JPH0142910B2 - - Google Patents
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- JPH0142910B2 JPH0142910B2 JP57082802A JP8280282A JPH0142910B2 JP H0142910 B2 JPH0142910 B2 JP H0142910B2 JP 57082802 A JP57082802 A JP 57082802A JP 8280282 A JP8280282 A JP 8280282A JP H0142910 B2 JPH0142910 B2 JP H0142910B2
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Description
本発明は、炭化珪素の焼結方法に関するもので
ある。 炭化珪素(SiC)は、低膨張で耐摩性・耐酸化
性に優れ、また、導電性をも併わせ持つ物質であ
る為に、耐火物、発熱体、電気接点、切削用バイ
ト等の各種の用途がある。しかしながら、化学的
に安定である為に緻密な焼結体を得ることが困難
とされてきた。 従来の炭化珪素の焼結方法としては、例えば、
炭化珪素粉末に、アルミニウム系添加物、硼素系
添加物または炭素系添加物等の焼結促進剤を微量
添加して、アルゴンガス雰囲気中にて2000℃以上
で加熱しつつ加圧する方法がある。しかし、この
方法では、焼成温度が2000℃以上と非常に高く、
また、加熱しつつ加圧する所謂ホツトプレス法に
依る為に、炭化珪素が分解し易く、焼結体の形状
も簡単な形状に限られる。また、焼結促進剤の添
加量が炭化珪素の総量に対して微かな量である為
に、炭化珪素中に均一に混合することは難しく、
得られた焼結体内に不均一状態で残留し、焼結体
の特性に欠陥を生じさせ、満足した炭化珪素質焼
結体が得られない。 本発明は、これらの点に鑑み、無加圧で低温焼
結をすることにより、炭化珪素の優れた性質を損
なわず、高密度で導電性を有する焼結体を製造す
ることができる方法を提供しようとするものであ
る。 即ち、本発明は、炭化珪素粉末に、アルミナ・
マグネシア・スピネル粉末と酸化イツトリウム粉
末とからなる焼結助剤を添加・混合して原料粉末
と成し、該粉末を所望形状に成形し、然る後に不
活性ガス雰囲気中で加熱し無加圧焼結することを
特徴とする炭化珪素質焼結体の製造方法である。 本発明に依れば、高密度で導電性を有し、かつ
耐火性及び耐摩性に優れた炭化珪素質焼結体を
1820℃ないし1870℃という低温度にて無加圧で焼
結することができる。また、無加圧焼結法による
ので、複雑な形状の焼結体をも容易に製造するこ
とができる。更に、本発明の製造方法により得ら
れた炭化珪素質焼結体は、導電性を有するので、
材料加工が容易である。例えば、放電加工等の電
気利用による加工法が適用できる。 この様に、低温焼結により高密度の焼結体を得
ることができるのは、充分明らかではないが、ア
ルミナ・マグネシア・スピネル粉末と酸化イツト
リウム粉末の両者が固溶して、その固溶の過程で
液相生成があり、これにより焼結が進行するため
と考えられる。 また、この焼結体は、高密度で導電性を有し、
かつ耐火性および耐摩耗性に優れているので、耐
火物、軸受、電気接点、発熱体等に広く用いられ
る。 本発明に於いて用いる原料粉末は、炭化珪素粉
末、アルミナ・マグネシア(MgAl2O4)スピネ
ル粉末および酸化イツトリウム粉末から成る。こ
こで、炭化珪素粉末、アルミナ・マグネシア・ス
ピネル粉末および酸化イツトリウム粉末の粒度
は、2μ以下のものを用いるのが好ましいが、0.1μ
ないし1.0μ程度のものがより好ましい。 ここで、アルミナ・マグネシア・スピネル粉末
および酸化イツトリウム粉末の混合割合は、原料
粉末の総重量に対して、1%(重量比、以下同
じ)以上10%以下とすることが好ましい。アルミ
ナ・マグネシア・スピネル粉末の配合量を10%以
下としたのは、10%を越えると焼成時の重量減少
が大きく成り、要求する形状を得ることが困難と
なるからである。また、1%以上としたのは、1
%未満とした場合、或る程度は半導体化するが、
液相が余り生成されず、表面張力が小さく焼結が
困難となるからである。次に、酸化イツトリウム
粉末の配合量を10%以下としたのは、10%を越え
ると酸化イツトリウムの一部が残つて、高温強度
が低下するからである。また、1%以上としたの
は、1%未満とした場合、焼結不足となり気孔率
が高くなり多孔質となるからである。 また、アルミナ・マグネシア・スピネル粉末と
酸化イツトリウム粉末との合計の配合割合は、原
料粉末の総重量に対して、2%以上15%以下とす
るのが好ましい。両者の合計の配合割合を15%以
下としたのは、15%を越えると焼成時の熱分解が
顕著となり、要求する形状を得ることが困難とな
るほか、得られる焼結体の機械的・電気的特性が
低下するからである。また、2%以上としたの
は、2%末満とした場合、焼成不足の為多孔質化
がすすみ、成形温度が上昇してしまうからであ
る。 次に、原料粉末は、これを良く混合して、プレ
ス金型等の成形機にて、例えば、300ないし1000
Kg/cm2の高圧下で加圧成形し圧粉体とする。 次に、得られた圧粉体は、アルゴンガス等の不
活性ガス雰囲気中にて、無加圧にて加熱し、焼結
することにより、炭化珪素質焼結体を得る。 ここで、加熱焼結を、不活性ガス雰囲気中にて
行なうのは、成形体即ち圧粉体の組成物質が他の
化合物に変化しない様にするためである。 また、成形体の焼結は、1820℃以上1870℃以下
で行なうことが好ましい。これは、1820℃未満の
場合、焼成過程で成形体の多孔質化が起こり、焼
結できなくなる恐れがあるからである。 また、1870℃を越えると、焼成過程で成形体の
熱分解が多くなり、多孔質になる恐れがあるから
である。 実施例 本発明の製造方法により炭化珪素質焼結体を製
造し、該焼結体について、その気孔率と表面電気
抵抗値を測定した。 本実施例に於ける製造法は、次の様である。 即ち、炭化珪素質原料としてのβ型炭化珪素
(β−SiC)の微粉末(平均粒径0.5μ)に、アルミ
ナ・マグネシア(MgAl2O4)スピネルのボール
ミル粉砕粉(平均粒径0.5μ)と酸化イツトリウム
(Y2O3)のボールミル粉砕粉(平均粒径0.9μ)と
の混合物粉末を、表に示す如き割合にて配合して
原料粉末とした。次いで、該原料粉末をポリエチ
レン容器中にてエタノールを分散媒として、ボー
ルミル架台上で15時間十分に混合した。 次いで、乾燥器中にて60℃で20時間乾燥させ溶
媒を揮散せしめた後、10メツシユの篩を通過さ
せ、得られた粉末を、プレス金型にて600Kg/cm2
で加圧・成形し、圧粉体(6×10×50mm)を得
た。得られた圧粉体を炭化珪素質さや内の炭化珪
素研摩粉(G.C.#180)の間に埋設し、更にさや
を黒鉛容器中に入れた。次に、黒鉛容器を表に示
す温度にて、アルゴンガス雰囲気中にて2時間高
周波加熱し、上記圧粉体の焼結を行なつた。 冷却後、得られた炭化珪素質焼結体の気孔率お
よび導電性について測定した。気孔率について
は、通常のアルキメデス法により求めた。また、
導電性については、電気抵抗値測定用のテスター
を用い、その電極間の間隔を30mmとして抵抗値を
測定することにより行なつた。その結果を表に示
す。 また、比較のために、酸化イツトリウム粉末或
いはアルミナ・マグネシア・スピネル粉末を添加
しない場合(比較例A)、更に、従来の炭化珪素
−硼素−炭素(SiC−B−C)系の原料粉末を用
いた場合(比較例B)についても上記と同様にし
て焼結体を製造し、その評価を行なつた。その条
件、結果を下記の第1表に併わせて示す。 表より明らかの如く、本製造方法により得られ
た炭化珪素質焼結体は、気孔率が2.5%以下と小
さく、また抵抗値も200Ω以下と小さく、緻密で
導電性に優れたセラミツクス焼結体であることが
分る。これは、本発明により、無加圧にて低温焼
結することにより得られるものである。 それに対し、炭化珪素にアルミナ・マグネシ
ア・スピネル粉末或いは酸化イツトリウム粉末の
みを
ある。 炭化珪素(SiC)は、低膨張で耐摩性・耐酸化
性に優れ、また、導電性をも併わせ持つ物質であ
る為に、耐火物、発熱体、電気接点、切削用バイ
ト等の各種の用途がある。しかしながら、化学的
に安定である為に緻密な焼結体を得ることが困難
とされてきた。 従来の炭化珪素の焼結方法としては、例えば、
炭化珪素粉末に、アルミニウム系添加物、硼素系
添加物または炭素系添加物等の焼結促進剤を微量
添加して、アルゴンガス雰囲気中にて2000℃以上
で加熱しつつ加圧する方法がある。しかし、この
方法では、焼成温度が2000℃以上と非常に高く、
また、加熱しつつ加圧する所謂ホツトプレス法に
依る為に、炭化珪素が分解し易く、焼結体の形状
も簡単な形状に限られる。また、焼結促進剤の添
加量が炭化珪素の総量に対して微かな量である為
に、炭化珪素中に均一に混合することは難しく、
得られた焼結体内に不均一状態で残留し、焼結体
の特性に欠陥を生じさせ、満足した炭化珪素質焼
結体が得られない。 本発明は、これらの点に鑑み、無加圧で低温焼
結をすることにより、炭化珪素の優れた性質を損
なわず、高密度で導電性を有する焼結体を製造す
ることができる方法を提供しようとするものであ
る。 即ち、本発明は、炭化珪素粉末に、アルミナ・
マグネシア・スピネル粉末と酸化イツトリウム粉
末とからなる焼結助剤を添加・混合して原料粉末
と成し、該粉末を所望形状に成形し、然る後に不
活性ガス雰囲気中で加熱し無加圧焼結することを
特徴とする炭化珪素質焼結体の製造方法である。 本発明に依れば、高密度で導電性を有し、かつ
耐火性及び耐摩性に優れた炭化珪素質焼結体を
1820℃ないし1870℃という低温度にて無加圧で焼
結することができる。また、無加圧焼結法による
ので、複雑な形状の焼結体をも容易に製造するこ
とができる。更に、本発明の製造方法により得ら
れた炭化珪素質焼結体は、導電性を有するので、
材料加工が容易である。例えば、放電加工等の電
気利用による加工法が適用できる。 この様に、低温焼結により高密度の焼結体を得
ることができるのは、充分明らかではないが、ア
ルミナ・マグネシア・スピネル粉末と酸化イツト
リウム粉末の両者が固溶して、その固溶の過程で
液相生成があり、これにより焼結が進行するため
と考えられる。 また、この焼結体は、高密度で導電性を有し、
かつ耐火性および耐摩耗性に優れているので、耐
火物、軸受、電気接点、発熱体等に広く用いられ
る。 本発明に於いて用いる原料粉末は、炭化珪素粉
末、アルミナ・マグネシア(MgAl2O4)スピネ
ル粉末および酸化イツトリウム粉末から成る。こ
こで、炭化珪素粉末、アルミナ・マグネシア・ス
ピネル粉末および酸化イツトリウム粉末の粒度
は、2μ以下のものを用いるのが好ましいが、0.1μ
ないし1.0μ程度のものがより好ましい。 ここで、アルミナ・マグネシア・スピネル粉末
および酸化イツトリウム粉末の混合割合は、原料
粉末の総重量に対して、1%(重量比、以下同
じ)以上10%以下とすることが好ましい。アルミ
ナ・マグネシア・スピネル粉末の配合量を10%以
下としたのは、10%を越えると焼成時の重量減少
が大きく成り、要求する形状を得ることが困難と
なるからである。また、1%以上としたのは、1
%未満とした場合、或る程度は半導体化するが、
液相が余り生成されず、表面張力が小さく焼結が
困難となるからである。次に、酸化イツトリウム
粉末の配合量を10%以下としたのは、10%を越え
ると酸化イツトリウムの一部が残つて、高温強度
が低下するからである。また、1%以上としたの
は、1%未満とした場合、焼結不足となり気孔率
が高くなり多孔質となるからである。 また、アルミナ・マグネシア・スピネル粉末と
酸化イツトリウム粉末との合計の配合割合は、原
料粉末の総重量に対して、2%以上15%以下とす
るのが好ましい。両者の合計の配合割合を15%以
下としたのは、15%を越えると焼成時の熱分解が
顕著となり、要求する形状を得ることが困難とな
るほか、得られる焼結体の機械的・電気的特性が
低下するからである。また、2%以上としたの
は、2%末満とした場合、焼成不足の為多孔質化
がすすみ、成形温度が上昇してしまうからであ
る。 次に、原料粉末は、これを良く混合して、プレ
ス金型等の成形機にて、例えば、300ないし1000
Kg/cm2の高圧下で加圧成形し圧粉体とする。 次に、得られた圧粉体は、アルゴンガス等の不
活性ガス雰囲気中にて、無加圧にて加熱し、焼結
することにより、炭化珪素質焼結体を得る。 ここで、加熱焼結を、不活性ガス雰囲気中にて
行なうのは、成形体即ち圧粉体の組成物質が他の
化合物に変化しない様にするためである。 また、成形体の焼結は、1820℃以上1870℃以下
で行なうことが好ましい。これは、1820℃未満の
場合、焼成過程で成形体の多孔質化が起こり、焼
結できなくなる恐れがあるからである。 また、1870℃を越えると、焼成過程で成形体の
熱分解が多くなり、多孔質になる恐れがあるから
である。 実施例 本発明の製造方法により炭化珪素質焼結体を製
造し、該焼結体について、その気孔率と表面電気
抵抗値を測定した。 本実施例に於ける製造法は、次の様である。 即ち、炭化珪素質原料としてのβ型炭化珪素
(β−SiC)の微粉末(平均粒径0.5μ)に、アルミ
ナ・マグネシア(MgAl2O4)スピネルのボール
ミル粉砕粉(平均粒径0.5μ)と酸化イツトリウム
(Y2O3)のボールミル粉砕粉(平均粒径0.9μ)と
の混合物粉末を、表に示す如き割合にて配合して
原料粉末とした。次いで、該原料粉末をポリエチ
レン容器中にてエタノールを分散媒として、ボー
ルミル架台上で15時間十分に混合した。 次いで、乾燥器中にて60℃で20時間乾燥させ溶
媒を揮散せしめた後、10メツシユの篩を通過さ
せ、得られた粉末を、プレス金型にて600Kg/cm2
で加圧・成形し、圧粉体(6×10×50mm)を得
た。得られた圧粉体を炭化珪素質さや内の炭化珪
素研摩粉(G.C.#180)の間に埋設し、更にさや
を黒鉛容器中に入れた。次に、黒鉛容器を表に示
す温度にて、アルゴンガス雰囲気中にて2時間高
周波加熱し、上記圧粉体の焼結を行なつた。 冷却後、得られた炭化珪素質焼結体の気孔率お
よび導電性について測定した。気孔率について
は、通常のアルキメデス法により求めた。また、
導電性については、電気抵抗値測定用のテスター
を用い、その電極間の間隔を30mmとして抵抗値を
測定することにより行なつた。その結果を表に示
す。 また、比較のために、酸化イツトリウム粉末或
いはアルミナ・マグネシア・スピネル粉末を添加
しない場合(比較例A)、更に、従来の炭化珪素
−硼素−炭素(SiC−B−C)系の原料粉末を用
いた場合(比較例B)についても上記と同様にし
て焼結体を製造し、その評価を行なつた。その条
件、結果を下記の第1表に併わせて示す。 表より明らかの如く、本製造方法により得られ
た炭化珪素質焼結体は、気孔率が2.5%以下と小
さく、また抵抗値も200Ω以下と小さく、緻密で
導電性に優れたセラミツクス焼結体であることが
分る。これは、本発明により、無加圧にて低温焼
結することにより得られるものである。 それに対し、炭化珪素にアルミナ・マグネシ
ア・スピネル粉末或いは酸化イツトリウム粉末の
みを
【表】
配合した場合(試料No.C1〜C5)には、気孔率が
6%以上となつてしまい実用に適した焼結体が得
られない。更に、抵抗値も1×105Ω以上と大変
大きく、導電性が低い。 更に、従来のSiC−B−C系焼結体の場合で
は、本発明と同様の加熱条件では、気孔率が大き
く、導電性の低い焼結体しか得られず(試料No.
C6)、また、焼結温度を2050℃と高くしても導電
性の低いものしか得ることができない(試料No.
C7)。
6%以上となつてしまい実用に適した焼結体が得
られない。更に、抵抗値も1×105Ω以上と大変
大きく、導電性が低い。 更に、従来のSiC−B−C系焼結体の場合で
は、本発明と同様の加熱条件では、気孔率が大き
く、導電性の低い焼結体しか得られず(試料No.
C6)、また、焼結温度を2050℃と高くしても導電
性の低いものしか得ることができない(試料No.
C7)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 炭化珪素粉末に、アルミナ・マグネシア・ス
ピネル粉末と酸化イツトリウム粉末とからなる焼
結助剤を添加・混合して成る原料粉末を、所望形
状に成形し、然る後不活性雰囲気中で加熱し、焼
結せしめることを特徴とするセラミツクス焼結体
の製造方法。 2 アルミナ・マグネシア・スピネル粉末の混合
割合は、原料粉末の総重量に対して、1ないし10
重量%であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のセラミツクス焼結体の製造方法。 3 酸化イツトリウム粉末の混合割合は、原料粉
末の総重量に対して、1ないし10重量%であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のセラ
ミツクス焼結体の製造方法。 4 アルミナ・マグネシア・スピネル粉末と酸化
イツトリウム粉末の両者合計の混合割合は、原料
粉末の総重量に対して、2ないし15重量%である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のセ
ラミツクス焼結体の製造方法。 5 成形体の加熱は、1820℃ないし1870℃に於い
て行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のセラミツクス焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57082802A JPS58199779A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | セラミツクス焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57082802A JPS58199779A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | セラミツクス焼結体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58199779A JPS58199779A (ja) | 1983-11-21 |
JPH0142910B2 true JPH0142910B2 (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=13784533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57082802A Granted JPS58199779A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | セラミツクス焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58199779A (ja) |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP57082802A patent/JPS58199779A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58199779A (ja) | 1983-11-21 |
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