JPH0143083Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0143083Y2 JPH0143083Y2 JP3369982U JP3369982U JPH0143083Y2 JP H0143083 Y2 JPH0143083 Y2 JP H0143083Y2 JP 3369982 U JP3369982 U JP 3369982U JP 3369982 U JP3369982 U JP 3369982U JP H0143083 Y2 JPH0143083 Y2 JP H0143083Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethylene
- vinyl acetate
- acetate copolymer
- copolymer layer
- mat
- Prior art date
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- Expired
Links
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Landscapes
- Carpets (AREA)
- Finger-Pressure Massage (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は滑り止めを施した運動マツトに関する
ものである。運動マツトには人体の激しい衝撃が
及ぼされるものであり、床の所定位置からずれ易
いものである。特に持運びが容易に出来るように
軽量化した場合には運動マツトの位置のずれは大
きくなる。
ものである。運動マツトには人体の激しい衝撃が
及ぼされるものであり、床の所定位置からずれ易
いものである。特に持運びが容易に出来るように
軽量化した場合には運動マツトの位置のずれは大
きくなる。
本考案は運動マツトの位置のずれを簡単に防止
するものであり、運動マツトの裏面に凹凸を有す
るエチレン−酢酸ビニル共重合体層を塗布形成し
たことを骨子とするものである。
するものであり、運動マツトの裏面に凹凸を有す
るエチレン−酢酸ビニル共重合体層を塗布形成し
たことを骨子とするものである。
本考案を図に示す一実施例にもとづいて説明す
れば、弾性芯体１は例えばフエルト、ポリウレタ
ン発泡体のような弾性体からなり、該弾性芯体１
は例えば帆布のような厚手の繊維織物からなる表
布２によつて包覆される。かくして構成された運
動マツトの裏面の表布２面にはゴバン目状に凹凸
３Ａが形成されたエチレン−酢酸ビニル共重合体
層３が設けられる。
れば、弾性芯体１は例えばフエルト、ポリウレタ
ン発泡体のような弾性体からなり、該弾性芯体１
は例えば帆布のような厚手の繊維織物からなる表
布２によつて包覆される。かくして構成された運
動マツトの裏面の表布２面にはゴバン目状に凹凸
３Ａが形成されたエチレン−酢酸ビニル共重合体
層３が設けられる。
上記エチレン−酢酸ビニル共重合体層３を形成
するには表布２の表面に上記エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶液を一定
厚みに塗布し乾燥させ、その後加熱軟化状態にお
いて例えばゴバン目状等にエンボスを行い凹凸３
Ａを形成させるか、または上記エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶液を例
えばゴバン目状に塗布厚を変化させて塗布するか
あるいは凸部分にのみ塗布するかしてその後乾燥
させてもよい。凹凸３Ａの形状はゴバン目状以
外、菱形状、円形状等の任意の形状がとられてよ
いがゴバン目状の場合は縦方向と横方向の両方向
に対する滑り止めが可能である。上記エチレン−
酢酸ビニル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶
液には所望あればポリ塩化ビニル、スチレン−ブ
タジエン共重合体、クロロプレンゴム、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等の他の合成樹脂またはゴ
ムが混合されてもよい。
するには表布２の表面に上記エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶液を一定
厚みに塗布し乾燥させ、その後加熱軟化状態にお
いて例えばゴバン目状等にエンボスを行い凹凸３
Ａを形成させるか、または上記エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶液を例
えばゴバン目状に塗布厚を変化させて塗布するか
あるいは凸部分にのみ塗布するかしてその後乾燥
させてもよい。凹凸３Ａの形状はゴバン目状以
外、菱形状、円形状等の任意の形状がとられてよ
いがゴバン目状の場合は縦方向と横方向の両方向
に対する滑り止めが可能である。上記エチレン−
酢酸ビニル共重合体のエマルジヨン、あるいは溶
液には所望あればポリ塩化ビニル、スチレン−ブ
タジエン共重合体、クロロプレンゴム、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等の他の合成樹脂またはゴ
ムが混合されてもよい。
本考案は上記したように弾性芯体と該弾性芯体
を包覆する表布とからなる運動マツトの裏面に凹
凸を有するエチレン−酢酸ビニル共重合体層を塗
布により形成するから、極めて簡単な手段で種々
の形状、寸法の運動マツトに種々の形状、寸法の
凹凸を有するエチレン−酢酸ビニル共重合体層を
形成して滑り止めを行うことが出来、そして該エ
チレン−酢酸ビニル共重合体層は適度に柔軟な粘
弾性を有し、床面に対して大きな摩擦係数を有し
凹凸形状による係止作用と相剰して極めて大きな
滑り止め効果を奏するものである。しかもエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体層は粘着性少なく床面に
粘着するようなこともなく、また床面のごみやほ
こり等も付着しにくいものである。該エチレン−
酢酸ビニル共重合体層を塗布により形成すること
は連続化が簡単に行われ大量生産に極めて適した
方法であるのみならず、該エチレン−酢酸ビニル
共重合体のエマルジヨンあるいは溶液を塗布する
際に表皮に若干浸透して表布が該エチレン−酢酸
ビニル共重合体によつて強化される。したがつて
本考案では表皮として薄手のものが用いられるこ
とが出来、この点において運動マツトの軽量化、
省資源化が可能になりかつマツトの感触も向上す
ることが出来る。
を包覆する表布とからなる運動マツトの裏面に凹
凸を有するエチレン−酢酸ビニル共重合体層を塗
布により形成するから、極めて簡単な手段で種々
の形状、寸法の運動マツトに種々の形状、寸法の
凹凸を有するエチレン−酢酸ビニル共重合体層を
形成して滑り止めを行うことが出来、そして該エ
チレン−酢酸ビニル共重合体層は適度に柔軟な粘
弾性を有し、床面に対して大きな摩擦係数を有し
凹凸形状による係止作用と相剰して極めて大きな
滑り止め効果を奏するものである。しかもエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体層は粘着性少なく床面に
粘着するようなこともなく、また床面のごみやほ
こり等も付着しにくいものである。該エチレン−
酢酸ビニル共重合体層を塗布により形成すること
は連続化が簡単に行われ大量生産に極めて適した
方法であるのみならず、該エチレン−酢酸ビニル
共重合体のエマルジヨンあるいは溶液を塗布する
際に表皮に若干浸透して表布が該エチレン−酢酸
ビニル共重合体によつて強化される。したがつて
本考案では表皮として薄手のものが用いられるこ
とが出来、この点において運動マツトの軽量化、
省資源化が可能になりかつマツトの感触も向上す
ることが出来る。
図面は本考案の一実施例を示すものであり、第
１図は部分側断面図、第２図は部分裏面図であ
る。 図中、１……弾性芯体、２……表布、３……エ
チレン−酢酸ビニル共重合体層、３Ａ……凹凸。
１図は部分側断面図、第２図は部分裏面図であ
る。 図中、１……弾性芯体、２……表布、３……エ
チレン−酢酸ビニル共重合体層、３Ａ……凹凸。
Claims (1)
- 弾性芯体と、該弾性芯体を包覆する表布とから
なる運動マツトの裏面に凹凸を有するエチレン−
酢酸ビニル共重合体層を塗布形成したことを特徴
とする運動マツト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3369982U JPS58136163U (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 運動マツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3369982U JPS58136163U (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 運動マツト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58136163U JPS58136163U (ja) | 1983-09-13 |
| JPH0143083Y2 true JPH0143083Y2 (ja) | 1989-12-14 |
Family
ID=30045239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3369982U Granted JPS58136163U (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 運動マツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58136163U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4576829B2 (ja) * | 2003-12-01 | 2010-11-10 | 富士電機システムズ株式会社 | 真空ラミネート装置及び真空ラミネート方法 |
-
1982
- 1982-03-09 JP JP3369982U patent/JPS58136163U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58136163U (ja) | 1983-09-13 |
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