は有利に進
行する。
【００５７】本発明により得られた化合物は通常公知の
分離精製手段、具体的には、再結晶、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
分離精製手段、具体的には、再結晶、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
【００５８】上記の方法で得られた本発明の一般式（４
−２）で表されるＤ−ペントフラノース誘導体は、以下
の工程に示すようにシリル化核酸塩基（１２）をルイス
酸の存在下に反応させ、結晶性のよい中間体を経由し、
更に、塩基の存在下、脱保護反応を行なうことにより、
医薬として有用な３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド類
（６）に誘導される。
−２）で表されるＤ−ペントフラノース誘導体は、以下
の工程に示すようにシリル化核酸塩基（１２）をルイス
酸の存在下に反応させ、結晶性のよい中間体を経由し、
更に、塩基の存在下、脱保護反応を行なうことにより、
医薬として有用な３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド類
（６）に誘導される。
【００５９】反応工程式２
【００６０】
【化８】
【００６１】（式中、Ｒ2、Ｚ及びＢは前記に同じ。Ｕ
はシリル保護基を示す。）
はシリル保護基を示す。）
【００６２】（Ｆ工程）上記反応工程式２において、Ｆ
工程は、本発明の一般式（４−２）で表されるＤ−ペン
トフラノース誘導体と一般式（１２）で表されるシリル
化核酸塩基を非プロトン性溶媒中、ルイス酸の存在下に
反応させ、一般式（１３）で表される化合物を得る工程
である。
工程は、本発明の一般式（４−２）で表されるＤ−ペン
トフラノース誘導体と一般式（１２）で表されるシリル
化核酸塩基を非プロトン性溶媒中、ルイス酸の存在下に
反応させ、一般式（１３）で表される化合物を得る工程
である。
【００６３】尚、上記一般式（１２）で表されるシリル
化核酸塩基は、公知の化合物であり、例えば、Ｃｈｅ
ｍ．Ｂｅｒ．，１１４，１２３４（１９８１）に記載の
Ｖｏｒｂｒｕｇｇｅｎｎらの方法によって得ることがで
きる。
化核酸塩基は、公知の化合物であり、例えば、Ｃｈｅ
ｍ．Ｂｅｒ．，１１４，１２３４（１９８１）に記載の
Ｖｏｒｂｒｕｇｇｅｎｎらの方法によって得ることがで
きる。
【００６４】ＢＵで表されるシリル化核酸塩基（１２）
において、Ｂで表される核酸塩基としては、例えば、シ
トシン、チミン、ウラシル等のピリミジン塩基、アデニ
ン、グアニン等のプリン塩基が挙げられ、Ｕで表される
シリル保護基としては、例えば、トリメチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルジイソプロ
ピルシリル基、トリイソプロピルシリル基等が挙げられ
る。
において、Ｂで表される核酸塩基としては、例えば、シ
トシン、チミン、ウラシル等のピリミジン塩基、アデニ
ン、グアニン等のプリン塩基が挙げられ、Ｕで表される
シリル保護基としては、例えば、トリメチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルジイソプロ
ピルシリル基、トリイソプロピルシリル基等が挙げられ
る。
【００６５】ルイス酸としては、例えば、四塩化スズ、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、三
塩化アルミニウム、四塩化チタン等が挙げられる。
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、三
塩化アルミニウム、四塩化チタン等が挙げられる。
【００６６】本工程で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されず、例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒類等が例示できる。
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されず、例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の非プロトン性極性溶媒類等が例示できる。
【００６７】反応の割合は、一般式（４−２）で表され
る化合物に対し、一般式（１２）の化合物を１〜１０当
量、好ましくは１〜５当量、ルイス酸を１〜１２当量、
好ましくは１〜７当量使用するのがよい。反応温度は０
〜１２０℃、好ましくは１０〜９０℃である。反応時間
は通常０．１〜１５０時間であり、好ましくは０．５〜
８０時間で反応は有利に進行する。
る化合物に対し、一般式（１２）の化合物を１〜１０当
量、好ましくは１〜５当量、ルイス酸を１〜１２当量、
好ましくは１〜７当量使用するのがよい。反応温度は０
〜１２０℃、好ましくは１０〜９０℃である。反応時間
は通常０．１〜１５０時間であり、好ましくは０．５〜
８０時間で反応は有利に進行する。
【００６８】本工程によって得られた式（１３）で表さ
れる化合物は単離あるいは単離することなく、Ｇ工程に
用いられる。 （Ｇ工程）
れる化合物は単離あるいは単離することなく、Ｇ工程に
用いられる。 （Ｇ工程）
【００６９】Ｇ工程は、一般式（１３）で表される化合
物を適当な溶媒中、塩基存在下、脱保護反応を行なうこ
とにより、一般式（６）で表される化合物を得る工程で
ある。
物を適当な溶媒中、塩基存在下、脱保護反応を行なうこ
とにより、一般式（６）で表される化合物を得る工程で
ある。
【００７０】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のナトリウムア
ルコラート、トリエチルアミン、アンモニア等のアンモ
ニウム誘導体が挙げられる。
水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のナトリウムア
ルコラート、トリエチルアミン、アンモニア等のアンモ
ニウム誘導体が挙げられる。
【００７１】本工程で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸
エチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケ
トン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の非プ
ロトン性極性溶媒類、メタノール、エタノール等の低級
アルコール類、水等が例示でき、これらを単独で又は混
合して使用してもよい。
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えばエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸
エチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケ
トン等のアルキルケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の非プ
ロトン性極性溶媒類、メタノール、エタノール等の低級
アルコール類、水等が例示でき、これらを単独で又は混
合して使用してもよい。
【００７２】反応の割合は一般式（１３）で表される化
合物に対し、塩基性化合物を０．００１〜１００モル量
使用するのがよい。反応温度は０〜１００℃、好ましく
は０〜７０℃で行なわれ、反応時間は通常５分〜１００
時間であり、好ましくは１５分〜６０時間で反応は有利
に進行する。
合物に対し、塩基性化合物を０．００１〜１００モル量
使用するのがよい。反応温度は０〜１００℃、好ましく
は０〜７０℃で行なわれ、反応時間は通常５分〜１００
時間であり、好ましくは１５分〜６０時間で反応は有利
に進行する。
【００７３】
【実施例】本発明化合物の製造法を実施例として挙げ、
次に３'−Ｃ−トリメチルシリルエチニルヌクレオシド
類及び３'−Ｃ−エチニルヌクレオシド類の製造例を参
考例として挙げる。
次に３'−Ｃ−トリメチルシリルエチニルヌクレオシド
類及び３'−Ｃ−エチニルヌクレオシド類の製造例を参
考例として挙げる。
【００７４】実施例１ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２−Ｏ−イソ
プロピリデン−α−Ｄ−キシロフラノースの製造：ジク
ロロメタン１．５Lに１，２−Ｏ−イソプロピリデン−
α−Ｄ−キシロフラノース１５４ｇ（８１０mmol）及び
トリエチルアミン３３９ml（２．４３mol）を溶解し、
０℃に冷却した。４−クロロベンゾイルクロライド１１
３ml（８９１mmol）を滴下し、氷冷下２時間攪拌した。
反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水５００mlを加え分液
した。ジクロロメタン層を２回水洗した後、飽和食塩水
で洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下溶媒留去した。残渣を、ｎ−ヘキサン
−クロロホルム（１０：１）１．６Lより結晶化させ、
標記化合物１９６ｇ（７４％）を淡黄色粉末として得
た。
プロピリデン−α−Ｄ−キシロフラノースの製造：ジク
ロロメタン１．５Lに１，２−Ｏ−イソプロピリデン−
α−Ｄ−キシロフラノース１５４ｇ（８１０mmol）及び
トリエチルアミン３３９ml（２．４３mol）を溶解し、
０℃に冷却した。４−クロロベンゾイルクロライド１１
３ml（８９１mmol）を滴下し、氷冷下２時間攪拌した。
反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水５００mlを加え分液
した。ジクロロメタン層を２回水洗した後、飽和食塩水
で洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下溶媒留去した。残渣を、ｎ−ヘキサン
−クロロホルム（１０：１）１．６Lより結晶化させ、
標記化合物１９６ｇ（７４％）を淡黄色粉末として得
た。
【００７５】ｍｐ：１０１〜１０２℃ FAB-MS：ＮａＩ添加、３５１(M+Na)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.99(2H,d,J=8.8Hz), 7.44(2H,d,J=
8.8Hz),5.96(1H,d,J=3.7Hz), 4.79(1H,dd,J=9.3Hz,13.1
Hz), 4.60(1H,d,J=3.7Hz),4.37-4.41(2H,m), 4.18(1H,b
rs), 3.05(1H,d,J=3.9Hz,exchanged with D２O),1.51(3
H,s),1.33(3H,s)
8.8Hz),5.96(1H,d,J=3.7Hz), 4.79(1H,dd,J=9.3Hz,13.1
Hz), 4.60(1H,d,J=3.7Hz),4.37-4.41(2H,m), 4.18(1H,b
rs), 3.05(1H,d,J=3.9Hz,exchanged with D２O),1.51(3
H,s),1.33(3H,s)
【００７６】実施例２ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２−Ｏ−イソ
プロピリデン−α−Ｄ−エリスロ−ペントフラノース−
３−ウロースの製造：ジクロロメタン９９０mlに実施例
１で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２−
Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−キシロフラノース１９
５ｇ（５９３mmol）及び、２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジノオキシ９３７mg（５．９３mmol）を溶解
し、氷冷した。この溶液に次亜塩素酸ナトリウム水溶液
（8.5〜13.5％活性塩素）３３６ml、炭酸水素ナトリウ
ム１１２ｇ及び水１．９Lの混合溶液を一度に加え、氷
冷下、３０分攪拌した。反応液に２−プロパノール１
９．５mlを加え、１０分攪拌した後、分液した。ジクロ
ロメタン層を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。濾過後、溶媒を留去し、ｎ−ヘキサン−クロロホ
ルム（１０：１）１．６Lより結晶化させた。析出した
結晶を瀘取し、標記化合物１７１ｇ（８８％）を白色粉
末状物質として得た。
プロピリデン−α−Ｄ−エリスロ−ペントフラノース−
３−ウロースの製造：ジクロロメタン９９０mlに実施例
１で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２−
Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−キシロフラノース１９
５ｇ（５９３mmol）及び、２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジノオキシ９３７mg（５．９３mmol）を溶解
し、氷冷した。この溶液に次亜塩素酸ナトリウム水溶液
（8.5〜13.5％活性塩素）３３６ml、炭酸水素ナトリウ
ム１１２ｇ及び水１．９Lの混合溶液を一度に加え、氷
冷下、３０分攪拌した。反応液に２−プロパノール１
９．５mlを加え、１０分攪拌した後、分液した。ジクロ
ロメタン層を２回水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。濾過後、溶媒を留去し、ｎ−ヘキサン−クロロホ
ルム（１０：１）１．６Lより結晶化させた。析出した
結晶を瀘取し、標記化合物１７１ｇ（８８％）を白色粉
末状物質として得た。
【００７７】ｍｐ：１１１〜１１２℃ FAB-MS：３２７(M+H)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.89(2H,d,J=8.5Hz), 7.42(2H,d,J=
8.5Hz),6.12(1H,d,J=4.4Hz), 4.68-4.73(2H,m), 4.46(1
H,dd,J=5.1Hz,13.1Hz),4.41(1H,d,J=4.4Hz), 1.52(3H,
s), 1.44(3H,s)
8.5Hz),6.12(1H,d,J=4.4Hz), 4.68-4.73(2H,m), 4.46(1
H,dd,J=5.1Hz,13.1Hz),4.41(1H,d,J=4.4Hz), 1.52(3H,
s), 1.44(3H,s)
【００７８】実施例３ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−ト
リメチルシリルエチニル）−１，２−Ｏ−イソプロピリ
デン−α−Ｄ−リボフラノースの製造：アルゴン雰囲気
下、テトラヒドロフラン１２０mlにトリメチルシリルア
セチレン８．８ml（６２．３mmol）を溶解し、０℃で攪
拌した。この溶液に０．９３Ｍエチルマグネシウムブロ
マイドのテトラヒドロフラン溶液６５．８ml（６１．２
mmol）を７分かけて滴下した。氷冷下、１時間攪拌した
後、テトラヒドロフラン６０mlに溶解した５−Ｏ−（４
−クロロベンゾイル）−１，２−Ｏ−イソプロピリデン
−α−Ｄ−エリスロ−ペントフラノース−３−ウロース
１０．０ｇ（３０．６mmol）を滴下し、さらに３時間攪
拌した。反応液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液１２０ml
を加えた後、室温に戻した。分液した後、テトラヒドロ
フラン層を飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ml×２）
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒
を留去し、残渣をメタノール−水（１：１）１２０mlで
結晶化した。得られた黄色の粗製標記化合物を減圧下乾
燥した後、ｎ−ヘキサン２００mlに懸濁し、室温下１時
間攪拌した。結晶を瀘取し、標記化合物６．９４ｇ（５
３％）を白色粉末として得た。
リメチルシリルエチニル）−１，２−Ｏ−イソプロピリ
デン−α−Ｄ−リボフラノースの製造：アルゴン雰囲気
下、テトラヒドロフラン１２０mlにトリメチルシリルア
セチレン８．８ml（６２．３mmol）を溶解し、０℃で攪
拌した。この溶液に０．９３Ｍエチルマグネシウムブロ
マイドのテトラヒドロフラン溶液６５．８ml（６１．２
mmol）を７分かけて滴下した。氷冷下、１時間攪拌した
後、テトラヒドロフラン６０mlに溶解した５−Ｏ−（４
−クロロベンゾイル）−１，２−Ｏ−イソプロピリデン
−α−Ｄ−エリスロ−ペントフラノース−３−ウロース
１０．０ｇ（３０．６mmol）を滴下し、さらに３時間攪
拌した。反応液に１Ｎ塩化アンモニウム水溶液１２０ml
を加えた後、室温に戻した。分液した後、テトラヒドロ
フラン層を飽和塩化ナトリウム水溶液（２００ml×２）
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒
を留去し、残渣をメタノール−水（１：１）１２０mlで
結晶化した。得られた黄色の粗製標記化合物を減圧下乾
燥した後、ｎ−ヘキサン２００mlに懸濁し、室温下１時
間攪拌した。結晶を瀘取し、標記化合物６．９４ｇ（５
３％）を白色粉末として得た。
【００７９】ｍｐ：１３０〜１３２℃ EI-MS：４２５(M)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：8.02(2H,d,J=8.5Hz), 7.41(2H,d,J=
8.5Hz),5.95(1H,d,J=3.9Hz), 4.74(1H,dd,J=3.6Hz,12.0
Hz), 4.17(1H,d,J=3.9Hz),4.53(1H,dd,J=7.8Hz,12.0H
z), 4.17(1H,dd,J=3.6Hz,7.8Hz),2.93(1H,s,exchanged
with D２O), 1.60(3H,s), 1.39(3H,s), 0.19(9H,s)
8.5Hz),5.95(1H,d,J=3.9Hz), 4.74(1H,dd,J=3.6Hz,12.0
Hz), 4.17(1H,d,J=3.9Hz),4.53(1H,dd,J=7.8Hz,12.0H
z), 4.17(1H,dd,J=3.6Hz,7.8Hz),2.93(1H,s,exchanged
with D２O), 1.60(3H,s), 1.39(3H,s), 0.19(9H,s)
【００８０】実施例４ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−リボフラノ
ースの製造：アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン２
６mlに実施例２で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−エリス
ロ−ペントフラノース−３−ウロース６．５２ｇ（２
０．０mmol）を溶解し、０℃で攪拌した。この溶液に
０．５Ｍエチニルマグネシウムブロマイドのテトラヒド
ロフラン溶液５０．０ml（２５．０mmol）を滴下した。
氷冷下、４０分攪拌した後、反応液に１５％塩化アンモ
ニウム水溶液１６mlを加え、室温に戻した。分液した
後、テトラヒドロフラン層を２５％塩化ナトリウム水溶
液（１６ml×１）で洗浄し、溶媒を留去した。残渣をイ
ソプロパノール１５mlに溶解し、この溶液を水１５mlに
滴下し、結晶化させた。析出した結晶を瀘取し、標記化
合物６．２８ｇ（８９％）を白色粉末として得た。
−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−リボフラノ
ースの製造：アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン２
６mlに実施例２で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−エリス
ロ−ペントフラノース−３−ウロース６．５２ｇ（２
０．０mmol）を溶解し、０℃で攪拌した。この溶液に
０．５Ｍエチニルマグネシウムブロマイドのテトラヒド
ロフラン溶液５０．０ml（２５．０mmol）を滴下した。
氷冷下、４０分攪拌した後、反応液に１５％塩化アンモ
ニウム水溶液１６mlを加え、室温に戻した。分液した
後、テトラヒドロフラン層を２５％塩化ナトリウム水溶
液（１６ml×１）で洗浄し、溶媒を留去した。残渣をイ
ソプロパノール１５mlに溶解し、この溶液を水１５mlに
滴下し、結晶化させた。析出した結晶を瀘取し、標記化
合物６．２８ｇ（８９％）を白色粉末として得た。
【００８１】ｍｐ：１３６〜１３７℃ FAB-MS：ＫＩ添加、３９１(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：8.01(2H,d,J=8.6Hz), 7.41(2H,d,J=
8.6Hz),5.95(1H,d,J=3.6Hz), 4.55-4.76(3H,m), 4.15-
4.20(1H,m), 3.01(1H,brs),2.65(1H,s),1.61(3H,s), 1.
46(3H,s)
8.6Hz),5.95(1H,d,J=3.6Hz), 4.55-4.76(3H,m), 4.15-
4.20(1H,m), 3.01(1H,brs),2.65(1H,s),1.61(3H,s), 1.
46(3H,s)
【００８２】実施例５ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−ト
リメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラノースの製
造：酢酸３２０ml、水８０mlの混合液に実施例３で得た
５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−ト
リメチルシリルエチニル）−１，２−Ｏ−イソプロピリ
デン−α−Ｄ−リボフラノース２０．０ｇ（４７．１mm
ol）を懸濁し、１００℃で１３時間加熱還流した。得ら
れた溶液を冷却した後、溶媒を減圧下留去した。得られ
た残渣をメタノール１５０mlに溶解し、攪拌下、水１８
０mlを加えた。析出した結晶を瀘取し、標記化合物１
２．０ｇ（収率６６．２％）を白色粉末として得た。
リメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラノースの製
造：酢酸３２０ml、水８０mlの混合液に実施例３で得た
５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−ト
リメチルシリルエチニル）−１，２−Ｏ−イソプロピリ
デン−α−Ｄ−リボフラノース２０．０ｇ（４７．１mm
ol）を懸濁し、１００℃で１３時間加熱還流した。得ら
れた溶液を冷却した後、溶媒を減圧下留去した。得られ
た残渣をメタノール１５０mlに溶解し、攪拌下、水１８
０mlを加えた。析出した結晶を瀘取し、標記化合物１
２．０ｇ（収率６６．２％）を白色粉末として得た。
【００８３】ｍｐ：１３０〜１３２℃ FAB-MS：３８５(M+H)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.98(2H,d,J=8.5Hz), 7.43(2H,d,J=
8.5Hz),5.47-5.51(1H,dd,J=4.4Hz,8.7Hz), 4.46-4.63(3
H,m),4.24(1H,dd,J=4.4Hz,6.8Hz), 3.58(1H,d,J=6.8H
z), 3.13(1H,s),3.07(1H,d,J=8.7Hz), 0.15(9H,s)
8.5Hz),5.47-5.51(1H,dd,J=4.4Hz,8.7Hz), 4.46-4.63(3
H,m),4.24(1H,dd,J=4.4Hz,6.8Hz), 3.58(1H,d,J=6.8H
z), 3.13(1H,s),3.07(1H,d,J=8.7Hz), 0.15(9H,s)
【００８４】実施例６ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−Ｄ−リボフラノースの製造：酢酸４８０ml、水１２０
mlの混合液に実施例４で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，２−Ｏ−イソプロピ
リデン−α−Ｄ−リボフラノース３０．０ｇ（８５．０
mmol）を溶解し、４時間加熱還流した。反応液を冷却し
た後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣に水１５０
mlを加え、室温で３時間攪拌した。析出した結晶を瀘取
した。乾燥した粗結晶をイソプロピルエーテルに懸濁
し、３０分攪拌した。結晶を濾取し、減圧下乾燥し、標
記化合物１７．３ｇ（収率６５．１％）を白色粉末とし
て得た。
−Ｄ−リボフラノースの製造：酢酸４８０ml、水１２０
mlの混合液に実施例４で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，２−Ｏ−イソプロピ
リデン−α−Ｄ−リボフラノース３０．０ｇ（８５．０
mmol）を溶解し、４時間加熱還流した。反応液を冷却し
た後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣に水１５０
mlを加え、室温で３時間攪拌した。析出した結晶を瀘取
した。乾燥した粗結晶をイソプロピルエーテルに懸濁
し、３０分攪拌した。結晶を濾取し、減圧下乾燥し、標
記化合物１７．３ｇ（収率６５．１％）を白色粉末とし
て得た。
【００８５】ｍｐ：１１６〜１１７．５℃ FAB-MS：ＫＩ添加、３５１(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.98(2H,d,J=8.8Hz), 7.43(2H,d,J=
8.8Hz),5.47-5.51(1H,m), 4.50-4.68(3H,m), 4.26(1H,
t,J=4.9Hz),3.69(1H,d,J=8.3Hz), 3.34(1H,s), 3.19(1
H,d,J=4.9Hz), 2.66(1H,s)
8.8Hz),5.47-5.51(1H,m), 4.50-4.68(3H,m), 4.26(1H,
t,J=4.9Hz),3.69(1H,d,J=8.3Hz), 3.34(1H,s), 3.19(1
H,d,J=4.9Hz), 2.66(1H,s)
【００８６】実施例７ １，２，３，５−Ｏ−テトラ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−
α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン２
８０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ
−リボフラノース２２ｇ（５７．２mmol）及び、４−ジ
メチルアミノピリジン２１０mg（１．７２mmol）を溶解
した。トリエチルアミン３３．５ml（２４０mmol）を加
え、氷冷した後、４−クロロベンゾイルクロライド２
９．１ml（２２９mmol）を加え、室温に戻し、１時間攪
拌した。水２２０mlを加え、１５分攪拌した後、分液し
た。ジクロロメタン層を水で２回、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で１回洗浄し、さらに水で１回洗浄した。ジ
クロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過
後、減圧下溶媒を留去した。残渣にイソプロピルエーテ
ル１００mlを加え、不溶物を瀘去した。瀘液を溶媒留去
した後、エタノール８００mlに溶解した。このエタノー
ル溶液を室温下、攪拌しながら水（１．１L）中に加え
た。析出した粉末を瀘取し、減圧下乾燥し標記化合物３
９．９ｇ（収率８７％）を淡黄色粉末として得た。
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−
α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン２
８０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ
−リボフラノース２２ｇ（５７．２mmol）及び、４−ジ
メチルアミノピリジン２１０mg（１．７２mmol）を溶解
した。トリエチルアミン３３．５ml（２４０mmol）を加
え、氷冷した後、４−クロロベンゾイルクロライド２
９．１ml（２２９mmol）を加え、室温に戻し、１時間攪
拌した。水２２０mlを加え、１５分攪拌した後、分液し
た。ジクロロメタン層を水で２回、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で１回洗浄し、さらに水で１回洗浄した。ジ
クロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過
後、減圧下溶媒を留去した。残渣にイソプロピルエーテ
ル１００mlを加え、不溶物を瀘去した。瀘液を溶媒留去
した後、エタノール８００mlに溶解した。このエタノー
ル溶液を室温下、攪拌しながら水（１．１L）中に加え
た。析出した粉末を瀘取し、減圧下乾燥し標記化合物３
９．９ｇ（収率８７％）を淡黄色粉末として得た。
【００８７】ｍｐ：６７〜６９℃ FAB-MS：ＮａＩ添加、８２３(M+Na)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：7.75-8.07(8H,m),7.20-7.46(8H,
m),6.92(0.55H,d,J=4.4Hz),6.55(0.45H,s),6.26(0.45H,
s),6.11(0.55H,d,J=4.4Hz),4.73-5.09(3H,m),0.17(4.05
H,s),0.12(4.95H,s) αアノマー：βアノマー＝５５：４５
m),6.92(0.55H,d,J=4.4Hz),6.55(0.45H,s),6.26(0.45H,
s),6.11(0.55H,d,J=4.4Hz),4.73-5.09(3H,m),0.17(4.05
H,s),0.12(4.95H,s) αアノマー：βアノマー＝５５：４５
【００８８】実施例８ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２，３−トリ
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジク
ロロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチ
ニル）−Ｄ−リボフラノース２．００ｇ（５．２０mmo
l）を溶解し、トリエチルアミン２．１０ｇ（２０．８m
mol）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン１
９mg（０．１６mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１
mlを加え、氷冷した後、イソブチリルクロライド２．１
７ml（２０．８mmol）を加えて室温に戻し５時間攪拌し
た。反応液にメタノール３０mlを加え、４０分攪拌後、
ジクロロメタン３０ml及び水５０mlを加え、分液した。
水層を更にジクロロメタン３０mlで抽出し、ジクロロメ
タン層を合わせて１０％炭酸水素ナトリウム水で２回、
２５％食塩水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン）で精製し、標記化合物２．６８ｇ（収率８７
％）を無色油状物質として得た。
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジク
ロロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチ
ニル）−Ｄ−リボフラノース２．００ｇ（５．２０mmo
l）を溶解し、トリエチルアミン２．１０ｇ（２０．８m
mol）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン１
９mg（０．１６mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１
mlを加え、氷冷した後、イソブチリルクロライド２．１
７ml（２０．８mmol）を加えて室温に戻し５時間攪拌し
た。反応液にメタノール３０mlを加え、４０分攪拌後、
ジクロロメタン３０ml及び水５０mlを加え、分液した。
水層を更にジクロロメタン３０mlで抽出し、ジクロロメ
タン層を合わせて１０％炭酸水素ナトリウム水で２回、
２５％食塩水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン）で精製し、標記化合物２．６８ｇ（収率８７
％）を無色油状物質として得た。
【００８９】FAB-MS：ＫＩ添加、６３３(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：8.01-8.05(2H,m),7.41-7.45(2H,m),
6.52(0.5H,d,J=4.6Hz), 6.10(0.5H,s), 5.75(0.5H,s),
5.71(0.5H,d,J=4.6Hz), 4.57-4.79(3H,m), 2.51-2.65(3
H,m),1.12-1.22(18H,m), 0.15(4.5H,s), 0.09(4.5H,s) αアノマー：βアノマー＝５：５
6.52(0.5H,d,J=4.6Hz), 6.10(0.5H,s), 5.75(0.5H,s),
5.71(0.5H,d,J=4.6Hz), 4.57-4.79(3H,m), 2.51-2.65(3
H,m),1.12-1.22(18H,m), 0.15(4.5H,s), 0.09(4.5H,s) αアノマー：βアノマー＝５：５
【００９０】実施例９ １，２，３−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（４−ク
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエ
チニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロ
ロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロ
ベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニ
ル）−Ｄ−リボフラノース２．００ｇ（５．２０mmol）
を溶解し、トリエチルアミン２．１０ｇ（２０．８mmo
l）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン２０m
g（０．１６mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１ml
を加え、氷冷した後、ベンゾイルクロライド２．１１ml
（１８．２mmol）を加えて室温に戻し３時間攪拌した。
反応液に水２５mlを加え、３０分攪拌後、分液した。ジ
クロロメタン層を水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水
で１回、水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン）で精製した後、エタノール−水より粉末化し、標
記化合物２．８１ｇ（収率７７．５％）を無色粉末とし
て得た。
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエ
チニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロ
ロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロ
ベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニ
ル）−Ｄ−リボフラノース２．００ｇ（５．２０mmol）
を溶解し、トリエチルアミン２．１０ｇ（２０．８mmo
l）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン２０m
g（０．１６mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１ml
を加え、氷冷した後、ベンゾイルクロライド２．１１ml
（１８．２mmol）を加えて室温に戻し３時間攪拌した。
反応液に水２５mlを加え、３０分攪拌後、分液した。ジ
クロロメタン層を水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム水
で１回、水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン）で精製した後、エタノール−水より粉末化し、標
記化合物２．８１ｇ（収率７７．５％）を無色粉末とし
て得た。
【００９１】ｍｐ：６３〜６６℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７３５(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.11-7.30(19H,m), 6.93(0.6H,d,J
=4.6Hz),6.60(0.4H,s), 6.15(0.6H,d,J=4.6Hz), 6.12
(0.4H,s),5.27(0.6H,t,J=4.1Hz), 5.21(0.4H,dd,J=6.7H
z,5.1Hz), 4.70-4.92(2H,m),0.11(3.6H,s), 0.03(5.4H,
s) αアノマー：βアノマー＝６：４
=4.6Hz),6.60(0.4H,s), 6.15(0.6H,d,J=4.6Hz), 6.12
(0.4H,s),5.27(0.6H,t,J=4.1Hz), 5.21(0.4H,dd,J=6.7H
z,5.1Hz), 4.70-4.92(2H,m),0.11(3.6H,s), 0.03(5.4H,
s) αアノマー：βアノマー＝６：４
【００９２】実施例１０ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２，３−トリ
−Ｏ−（４−トルオイル）−３−Ｃ−（２−トリメチル
シリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製
造：ジクロロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−
（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチル
シリルエチニル）−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ
（２．６０mmol）を溶解し、トリエチルアミン１．０５
ｇ（１０．４mmol）を加えた。これに４−ジメチルアミ
ノピリジン１０mg（０．０８mmol）を加え、氷冷した
後、４−トルオイルクロライド１．２０ml（９．１０mm
ol）を加えて室温に戻し２時間攪拌した。反応液に水２
０mlを加え、４０分攪拌後、ジクロロメタン３０ml及び
水３０mlを加え、分液した。ジクロロメタン層を水で１
回、１０％炭酸水素ナトリウム水で１回、水で１回洗浄
した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ジクロロメタン）で精製し、エタ
ノール−水より粉末化し、標記化合物１．４６ｇ（収率
７６％）を無色粉末として得た。
−Ｏ−（４−トルオイル）−３−Ｃ−（２−トリメチル
シリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラノースの製
造：ジクロロメタン３０mlに実施例５で得た５−Ｏ−
（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチル
シリルエチニル）−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ
（２．６０mmol）を溶解し、トリエチルアミン１．０５
ｇ（１０．４mmol）を加えた。これに４−ジメチルアミ
ノピリジン１０mg（０．０８mmol）を加え、氷冷した
後、４−トルオイルクロライド１．２０ml（９．１０mm
ol）を加えて室温に戻し２時間攪拌した。反応液に水２
０mlを加え、４０分攪拌後、ジクロロメタン３０ml及び
水３０mlを加え、分液した。ジクロロメタン層を水で１
回、１０％炭酸水素ナトリウム水で１回、水で１回洗浄
した。ジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ジクロロメタン）で精製し、エタ
ノール−水より粉末化し、標記化合物１．４６ｇ（収率
７６％）を無色粉末として得た。
【００９３】ｍｐ：６２．５〜６６．０℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７７７(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.10-7.12(16H,m),6.88(0.65H,d,J
=4.6Hz),6.54(0.35H,s), 6.09(0.65H,d,J=4.6Hz), 6.07
(0.35H,s),5.22(0.65H,t,J=4.3Hz), 5.16(0.35H,dd,J=
5.0Hz,6.7Hz), 4.68-4.90(2H,m),2.32-2.43(9H,m), 0.1
1(3.15H,s), 0.03(5.85H,s) αアノマー：βアノマー＝６５：３５
=4.6Hz),6.54(0.35H,s), 6.09(0.65H,d,J=4.6Hz), 6.07
(0.35H,s),5.22(0.65H,t,J=4.3Hz), 5.16(0.35H,dd,J=
5.0Hz,6.7Hz), 4.68-4.90(2H,m),2.32-2.43(9H,m), 0.1
1(3.15H,s), 0.03(5.85H,s) αアノマー：βアノマー＝６５：３５
【００９４】実施例１１ １，２，３−トリ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボ
フラノースの製造：ジクロロメタン１５mlに実施例６で
得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチ
ニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．２０mmol）
を懸濁し、トリエチルアミン１．３０ｇ（１２．８mmo
l）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン１２m
g（０．０９８mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１m
lを加え、氷冷した後、アセチルクロライド０．９０ml
（１２．８mmol）を加えて室温に戻し５時間攪拌した。
反応液にジクロロメタン２０ml及び水１０mlを加え、３
０分攪拌後、分液した。ジクロロメタン層を水、１５％
塩化アンモニウム水、及び２５％食塩水で洗浄した。ジ
クロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：３）で精
製し、標記化合物１．２３ｇ（収率８８％）を無色油状
物質として得た。
ロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボ
フラノースの製造：ジクロロメタン１５mlに実施例６で
得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチ
ニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．２０mmol）
を懸濁し、トリエチルアミン１．３０ｇ（１２．８mmo
l）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリジン１２m
g（０．０９８mmol）を溶解したジクロロメタン溶液１m
lを加え、氷冷した後、アセチルクロライド０．９０ml
（１２．８mmol）を加えて室温に戻し５時間攪拌した。
反応液にジクロロメタン２０ml及び水１０mlを加え、３
０分攪拌後、分液した。ジクロロメタン層を水、１５％
塩化アンモニウム水、及び２５％食塩水で洗浄した。ジ
クロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：３）で精
製し、標記化合物１．２３ｇ（収率８８％）を無色油状
物質として得た。
【００９５】FAB-MS：ＫＩ添加、４７７(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.99-8.05(2H,m), 7.42-7.99(2H,m), 6.52(0.6H,d,J=4.6Hz), 6.14(0.4H,s), 5.81(0.4H,s),
5.74(0.6H,d,J=4.4Hz), 4.66-4.78(3H,m), 2.78(0.4H,
s),2.72(0.6H,s), 2.04-2.14(9H,m) αアノマー：βアノマー＝６：４
5.74(0.6H,d,J=4.4Hz), 4.66-4.78(3H,m), 2.78(0.4H,
s),2.72(0.6H,s), 2.04-2.14(9H,m) αアノマー：βアノマー＝６：４
【００９６】実施例１２ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−プロピオニル−α，β−Ｄ−
リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例
６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．２０mm
ol）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mm
ol）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、プロピオニルクロライド０．９７
ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌し
た。反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌
した後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml
及び水４０mlを加え分液した。酢酸エチル層を飽和炭酸
水素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エチ
ル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、標記
化合物１．０ｇ（収率６４％）を淡黄色油状物質として
得た。
−１，２，３−トリ−Ｏ−プロピオニル−α，β−Ｄ−
リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例
６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．２０mm
ol）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mm
ol）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、プロピオニルクロライド０．９７
ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌し
た。反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌
した後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml
及び水４０mlを加え分液した。酢酸エチル層を飽和炭酸
水素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エチ
ル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、標記
化合物１．０ｇ（収率６４％）を淡黄色油状物質として
得た。
【００９７】FAB-MS：ＫＩ添加、５１９(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：7.97-8.02(2H,m), 7.61-7.66(2H,
m), 6.45(0.7H,d,J=4.4Hz), 6.09(0.3H,s), 5.61(0.7H,d,J=
4.4Hz),5.58(0.3H,s), 4.55-4.70(3H,m), 4.07(0.3H,
s), 3.99(0.7H,s),2.32-2.45(6H,m), 1.00-1.07(9H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
m), 6.45(0.7H,d,J=4.4Hz), 6.09(0.3H,s), 5.61(0.7H,d,J=
4.4Hz),5.58(0.3H,s), 4.55-4.70(3H,m), 4.07(0.3H,
s), 3.99(0.7H,s),2.32-2.45(6H,m), 1.00-1.07(9H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
【００９８】実施例１３ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−α，β−Ｄ−
リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例
６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
エチニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ（３．２０mmo
l）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mmo
l）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、イソブチリルクロライド１．１７
ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌し
た。反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌
した後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml
及び水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル層を飽和炭
酸水素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エ
チル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、標
記化合物１．３７ｇ（収率８２％）を無色油状物質とし
て得た。
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−α，β−Ｄ−
リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例
６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
エチニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ（３．２０mmo
l）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mmo
l）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、イソブチリルクロライド１．１７
ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌し
た。反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌
した後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml
及び水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル層を飽和炭
酸水素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エ
チル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、標
記化合物１．３７ｇ（収率８２％）を無色油状物質とし
て得た。
【００９９】FAB-MS：ＫＩ添加、５６１(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：8.06-7.99(2H,m), 7.41-7.45(2H,m),
6.54(0.7H,d,J=4.6Hz), 6.12(0.3H,d,J=1.2Hz), 5.78
(0.3H,d,J=1.2Hz),5.71(0.7H,d,J=4.6Hz), 4.60-4.80(3
H,m), 2.77(0.3H,s), 2.69(0.7H,s),2.53-2.64(3H,m),
1.17-1.23(18H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
6.54(0.7H,d,J=4.6Hz), 6.12(0.3H,d,J=1.2Hz), 5.78
(0.3H,d,J=1.2Hz),5.71(0.7H,d,J=4.6Hz), 4.60-4.80(3
H,m), 2.77(0.3H,s), 2.69(0.7H,s),2.53-2.64(3H,m),
1.17-1.23(18H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
【０１００】実施例１４ １，２，３−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（４−ク
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リ
ボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例６
で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ(３．２０mmo
l）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mmo
l）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、ベンゾイルクロライド１．３０ml
（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌した。
反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌した
後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml及び
水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル層を飽和炭酸水
素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エチル
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、１．
７７ｇの無色油状物を得た。これをエタノール２０mlに
加熱して溶解した。このエタノール溶液を室温下、攪拌
しながら水４０ml中に加え、析出した粉末を濾取した。
減圧下乾燥し、標記化合物１．６３ｇ（収率８２％）を
白色粉末として得た。
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リ
ボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに実施例６
で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ(３．２０mmo
l）、４−ジメチルアミノピリジン１２mg（０．１０mmo
l）、トリエチルアミン１．５６ml（１１．２mmol）を
加えた。氷冷した後、ベンゾイルクロライド１．３０ml
（１１．２mmol）を加え、室温に戻し４０分攪拌した。
反応液にメタノール０．３mlを加え、１０分間攪拌した
後、減圧下溶媒留去した。残渣に酢酸エチル４０ml及び
水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル層を飽和炭酸水
素ナトリウム水で１回、水で２回洗浄した。酢酸エチル
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精製し、１．
７７ｇの無色油状物を得た。これをエタノール２０mlに
加熱して溶解した。このエタノール溶液を室温下、攪拌
しながら水４０ml中に加え、析出した粉末を濾取した。
減圧下乾燥し、標記化合物１．６３ｇ（収率８２％）を
白色粉末として得た。
【０１０１】ｍｐ：６６〜６８℃ FAB-MS：ＫＩ添加、６６３(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：7.27-8.08(19H,m), 6.91(0.7H,d,J
=4.6Hz),6.61(0.3H,s), 6.13(0.3H,s), 6.12(0.7H,d,J=
4.6Hz), 5.16-5.27(1H,m),4.70-4.95(2H,m), 4.40(0.3
H,s), 4.11(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
=4.6Hz),6.61(0.3H,s), 6.13(0.3H,s), 6.12(0.7H,d,J=
4.6Hz), 5.16-5.27(1H,m),4.70-4.95(2H,m), 4.40(0.3
H,s), 4.11(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
【０１０２】実施例１５ １，２，３，５−テトラ−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノース
の製造：ジクロロメタン１２mlに実施例６で得た５−Ｏ
−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−Ｄ−
リボフラノース１．０ｇ（３．２０mmol）、４−ジメチ
ルアミノピリジン１２mg（０．１０mmol）、トリエチル
アミン２．０ml（１２．８mmol）を加えた。氷冷した
後、４−クロロベンゾイルクロライド１．５９ml（１
２．８mmol）を加え、室温に戻し９０分攪拌した。反応
液に水１５mlを加え、３０分間攪拌した後、分液した。
ジクロロメタン層を水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム
水で１回、水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン）で精製した。溶媒を留去し、標記化合物１．８
０ｇ（収率７７％）を無色粉末として得た。
ル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノース
の製造：ジクロロメタン１２mlに実施例６で得た５−Ｏ
−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−Ｄ−
リボフラノース１．０ｇ（３．２０mmol）、４−ジメチ
ルアミノピリジン１２mg（０．１０mmol）、トリエチル
アミン２．０ml（１２．８mmol）を加えた。氷冷した
後、４−クロロベンゾイルクロライド１．５９ml（１
２．８mmol）を加え、室温に戻し９０分攪拌した。反応
液に水１５mlを加え、３０分間攪拌した後、分液した。
ジクロロメタン層を水で１回、飽和炭酸水素ナトリウム
水で１回、水で１回洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン）で精製した。溶媒を留去し、標記化合物１．８
０ｇ（収率７７％）を無色粉末として得た。
【０１０３】ｍｐ：７３〜７８℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７６７(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：7.41-8.02(16H,m), 6.88(0.7H,d,J
=4.4Hz),6.61(0.3H,s), 6.12(1H,m), 5.30(0.7H,dd,J=
3.7Hz,5.6Hz),5.20(0.3H,dd,J=4.2Hz,6.8Hz), 4.7-4.9
(2H,m), 4.38(0.3H,s), 4.13(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
=4.4Hz),6.61(0.3H,s), 6.12(1H,m), 5.30(0.7H,dd,J=
3.7Hz,5.6Hz),5.20(0.3H,dd,J=4.2Hz,6.8Hz), 4.7-4.9
(2H,m), 4.38(0.3H,s), 4.13(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
【０１０４】実施例１６ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１５mlに
実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３
−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．
２０mmol）を懸濁し、トリエチルアミン１．３０ｇ（１
２．８mmol）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリ
ジン１２mg（０．１０mmol）を溶解したジクロロメタン
溶液１mlを加え、氷冷した後、４−トルオイルクロライ
ド１．７ml（１２．８mmol）を加えて室温に戻し３．５
時間攪拌した。反応液に水３０mlを加え、３０分攪拌
後、ジクロロメタン２０ml及び水３０mlを加え、分液し
た。ジクロロメタン層を１５％塩化アンモニウム水、及
び２５％食塩水で洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン）で精製し、標記化合物１．０４ｇ（収率５０％）
を無色油状物として得た。
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１５mlに
実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３
−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００ｇ（３．
２０mmol）を懸濁し、トリエチルアミン１．３０ｇ（１
２．８mmol）を加えた。これに４−ジメチルアミノピリ
ジン１２mg（０．１０mmol）を溶解したジクロロメタン
溶液１mlを加え、氷冷した後、４−トルオイルクロライ
ド１．７ml（１２．８mmol）を加えて室温に戻し３．５
時間攪拌した。反応液に水３０mlを加え、３０分攪拌
後、ジクロロメタン２０ml及び水３０mlを加え、分液し
た。ジクロロメタン層を１５％塩化アンモニウム水、及
び２５％食塩水で洗浄した。ジクロロメタン層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン）で精製し、標記化合物１．０４ｇ（収率５０％）
を無色油状物として得た。
【０１０５】FAB-MS：ＫＩ添加、７０５(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.00-8.08(16H,m), 6.94(0.7H,d,J=
4.3Hz),6.61(0.3H,s), 6.32(0.3H,s), 6.10(0.7H,d,J=
4.3Hz), 4.76-5.06(3H,m),2.94(0.3H,s), 2.79(0.7H,
s), 2.35-2.45(9H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
4.3Hz),6.61(0.3H,s), 6.32(0.3H,s), 6.10(0.7H,d,J=
4.3Hz), 4.76-5.06(3H,m),2.94(0.3H,s), 2.79(0.7H,
s), 2.35-2.45(9H,m) αアノマー：βアノマー＝７：３
【０１０６】実施例１７ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−ニトロベンゾイル）−
α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１
５mlに実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００
ｇ（３．２０mmol）を懸濁し、トリエチルアミン２．４
０ml（１７．２mmol）を加えた。これに４−ジメチルア
ミノピリジン１２mg（０．１０mmol）を加え、氷冷し
た。４−ニトロベンゾイルクロライド２．３８ｇ（１
２．８mmol）を加えて室温に戻し２時間攪拌した。反応
液に水１５mlを加え、３０分攪拌後、ジクロロメタン２
０ml及び水３０mlを加え、分液した。ジクロロメタン層
を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ジクロロメタン）で精製し、標記化合物１．３８ｇ
（収率８４％）を淡黄色粉末として得た。
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−ニトロベンゾイル）−
α，β−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１
５mlに実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．００
ｇ（３．２０mmol）を懸濁し、トリエチルアミン２．４
０ml（１７．２mmol）を加えた。これに４−ジメチルア
ミノピリジン１２mg（０．１０mmol）を加え、氷冷し
た。４−ニトロベンゾイルクロライド２．３８ｇ（１
２．８mmol）を加えて室温に戻し２時間攪拌した。反応
液に水１５mlを加え、３０分攪拌後、ジクロロメタン２
０ml及び水３０mlを加え、分液した。ジクロロメタン層
を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ジクロロメタン）で精製し、標記化合物１．３８ｇ
（収率８４％）を淡黄色粉末として得た。
【０１０７】ｍｐ：９７〜１０３℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７９８(M+K)+ 1H-NMR(DMSO-d6)δ：
7.52-8.41(16H,m), 6.93(0.7H,d,J=4.5Hz),6.77(0.3H,
s), 6.25(0.7H,d,J=4.5Hz), 6.24(0.3H,s), 5.29-5.45
(1H,m),4.77-4.99(2H,m), 4.53(0.3H,s), 4.18(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
7.52-8.41(16H,m), 6.93(0.7H,d,J=4.5Hz),6.77(0.3H,
s), 6.25(0.7H,d,J=4.5Hz), 6.24(0.3H,s), 5.29-5.45
(1H,m),4.77-4.99(2H,m), 4.53(0.3H,s), 4.18(0.7H,s) αアノマー：βアノマー＝７：３
【０１０８】実施例１８ ５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，２，３−トリ
−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチニル−α，β
−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに
実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３
−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ(３．２
０mmol）を懸濁し、４−ジメチルアミノピリジン１２mg
（０．０９８mmol）及びトリエチルアミン１．５６ml
（１１．２mmol）を加え、氷冷した。クロロ炭酸エチル
１．０７ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し、１時
間攪拌した。反応液を減圧下溶媒留去し、残渣に酢酸エ
チル４０ml及び水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル
層を飽和炭酸水素ナトリウム水で１回、洗浄した。硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：３）で精製し、標記化合物１．
４２ｇ（収率８４．０％）を無色油状物質として得た。
−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチニル−α，β
−Ｄ−リボフラノースの製造：ジクロロメタン１２mlに
実施例６で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３
−Ｃ−エチニル−Ｄ−リボフラノース１．０ｇ(３．２
０mmol）を懸濁し、４−ジメチルアミノピリジン１２mg
（０．０９８mmol）及びトリエチルアミン１．５６ml
（１１．２mmol）を加え、氷冷した。クロロ炭酸エチル
１．０７ml（１１．２mmol）を加え、室温に戻し、１時
間攪拌した。反応液を減圧下溶媒留去し、残渣に酢酸エ
チル４０ml及び水４０mlを加え、分液した。酢酸エチル
層を飽和炭酸水素ナトリウム水で１回、洗浄した。硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：３）で精製し、標記化合物１．
４２ｇ（収率８４．０％）を無色油状物質として得た。
【０１０９】FAB-MS：ＫＩ添加、５６７(M+K)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：8.03(1.1H,d,J=8.8Hz), 8.00(0.9H,
d,J=8.8Hz),7.43(1.1H,d,J=8.8Hz), 7.42(0.9H,d,J=8.8
Hz), 6.46(0.45H,d,J=4.4Hz),6.15(0.55H,d,J=1.5Hz),
5.70(0.55H,d,J=1.5Hz), 5.61(0.45H,d,J=4.4Hz),4.63-
4.86(3H,m), 4.21-4.31(6H,m), 2.84(0.55H,s), 2.77
(0.45H,s),1.30-1.35(9H,m) αアノマー：βアノマー＝４５：５５
d,J=8.8Hz),7.43(1.1H,d,J=8.8Hz), 7.42(0.9H,d,J=8.8
Hz), 6.46(0.45H,d,J=4.4Hz),6.15(0.55H,d,J=1.5Hz),
5.70(0.55H,d,J=1.5Hz), 5.61(0.45H,d,J=4.4Hz),4.63-
4.86(3H,m), 4.21-4.31(6H,m), 2.84(0.55H,s), 2.77
(0.45H,s),1.30-1.35(9H,m) αアノマー：βアノマー＝４５：５５
【０１１０】参考例１
【０１１１】１−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチ
ニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：ウ
ラシル５０６mg（４．５mmol）、硫酸アンモニウム１６
mg（０．１２mmol）、及びヘキサメチルジシラザン４．
５mlを窒素雰囲気下、ウラシルが溶解し、均一溶液にな
るまで１時間還流した。反応液を室温まで放冷した後、
減圧下溶媒を留去し、トルエンで２回共沸した。得られ
た油状の２、４−ビス−トリメチルシリルウラシルに実
施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−
Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラ
ノース９００mg（１．１２mmol）のアセトニトリル溶液
（９ml）を加え、０℃でトリメチルシリルトリフルオロ
メチルメタンスルホネート１．３２ml（６．６２mmol）
を加え室温で６９時間攪拌した。反応液を冷却下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液２０mlに注いだ。この反応混合
物を減圧下濃縮乾固した後、酢酸エチル４０mlを加え、
不溶物を濾去した。濾液を４０mlの水で３回水洗した
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し、
得られた残渣を濃縮しイソプロピルエーテルより結晶化
させた。析出した結晶を瀘取し、標記化合物６０１mg
（収率７１％）を得た。
ロベンゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチ
ニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：ウ
ラシル５０６mg（４．５mmol）、硫酸アンモニウム１６
mg（０．１２mmol）、及びヘキサメチルジシラザン４．
５mlを窒素雰囲気下、ウラシルが溶解し、均一溶液にな
るまで１時間還流した。反応液を室温まで放冷した後、
減圧下溶媒を留去し、トルエンで２回共沸した。得られ
た油状の２、４−ビス−トリメチルシリルウラシルに実
施例５で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−
Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラ
ノース９００mg（１．１２mmol）のアセトニトリル溶液
（９ml）を加え、０℃でトリメチルシリルトリフルオロ
メチルメタンスルホネート１．３２ml（６．６２mmol）
を加え室温で６９時間攪拌した。反応液を冷却下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液２０mlに注いだ。この反応混合
物を減圧下濃縮乾固した後、酢酸エチル４０mlを加え、
不溶物を濾去した。濾液を４０mlの水で３回水洗した
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し、
得られた残渣を濃縮しイソプロピルエーテルより結晶化
させた。析出した結晶を瀘取し、標記化合物６０１mg
（収率７１％）を得た。
【０１１２】ｍｐ：１０７〜１０９℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７２１(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.57(1H,s), 8.05(2H,d,J=8.3H
z),7.95(2H,d,J=8.5Hz), 7.92(2H,d,J=8.5Hz), 7.84(1
H,d,J=8.1Hz),7.54-7.65(6H,m), 6.25(1H,d,J=4.2Hz),
5.99(1H,d,J=4.2Hz),5.78(1H,d,J=8.1Hz), 5.07-5.10(1
H,m), 4.92(1H,dd,J=4.0Hz,6.0Hz),4.87(1H,dd,J=6.0H
z,12.2Hz), 0.12(9H,s)
z),7.95(2H,d,J=8.5Hz), 7.92(2H,d,J=8.5Hz), 7.84(1
H,d,J=8.1Hz),7.54-7.65(6H,m), 6.25(1H,d,J=4.2Hz),
5.99(1H,d,J=4.2Hz),5.78(1H,d,J=8.1Hz), 5.07-5.10(1
H,m), 4.92(1H,dd,J=4.0Hz,6.0Hz),4.87(1H,dd,J=6.0H
z,12.2Hz), 0.12(9H,s)
【０１１３】参考例２ １−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラノシル）ウ
ラシルの製造：メタノール１．３mlに参考例１で得た１
−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］ウラシル１００mg（０．１３mmol）
を溶解した。室温下、攪拌しながらトリエチルアミン
０．６５ml（４．６６mmol）を加え、５０℃にて４８時
間攪拌した。酢酸０．０１mlを加えた後、反応液を留去
した。残渣をメタノール０．２mlに溶解し、クロロホル
ム４．０mlを加え結晶化させた。析出した結晶を瀘取
し、標記化合物３０mg（収率８５％）を白色粉末として
得た。
ラシルの製造：メタノール１．３mlに参考例１で得た１
−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］ウラシル１００mg（０．１３mmol）
を溶解した。室温下、攪拌しながらトリエチルアミン
０．６５ml（４．６６mmol）を加え、５０℃にて４８時
間攪拌した。酢酸０．０１mlを加えた後、反応液を留去
した。残渣をメタノール０．２mlに溶解し、クロロホル
ム４．０mlを加え結晶化させた。析出した結晶を瀘取
し、標記化合物３０mg（収率８５％）を白色粉末として
得た。
【０１１４】ｍｐ：２２６〜２２８℃ FAB-MS(negative)：２６７(M-H)- 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.35(1H,brs), 7.99(1H,d,J=8.2H
z),5.93(1H,d,J=8.2Hz), 5.86(1H,d,J=6.7Hz,), 5.83(1
H,d,J=7.3Hz),5.69(1H,d,J=8.2Hz), 5.13(1H,t,J=4.5H
z), 4.18(1H,dd,J=7.3Hz,6.7Hz),3.90-3.88(1H,m), 3.7
4-3.60(2H,m), 3.55(1H,s)
z),5.93(1H,d,J=8.2Hz), 5.86(1H,d,J=6.7Hz,), 5.83(1
H,d,J=7.3Hz),5.69(1H,d,J=8.2Hz), 5.13(1H,t,J=4.5H
z), 4.18(1H,dd,J=7.3Hz,6.7Hz),3.90-3.88(1H,m), 3.7
4-3.60(2H,m), 3.55(1H,s)
【０１１５】参考例３ １−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β
−Ｄ−リボフラノシル］シトシンの製造：シトシン６７
０mg（６．０mmol）、硫酸アンモニウム２１mg（０．１
６mmol）、及びヘキサメチルジシラザン６．０mlを窒素
雰囲気下、シトシンが溶解し、均一溶液になるまで１時
間還流した。反応液を室温まで放冷した後、減圧下溶媒
を留去し、トルエンで２回共沸した。得られた固体の
２、４−ビス−トリメチルシリルシトシンに実施例５で
得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラノース
１．２０ｇ（１．５mmol）を無水アセトニトリル１２ml
に溶解した溶液を加え、均一溶液になるまで室温で攪拌
した。０℃に冷却し、塩化第二スズ１２ml（７．５mmo
l）を加え、室温で４０時間攪拌した。得られた反応液
を氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３２ml中に加え
た。この反応混合物を減圧下濃縮乾固した。残渣に酢酸
エチルを加え、不溶物を濾去した。濾液を水で３回洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
残渣をイソプロピルエーテル２０mlより結晶化させた。
析出した結晶を瀘取し、標記化合物４６０mg（収率４１
％）を得た。
ル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β
−Ｄ−リボフラノシル］シトシンの製造：シトシン６７
０mg（６．０mmol）、硫酸アンモニウム２１mg（０．１
６mmol）、及びヘキサメチルジシラザン６．０mlを窒素
雰囲気下、シトシンが溶解し、均一溶液になるまで１時
間還流した。反応液を室温まで放冷した後、減圧下溶媒
を留去し、トルエンで２回共沸した。得られた固体の
２、４−ビス−トリメチルシリルシトシンに実施例５で
得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−Ｄ−リボフラノース
１．２０ｇ（１．５mmol）を無水アセトニトリル１２ml
に溶解した溶液を加え、均一溶液になるまで室温で攪拌
した。０℃に冷却し、塩化第二スズ１２ml（７．５mmo
l）を加え、室温で４０時間攪拌した。得られた反応液
を氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３２ml中に加え
た。この反応混合物を減圧下濃縮乾固した。残渣に酢酸
エチルを加え、不溶物を濾去した。濾液を水で３回洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
残渣をイソプロピルエーテル２０mlより結晶化させた。
析出した結晶を瀘取し、標記化合物４６０mg（収率４１
％）を得た。
【０１１６】ｍｐ：１３１〜１３３℃ FAB-MS：７５４(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.05(2H,d,J=8.5Hz), 7.88-7.95(4
H,m),7.79(1H,d,J=7.6Hz), 7.63(2H,d,J=8.3Hz), 7.58
(2H,d,J=8.3Hz),7.53(2H,d,J=8.3Hz), 7.39-7.42(2H,b
r), 6.27(1H,d,J=3.9Hz),5.93(1H,d,J=3.9Hz), 5.84(1
H,d,J=7.6Hz), 5.04-5.06(1H,m),4.91(1H,dd,J=4.1Hz,1
2.0Hz), 4.77-4.81(1H,m), 0.11(9H,s)
H,m),7.79(1H,d,J=7.6Hz), 7.63(2H,d,J=8.3Hz), 7.58
(2H,d,J=8.3Hz),7.53(2H,d,J=8.3Hz), 7.39-7.42(2H,b
r), 6.27(1H,d,J=3.9Hz),5.93(1H,d,J=3.9Hz), 5.84(1
H,d,J=7.6Hz), 5.04-5.06(1H,m),4.91(1H,dd,J=4.1Hz,1
2.0Hz), 4.77-4.81(1H,m), 0.11(9H,s)
【０１１７】参考例４ １−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラノシル）シ
トシンの製造：メタノール１．３mlに参考例３で得た１
−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］シトシン９５mgを溶解した。室温
下、攪拌しながらトリエチルアミン０．６５ml（４．６
５mmol）を加え、５０℃にて３０時間攪拌した。反応液
を留去した後、残渣をメタノール０．２mlに溶解し、ク
ロロホルム４．０mlを加え結晶化させた。析出した結晶
を瀘取し、標記化合物２９．７mg（収率８８％）を白色
粉末として得た。
トシンの製造：メタノール１．３mlに参考例３で得た１
−［２，３，５−Ｏ−トリ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］シトシン９５mgを溶解した。室温
下、攪拌しながらトリエチルアミン０．６５ml（４．６
５mmol）を加え、５０℃にて３０時間攪拌した。反応液
を留去した後、残渣をメタノール０．２mlに溶解し、ク
ロロホルム４．０mlを加え結晶化させた。析出した結晶
を瀘取し、標記化合物２９．７mg（収率８８％）を白色
粉末として得た。
【０１１８】ｍｐ：２３３〜２３５℃ FAB-MS(negative)：２６６(M-H)- 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：7.81(1H,d,J=7.6Hz), 7.21(1H,br
s), 7.17(brs,1H),5.83(1H,d,J=6.6Hz), 5.73-5.79(3H,
m), 5.02(1H,t,J=4.9Hz),4.11(1H,t,J=6.6Hz), 3.85-3.
87(1H,m), 3.65-3.69(2H,m), 3.51(1H,s)
s), 7.17(brs,1H),5.83(1H,d,J=6.6Hz), 5.73-5.79(3H,
m), 5.02(1H,t,J=4.9Hz),4.11(1H,t,J=6.6Hz), 3.85-3.
87(1H,m), 3.65-3.69(2H,m), 3.51(1H,s)
【０１１９】参考例５ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−２，３−ジ
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製
造：実施例８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラ
ノース２９８mg（０．５０mmol）をアセトニトリル０．
９４mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシ
リルウラシル２５６mg（１．０mmol）を溶解したアセト
ニトリル溶液１．０６mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷し
た後、塩化第二スズ１７７μl（１．５０mmol）を加
え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素
ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣
にクロロホルム５０mlを加え、抽出した。クロロホルム
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水
で１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３）で精
製し、得られた油状物質をイソプロピルエーテルに溶解
した。ｎ−ヘプタンを加え、析出した結晶を濾取した。
減圧下乾燥し、標記化合物２２８mg（収率７３．７％）
を白色粉末として得た。
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製
造：実施例８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラ
ノース２９８mg（０．５０mmol）をアセトニトリル０．
９４mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシ
リルウラシル２５６mg（１．０mmol）を溶解したアセト
ニトリル溶液１．０６mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷し
た後、塩化第二スズ１７７μl（１．５０mmol）を加
え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素
ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣
にクロロホルム５０mlを加え、抽出した。クロロホルム
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水
で１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３）で精
製し、得られた油状物質をイソプロピルエーテルに溶解
した。ｎ−ヘプタンを加え、析出した結晶を濾取した。
減圧下乾燥し、標記化合物２２８mg（収率７３．７％）
を白色粉末として得た。
【０１２０】ｍｐ：１６０〜１６１℃ FAB-MS：６１９(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.51(1H,s), 8.02(2H,d,J=8.5H
z),7.75(1H,d,J=8.3Hz), 7.63(2H,d,J=8.5Hz), 6.01(1
H,d,J=5.4Hz),5.72(1H,d,J=8.3Hz), 5.63(1H,d,J=5.4H
z), 4.64-4.76(3H,m),2.60-2.68(2H,m), 1.08-1.13(12
H,m), 0.06(9H,m)
z),7.75(1H,d,J=8.3Hz), 7.63(2H,d,J=8.5Hz), 6.01(1
H,d,J=5.4Hz),5.72(1H,d,J=8.3Hz), 5.63(1H,d,J=5.4H
z), 4.64-4.76(3H,m),2.60-2.68(2H,m), 1.08-1.13(12
H,m), 0.06(9H,m)
【０１２１】参考例６ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
（２−トリメチルシリルエチニル）−２，３−ジ−Ｏ−
（４−トルオイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシ
ルの製造：実施例１０で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース３７０mg（０．５０mmol）をアセ
トニトリル０．４５mlに溶解した。これに２，４−ビス
−トリメチルシリルウラシル２５７mg（１．００mmol）
を溶解したアセトニトリル溶液１．５５mlを窒素雰囲気
下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ１７７μl（１．
５mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を
６％炭酸水素ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留
去した。残渣をクロロホルム３０mlで抽出した。クロロ
ホルム層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下
溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１５：１）で精製し
た。得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、ｎ−ヘプタン
を加え析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化
合物３１７mg（収率８８．６％）を白色粉末として得
た。
（２−トリメチルシリルエチニル）−２，３−ジ−Ｏ−
（４−トルオイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシ
ルの製造：実施例１０で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）
−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース３７０mg（０．５０mmol）をアセ
トニトリル０．４５mlに溶解した。これに２，４−ビス
−トリメチルシリルウラシル２５７mg（１．００mmol）
を溶解したアセトニトリル溶液１．５５mlを窒素雰囲気
下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ１７７μl（１．
５mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を
６％炭酸水素ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留
去した。残渣をクロロホルム３０mlで抽出した。クロロ
ホルム層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下
溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１５：１）で精製し
た。得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、ｎ−ヘプタン
を加え析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化
合物３１７mg（収率８８．６％）を白色粉末として得
た。
【０１２２】ｍｐ：１０５〜１０７℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７１４(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.55(1H,s), 8.05(2H,d,J=8.3H
z), 7.78-7.86(5H,m),7.62(2H,d,J=8.5Hz), 7.33(2H,d,
J=8.1Hz), 7.25(2H,d,J=8.1Hz),6.21(1H,d,J=4.4Hz),
5.94(1H,d,J=4.4Hz), 5.77(1H,d,J=8.1Hz),4.75-5.03(3
H,m), 2.39(3H,s), 2.33(3H,s), 0.10(9H,s)
z), 7.78-7.86(5H,m),7.62(2H,d,J=8.5Hz), 7.33(2H,d,
J=8.1Hz), 7.25(2H,d,J=8.1Hz),6.21(1H,d,J=4.4Hz),
5.94(1H,d,J=4.4Hz), 5.77(1H,d,J=8.1Hz),4.75-5.03(3
H,m), 2.39(3H,s), 2.33(3H,s), 0.10(9H,s)
【０１２３】参考例７ １−［２，３−ジ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラ
ノシル］ウラシルの製造：実施例１１で得た１，２，３
−トリ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノース
４３９mg（１．０mmol）をアセトニトリル４．６５mlに
溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラ
シル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル
溶液３．３５mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した後、塩
化第二スズ１１８μl（１．０mmol）を加え、３０℃で
２０時間攪拌した。反応液を０．１０Ｍ炭酸水素ナトリ
ウム水２５mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回抽出し
た。酢酸エチル層を合わせて減圧下溶媒留去し、残渣に
０．１０Ｍ炭酸水素ナトリウム水２５mlを加え、酢酸エ
チル３０mlで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メ
タノール＝９７：３）で精製した。これをイソプロピル
エーテルで結晶化して濾取し、標記化合物５０mg（収率
１０％）を白色粉末として得た。
ロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラ
ノシル］ウラシルの製造：実施例１１で得た１，２，３
−トリ−Ｏ−アセチル−５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノース
４３９mg（１．０mmol）をアセトニトリル４．６５mlに
溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラ
シル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル
溶液３．３５mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した後、塩
化第二スズ１１８μl（１．０mmol）を加え、３０℃で
２０時間攪拌した。反応液を０．１０Ｍ炭酸水素ナトリ
ウム水２５mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回抽出し
た。酢酸エチル層を合わせて減圧下溶媒留去し、残渣に
０．１０Ｍ炭酸水素ナトリウム水２５mlを加え、酢酸エ
チル３０mlで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メ
タノール＝９７：３）で精製した。これをイソプロピル
エーテルで結晶化して濾取し、標記化合物５０mg（収率
１０％）を白色粉末として得た。
【０１２４】ｍｐ：２１８〜２１９℃ FAB-MS：４９１(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.50(1H,s), 7.99(2H,d,J=6.6H
z),7.75(1H,d,J=8.3Hz), 7.63(2H,d,J=6.6Hz), 6.03(1
H,d,J=5.8Hz),5.73(1H,d,J=8.3Hz), 5.62(1H,d,J=5.8H
z), 4.65-4.78(3H,m), 4.07(1H,s),2.15(3H,s), 2.10(3
H,s)
z),7.75(1H,d,J=8.3Hz), 7.63(2H,d,J=6.6Hz), 6.03(1
H,d,J=5.8Hz),5.73(1H,d,J=8.3Hz), 5.62(1H,d,J=5.8H
z), 4.65-4.78(3H,m), 4.07(1H,s),2.15(3H,s), 2.10(3
H,s)
【０１２５】参考例８
【０１２６】１−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−エチニル−２，３−ジ−Ｏ−プロピオニル−
β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施例１２
で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−１，２，３−トリ−Ｏ−プロピオニル−α，β
−Ｄ−リボフラノース３９３mg（０．８０mmol）をアセ
トニトリル３．７２mlに溶解した。これに２，４−ビス
−トリメチルシリルウラシル４１０mg（１．６０mmol）
を溶解したアセトニトリル溶液２．６８mlを窒素雰囲気
下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ９４μl（０．８
０mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を
０．１９Ｍ炭酸水素ナトリウム水２０mlに滴下し、酢酸
エチル３０mlで３回抽出した。酢酸エチル層を合わせて
飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した。濾過した後、減圧下溶媒留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：１）で精製し、得られた粗結晶を酢酸
エチルに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出した結晶を
濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物８３mg（収率２０
％）を白色粉末として得た。
−３−Ｃ−エチニル−２，３−ジ−Ｏ−プロピオニル−
β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施例１２
で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−１，２，３−トリ−Ｏ−プロピオニル−α，β
−Ｄ−リボフラノース３９３mg（０．８０mmol）をアセ
トニトリル３．７２mlに溶解した。これに２，４−ビス
−トリメチルシリルウラシル４１０mg（１．６０mmol）
を溶解したアセトニトリル溶液２．６８mlを窒素雰囲気
下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ９４μl（０．８
０mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を
０．１９Ｍ炭酸水素ナトリウム水２０mlに滴下し、酢酸
エチル３０mlで３回抽出した。酢酸エチル層を合わせて
飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した。濾過した後、減圧下溶媒留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：１）で精製し、得られた粗結晶を酢酸
エチルに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出した結晶を
濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物８３mg（収率２０
％）を白色粉末として得た。
【０１２７】ｍｐ：２０８〜２１０℃ FAB-MS：５１９(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.51(1H,s), 7.99(2H,d,J=8.5H
z),7.74(1H,d,J=8.1Hz), 7.64(2H,d,J=8.5Hz), 6.02(1
H,d,J=5.4Hz),5.74(1H,d,J=8.1Hz), 5.61(1H,d,J=5.4H
z), 4.66-4.78(3H,m), 4.07(1H,s),2.33-2.46(4H,m),
1.04(3H,t,J=7.6Hz), 1.03(3H,t,J=7.9Hz)
z),7.74(1H,d,J=8.1Hz), 7.64(2H,d,J=8.5Hz), 6.02(1
H,d,J=5.4Hz),5.74(1H,d,J=8.1Hz), 5.61(1H,d,J=5.4H
z), 4.66-4.78(3H,m), 4.07(1H,s),2.33-2.46(4H,m),
1.04(3H,t,J=7.6Hz), 1.03(3H,t,J=7.9Hz)
【０１２８】参考例９ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−２，３−ジ−Ｏ−イソブチリル−β−Ｄ−リボ
フラノシル］ウラシルの製造：
チニル−２，３−ジ−Ｏ−イソブチリル−β−Ｄ−リボ
フラノシル］ウラシルの製造：
【０１２９】実施例１３で得た５−Ｏ−（４−クロロベ
ンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，２，３−トリ−Ｏ
−イソブチリル−α，β−Ｄ−リボフラノース５２３mg
（１．０mmol）をアセトニトリル４．６５mlに溶解し
た。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラシル５
１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶液
３．３５mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した後、塩化第
二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３０℃で２０
時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素ナトリウム
水２０mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回抽出した。
酢酸エチル層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン：メタノール＝３０：１）で精製し、得られた粗結
晶を酢酸エチルに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出し
た結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物４２９mg
（収率７８％）を白色粉末として得た。
ンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，２，３−トリ−Ｏ
−イソブチリル−α，β−Ｄ−リボフラノース５２３mg
（１．０mmol）をアセトニトリル４．６５mlに溶解し
た。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラシル５
１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶液
３．３５mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した後、塩化第
二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３０℃で２０
時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素ナトリウム
水２０mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回抽出した。
酢酸エチル層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶媒留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメ
タン：メタノール＝３０：１）で精製し、得られた粗結
晶を酢酸エチルに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出し
た結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物４２９mg
（収率７８％）を白色粉末として得た。
【０１３０】ｍｐ：１９８〜１９９℃ FAB-MS：５４７(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.50(1H,s), 8.00(2H,d,J=8.8H
z), 7.75(1H,d,J=8.1Hz),7.64(2H,d,J=8.8Hz), 6.01(1
H,d,J=5.6Hz), 5.74(1H,d,J=8.1Hz),5.60(1H,d,J=5.6H
z), 4.66-4.80(3H,m), 4.06(1H,s), 2.55-2.69(2H,m),
1.08(12H,m)
z), 7.75(1H,d,J=8.1Hz),7.64(2H,d,J=8.8Hz), 6.01(1
H,d,J=5.6Hz), 5.74(1H,d,J=8.1Hz),5.60(1H,d,J=5.6H
z), 4.66-4.80(3H,m), 4.06(1H,s), 2.55-2.69(2H,m),
1.08(12H,m)
【０１３１】参考例１０ １−［２，３−ジ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（４−ク
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフ
ラノシル］ウラシルの製造：実施例１４で得た１，２，
３−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノ
ース６２５mg（１．０mmol）をアセトニトリル０．９８
mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリル
ウラシル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニト
リル溶液３．０２mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した
後、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３
０℃で２０時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素
ナトリウム水２０mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回
抽出した。酢酸エチル層を合わせて飽和食塩水で洗浄
し、酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥して濾過
後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）
で精製し、得られた粗結晶を酢酸エチルに溶解してｎ−
ヘプタンを加え、析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥
し、標記化合物４１４mg（収率６７％）を白色粉末とし
て得た。
ロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフ
ラノシル］ウラシルの製造：実施例１４で得た１，２，
３−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−エチニル−α，β−Ｄ−リボフラノ
ース６２５mg（１．０mmol）をアセトニトリル０．９８
mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリル
ウラシル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニト
リル溶液３．０２mlを窒素雰囲気下加えた。氷冷した
後、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３
０℃で２０時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素
ナトリウム水２０mlに滴下し、酢酸エチル３０mlで３回
抽出した。酢酸エチル層を合わせて飽和食塩水で洗浄
し、酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥して濾過
後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）
で精製し、得られた粗結晶を酢酸エチルに溶解してｎ−
ヘプタンを加え、析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥
し、標記化合物４１４mg（収率６７％）を白色粉末とし
て得た。
【０１３２】ｍｐ：１５８〜１６０℃ FAB-MS：６１５(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.54(1H,s), 7.43-8.05(15H,m),
6.26(1H,d,J=4.9Hz),5.98(1H,d,J=4.9Hz), 5.80(1H,d,J
=8.3Hz), 4.79-5.07(3H,m), 4.21(1H,s)
6.26(1H,d,J=4.9Hz),5.98(1H,d,J=4.9Hz), 5.80(1H,d,J
=8.3Hz), 4.79-5.07(3H,m), 4.21(1H,s)
【０１３３】参考例１１ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−２，３−ジ−Ｏ−（４−トルオイル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施例１６で得た
５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース６６７mg（１．０mmol）をアセト
ニトリル０．９８mlに溶解した。これに２，４−ビス−
トリメチルシリルウラシル５１３mg（２．０mmol）を溶
解したアセトニトリル溶液３．０２mlを窒素雰囲気下加
えた。氷冷した後、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmo
l）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を０．
４８Ｍ炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下し、酢酸エチ
ル３０mlで２回、クロロホルム３０mlで２回抽出した。
有機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精
製し、標記化合物６１４mg（収率９６％）を油状物とし
て得た。
チニル−２，３−ジ−Ｏ−（４−トルオイル）−β−Ｄ
−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施例１６で得た
５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース６６７mg（１．０mmol）をアセト
ニトリル０．９８mlに溶解した。これに２，４−ビス−
トリメチルシリルウラシル５１３mg（２．０mmol）を溶
解したアセトニトリル溶液３．０２mlを窒素雰囲気下加
えた。氷冷した後、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmo
l）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を０．
４８Ｍ炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下し、酢酸エチ
ル３０mlで２回、クロロホルム３０mlで２回抽出した。
有機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、
減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精
製し、標記化合物６１４mg（収率９６％）を油状物とし
て得た。
【０１３４】ｍｐ：１２５〜１２７℃ FAB-MS：６４３(M+H)+ 1 H-NMR(CDCl3)δ：7.10-8.07(15H,m), 6.35(1H,d,J=5.
0), 5.77-5.96(2H,m),4.84-4.94(2H,m), 2.90(1H,s),
2.44(3H,s), 2.36(3H,s)
0), 5.77-5.96(2H,m),4.84-4.94(2H,m), 2.90(1H,s),
2.44(3H,s), 2.36(3H,s)
【０１３５】参考例１２ １−［２，３，５−トリ−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラノシル］ウ
ラシルの製造：実施例１５で得た１，２，３，５−テト
ラ−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−α，β−Ｄ−リボフラノース７２８mg（１．０mmol）
をアセトニトリル０．９８mlに溶解した。これに２，４
−ビス−トリメチルシリルウラシル５１３mg（２．０mm
ol）を溶解したアセトニトリル溶液３．０２mlを窒素雰
囲気下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ３５４μl
（３．０mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反
応液を０．４８Ｍ炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下
し、酢酸エチル３０mlで６回抽出した。酢酸エチル層を
合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製した
後、イソプロピルエーテルより結晶化し、標記化合物４
２５mg（収率６２％）を結晶として得た。
ル）−３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボフラノシル］ウ
ラシルの製造：実施例１５で得た１，２，３，５−テト
ラ−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル
−α，β−Ｄ−リボフラノース７２８mg（１．０mmol）
をアセトニトリル０．９８mlに溶解した。これに２，４
−ビス−トリメチルシリルウラシル５１３mg（２．０mm
ol）を溶解したアセトニトリル溶液３．０２mlを窒素雰
囲気下加えた。氷冷した後、塩化第二スズ３５４μl
（３．０mmol）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反
応液を０．４８Ｍ炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下
し、酢酸エチル３０mlで６回抽出した。酢酸エチル層を
合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製した
後、イソプロピルエーテルより結晶化し、標記化合物４
２５mg（収率６２％）を結晶として得た。
【０１３６】ｍｐ：１１５〜１１７℃ FAB-MS：６８３(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.52(1H,brs), 7.83-8.04(7H,m),
7.56-7.66(6H,m),6.26(1H,d,J=5.1Hz), 6.00(1H,d,J=
5.1Hz), 5.79(1H,d,J=8.3Hz),5.07(1H,m), 4.93(1H,m),
4.82(1H,m), 4.21(1H,s) 参考例１３
7.56-7.66(6H,m),6.26(1H,d,J=5.1Hz), 6.00(1H,d,J=
5.1Hz), 5.79(1H,d,J=8.3Hz),5.07(1H,m), 4.93(1H,m),
4.82(1H,m), 4.21(1H,s) 参考例１３
【０１３７】１−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−３−Ｃ−エチニル−２，３−ジ−Ｏ−（４−ニトロベ
ンゾイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製
造：実施例１７で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−１，２，３−トリ−Ｏ−（４
−ニトロベンゾイル）−α，β−Ｄ−リボフラノース７
６０mg（１．０mmol）をアセトニトリル０．９８mlに溶
解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラシ
ル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶
液３．０２mlを窒素雰囲気下加えた。この混合物を氷冷
し、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３
０℃に加温して２０時間攪拌した。反応液を０．４８Ｍ
炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下し、酢酸エチル−テ
トラヒドロフランの混合溶媒３０mlで４回抽出した。有
機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減
圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精
製した。ｎ−ヘプタン−酢酸エチルより結晶化し、標記
化合物８４mg（収率１２％）を淡黄色粉末として得た。
−３−Ｃ−エチニル−２，３−ジ−Ｏ−（４−ニトロベ
ンゾイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製
造：実施例１７で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイ
ル）−３−Ｃ−エチニル−１，２，３−トリ−Ｏ−（４
−ニトロベンゾイル）−α，β−Ｄ−リボフラノース７
６０mg（１．０mmol）をアセトニトリル０．９８mlに溶
解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルウラシ
ル５１３mg（２．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶
液３．０２mlを窒素雰囲気下加えた。この混合物を氷冷
し、塩化第二スズ３５４μl（３．０mmol）を加え、３
０℃に加温して２０時間攪拌した。反応液を０．４８Ｍ
炭酸水素ナトリウム水３０mlに滴下し、酢酸エチル−テ
トラヒドロフランの混合溶媒３０mlで４回抽出した。有
機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減
圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精
製した。ｎ−ヘプタン−酢酸エチルより結晶化し、標記
化合物８４mg（収率１２％）を淡黄色粉末として得た。
【０１３８】ｍｐ：２２６〜２２８℃ FAB-MS：７０５(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.53(1H,brs), 8.38-8.18(8H,m),
8.03(2H,dd,J=1.8Hz,6L7Hz), 7.88(1H,d,J=8.3Hz),7.63
(2H,dd,J=1.8Hz,6.7Hz), 6.33(1H,d,J=5.6Hz), 6.11(1
H,d,J=5.6Hz),5.79(1H,d,8.3Hz), 5.16(1H,dd,J=4.1Hz,
6.8Hz),4.95(1H,dd,J=4.1Hz,12.0Hz), 4.85(1H,dd,J=6.
8Hz,12.0Hz), 4.26(1H,s)
8.03(2H,dd,J=1.8Hz,6L7Hz), 7.88(1H,d,J=8.3Hz),7.63
(2H,dd,J=1.8Hz,6.7Hz), 6.33(1H,d,J=5.6Hz), 6.11(1
H,d,J=5.6Hz),5.79(1H,d,8.3Hz), 5.16(1H,dd,J=4.1Hz,
6.8Hz),4.95(1H,dd,J=4.1Hz,12.0Hz), 4.85(1H,dd,J=6.
8Hz,12.0Hz), 4.26(1H,s)
【０１３９】参考例１４
【０１４０】１−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−２，３−ジ−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチ
ニル−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施
例１８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，
２，３−トリ−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチ
ニル−α，β−Ｄ−リボフラノース２６５mg（０．５０
mmol）をアセトニトリル０．９４mlに溶解した。これに
２，４−ビス−トリメチルシリルウラシル２５６mg
（１．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶液１．０６
mlを窒素雰囲気下加えた。この混合物を氷冷し、塩化第
二スズ１７７μl（１．５mmol）を加えた後、３０℃で
３時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素ナトリウム水溶
液１０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣をクロロホルム
３０mlで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、得ら
れた油状物質にイソプロピルエーテルを加えた。析出し
た結晶を濾取し、標記化合物１５５mg（収率５６．３
％）を白色粉末として得た。
−２，３−ジ−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチ
ニル−β−Ｄ−リボフラノシル］ウラシルの製造：実施
例１８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−１，
２，３−トリ−Ｏ−エトキシカルボニル−３−Ｃ−エチ
ニル−α，β−Ｄ−リボフラノース２６５mg（０．５０
mmol）をアセトニトリル０．９４mlに溶解した。これに
２，４−ビス−トリメチルシリルウラシル２５６mg
（１．０mmol）を溶解したアセトニトリル溶液１．０６
mlを窒素雰囲気下加えた。この混合物を氷冷し、塩化第
二スズ１７７μl（１．５mmol）を加えた後、３０℃で
３時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素ナトリウム水溶
液１０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣をクロロホルム
３０mlで抽出した。クロロホルム層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、得ら
れた油状物質にイソプロピルエーテルを加えた。析出し
た結晶を濾取し、標記化合物１５５mg（収率５６．３
％）を白色粉末として得た。
【０１４１】ｍｐ：１５４〜１５６℃ FAB-MS：５５１(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：11.53(1H,s), 7.99(2H,d,J=8.5H
z), 7.77(1H,d,J=8.3Hz),7.63(2H,d,J=8.5Hz), 6.07(1
H,d,J=6.1Hz), 5.73(1H,d,J=8.3Hz),5.60(1H,d,J=6.1H
z), 4.65-4.82(3H,m), 4.15-4.24(3H,m), 1.25(3H,s),
1.21(3H,s)
z), 7.77(1H,d,J=8.3Hz),7.63(2H,d,J=8.5Hz), 6.07(1
H,d,J=6.1Hz), 5.73(1H,d,J=8.3Hz),5.60(1H,d,J=6.1H
z), 4.65-4.82(3H,m), 4.15-4.24(3H,m), 1.25(3H,s),
1.21(3H,s)
【０１４２】参考例１５ 以上の参考例５〜１４で得た各化合物から参考例２と同
様の方法により１−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ
フラノシル）ウラシルを得た。
様の方法により１−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リボ
フラノシル）ウラシルを得た。
【０１４３】参考例１６ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−２，３−ジ
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］シトシンの製
造：実施例８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラ
ノース５９５mg（１．００mmol）をアセトニトリル４ml
に溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルシ
トシン５１１mg（２．０mmol）を加えた。氷冷した後、
塩化第二スズ３５４μl（３．００mmol）を加え、３０
℃で２０時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣にクロロ
ホルム５０mlを加え、抽出した。クロロホルム層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水で１回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製し、
得られた油状物質をイソプロピルエーテル−ｎ−ヘプタ
ンより結晶化させ、析出した結晶を濾取した。減圧下乾
燥し、標記化合物３９２mg（収率６３．４％）を白色粉
末として得た。
−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２−トリメチルシリル
エチニル）−β−Ｄ−リボフラノシル］シトシンの製
造：実施例８で得た５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−３−Ｃ−（２
−トリメチルシリルエチニル）−α，β−Ｄ−リボフラ
ノース５９５mg（１．００mmol）をアセトニトリル４ml
に溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルシ
トシン５１１mg（２．０mmol）を加えた。氷冷した後、
塩化第二スズ３５４μl（３．００mmol）を加え、３０
℃で２０時間攪拌した。反応液を６％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０mlに滴下し、溶媒留去した。残渣にクロロ
ホルム５０mlを加え、抽出した。クロロホルム層を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和食塩水で１回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、減圧下溶
媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製し、
得られた油状物質をイソプロピルエーテル−ｎ−ヘプタ
ンより結晶化させ、析出した結晶を濾取した。減圧下乾
燥し、標記化合物３９２mg（収率６３．４％）を白色粉
末として得た。
【０１４４】ｍｐ：９７〜９９℃ FAB-MS：６１８(M+H)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.03(2H,d,J=8.4Hz), 7.68(1H,d,J
=7.6Hz),7.63(2H,d,J=8.4Hz), 7.35(1H,brs), 7.33(1H,
brs), 6.08(1H,d,J=5.0Hz),5.78(1H,d,J=7.6Hz), 5.61
(1H,d,J=5.0Hz), 4.64-4.76(3H,m),2.52-2.67(2H,m),
1.08-1.12(12H,m), 0.07(9H,s)
=7.6Hz),7.63(2H,d,J=8.4Hz), 7.35(1H,brs), 7.33(1H,
brs), 6.08(1H,d,J=5.0Hz),5.78(1H,d,J=7.6Hz), 5.61
(1H,d,J=5.0Hz), 4.64-4.76(3H,m),2.52-2.67(2H,m),
1.08-1.12(12H,m), 0.07(9H,s)
【０１４５】参考例１７ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−
（２−トリメチルシリルエチニル）−２，３−ジ−Ｏ−
（４−トルオイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］シトシ
ンの製造：実施例１０で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース３７０mg（０．５０mmol）をアセ
トニトリル２mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリ
メチルシリルシトシン２５５mg（１．００mmol）を加え
た。氷冷した後、塩化第二スズ１７７μl（１．５mmo
l）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を６％
炭酸水素ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留去し
た。残渣をクロロホルム３０mlで抽出した。クロロホル
ム層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。
得られた残渣をイソプロピルエーテル−ｎ−ヘプタンよ
り結晶化させ、析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥
し、標記化合物２１５mg（収率６０．０％）を白色粉末
として得た。
（２−トリメチルシリルエチニル）−２，３−ジ−Ｏ−
（４−トルオイル）−β−Ｄ−リボフラノシル］シトシ
ンの製造：実施例１０で得た５−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−３−Ｃ−（２−トリメチルシリルエチニル）
−１，２，３−トリ−Ｏ−（４−トルオイル）−α，β
−Ｄ−リボフラノース３７０mg（０．５０mmol）をアセ
トニトリル２mlに溶解した。これに２，４−ビス−トリ
メチルシリルシトシン２５５mg（１．００mmol）を加え
た。氷冷した後、塩化第二スズ１７７μl（１．５mmo
l）を加え、３０℃で２０時間攪拌した。反応液を６％
炭酸水素ナトリウム水溶液１０mlに滴下し、溶媒留去し
た。残渣をクロロホルム３０mlで抽出した。クロロホル
ム層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、減圧下溶媒
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（クロロホルム：メタノール＝２０：１）で精製した。
得られた残渣をイソプロピルエーテル−ｎ−ヘプタンよ
り結晶化させ、析出した結晶を濾取した。減圧下乾燥
し、標記化合物２１５mg（収率６０．０％）を白色粉末
として得た。
【０１４６】ｍｐ：１３０〜１３２℃ FAB-MS：ＫＩ添加、７５２(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.04-8.07(2H,m), 7.78-7.83(5H,
m), 7.60-7.63(2H,m),7.41(1H,brs), 7.40(1H,brs), 7.
30(2H,d,J=8.1Hz), 7.24(2H,d,J=8.1Hz),6.26(1H,d,J=
3.9Hz), 5.91(1H,d,J=3.9Hz), 5.85(1H,d,J=7.6Hz),4.7
5-5.01(3H,m), 2.38(3H,s), 2.33(3H,s), 0.10(9H,s)
m), 7.60-7.63(2H,m),7.41(1H,brs), 7.40(1H,brs), 7.
30(2H,d,J=8.1Hz), 7.24(2H,d,J=8.1Hz),6.26(1H,d,J=
3.9Hz), 5.91(1H,d,J=3.9Hz), 5.85(1H,d,J=7.6Hz),4.7
5-5.01(3H,m), 2.38(3H,s), 2.33(3H,s), 0.10(9H,s)
【０１４７】参考例１８ １−［５−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エ
チニル−２，３−ジ−Ｏ−イソブチリル−β−Ｄ−リボ
フラノシル］シトシンの製造：実施例１３で得た５−Ｏ
−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，
２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−α，β−Ｄ−リボフ
ラノース５２３mg（１．０mmol）をアセトニトリル４ml
に溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルシ
トシン３０６mg（１．２mmol）を加えた。氷冷した後、
塩化第二スズ１７７μl（１．５mmol）を加え、３０℃
で２０時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素ナト
リウム水２０mlに滴下し、減圧下、溶媒を留去した。残
渣をクロロホルム３０mlで３回抽出した。クロロホルム
層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノ
ール＝２０：１）で精製し、得られた粗結晶をメチルイ
ソブチルケトンに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出し
た結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物２１６mg
（収率５４．２％）を白色粉末として得た。
チニル−２，３−ジ−Ｏ−イソブチリル−β−Ｄ−リボ
フラノシル］シトシンの製造：実施例１３で得た５−Ｏ
−（４−クロロベンゾイル）−３−Ｃ−エチニル−１，
２，３−トリ−Ｏ−イソブチリル−α，β−Ｄ−リボフ
ラノース５２３mg（１．０mmol）をアセトニトリル４ml
に溶解した。これに２，４−ビス−トリメチルシリルシ
トシン３０６mg（１．２mmol）を加えた。氷冷した後、
塩化第二スズ１７７μl（１．５mmol）を加え、３０℃
で２０時間攪拌した。反応液を０．７１Ｍ炭酸水素ナト
リウム水２０mlに滴下し、減圧下、溶媒を留去した。残
渣をクロロホルム３０mlで３回抽出した。クロロホルム
層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。濾過後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノ
ール＝２０：１）で精製し、得られた粗結晶をメチルイ
ソブチルケトンに溶解してｎ−ヘプタンを加え、析出し
た結晶を濾取した。減圧下乾燥し、標記化合物２１６mg
（収率５４．２％）を白色粉末として得た。
【０１４８】ｍｐ：１０６〜１０８℃ FAB-MS：ＫＩ添加、５８４(M+K)+ 1 H-NMR(DMSO-d6)δ：8.02(2H,d,J=8.9Hz),7.66(1H,d,J=
7.6Hz),7.63(2H,d,J=8.9Hz), 7.33(1H,brs), 7.37(1H,b
rs), 6.08(1H,d,J=5.3Hz),5.79(1H,d,J=7.6Hz), 5.59(1
H,d,J=5.3Hz), 4.62-4.78(3H,m), 4.03(1H,s),2.49-2.6
9(2H,m), 1.07-1.13(12H,m)
7.6Hz),7.63(2H,d,J=8.9Hz), 7.33(1H,brs), 7.37(1H,b
rs), 6.08(1H,d,J=5.3Hz),5.79(1H,d,J=7.6Hz), 5.59(1
H,d,J=5.3Hz), 4.62-4.78(3H,m), 4.03(1H,s),2.49-2.6
9(2H,m), 1.07-1.13(12H,m)
【０１４９】参考例１９ 以上の参考例１６〜１８で得た各化合物から参考例４と
同様の方法により１−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リ
ボフラノシル）シトシンを得た。
同様の方法により１−（３−Ｃ−エチニル−β−Ｄ−リ
ボフラノシル）シトシンを得た。
【０１５０】
【発明の効果】本発明化合物は優れた抗腫瘍効果を有す
る３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体の工業的製造
中間体として有用である。
る３'−Ｃ−置換リボヌクレオシド誘導体の工業的製造
中間体として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 彰 北海道札幌市北区北24条西12丁目１−７ −501 (72)発明者 浅尾 哲次 埼玉県所沢市山口5063−１ 48−２− 504 (56)参考文献 Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ. ＣＯＭＭＵＮ．，Ｎｏ．４（1992）ｐ. 289−291 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07H 13/00 - 13/12 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（４） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子、脂肪族低級アシル基、置換基
を有していてもよいベンゾイル基又は低級アルキルオキ
シカルボニル基を示し、Ｚはトリアルキルシリル基が置
換していてもよいエチニル基を示し、糖部分はリボース
を示す。）で表されるＤ−ペントフラノース誘導体。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000014691A JP3165420B2 (ja) | 1996-05-16 | 2000-01-24 | Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-121372 | 1996-05-16 | ||
| JP12137296 | 1996-05-16 | ||
| JP2000014691A JP3165420B2 (ja) | 1996-05-16 | 2000-01-24 | Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
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Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000014691A Expired - Fee Related JP3165420B2 (ja) | 1996-05-16 | 2000-01-24 | Ｄ−ペントフラノース誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3165420B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102494994B1 (ko) * | 2020-01-14 | 2023-02-01 | 이종민 | 비닐하우스용 농약살포유닛의 이송구조 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10058645A1 (de) * | 2000-11-25 | 2002-05-29 | Clariant Gmbh | Verwendung von cyclischen Zuckerketonen als Katalysatoren für Persauerstoffverbindungen |
| CN111072734B (zh) * | 2019-12-11 | 2023-04-07 | 中国科学院昆明植物研究所 | 一种尿嘧啶核苷衍生物及该衍生物制备去氧氟尿苷药物的方法 |
-
2000
- 2000-01-24 JP JP2000014691A patent/JP3165420B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ．ＣＯＭＭＵＮ．，Ｎｏ．４（１９９２）ｐ．２８９−２９１ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102494994B1 (ko) * | 2020-01-14 | 2023-02-01 | 이종민 | 비닐하우스용 농약살포유닛의 이송구조 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000154197A (ja) | 2000-06-06 |
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