JPH0140467B2 - - Google Patents

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JPH0140467B2
JPH0140467B2 JP57195235A JP19523582A JPH0140467B2 JP H0140467 B2 JPH0140467 B2 JP H0140467B2 JP 57195235 A JP57195235 A JP 57195235A JP 19523582 A JP19523582 A JP 19523582A JP H0140467 B2 JPH0140467 B2 JP H0140467B2
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JP
Japan
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wafer
disk
transfer
arm
magazine
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JP57195235A
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JPS5986143A (ja
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Nobuhiro Yoshioka
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Ulvac Inc
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Ulvac Inc
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はイオン注入装置のデイスクに取付けさ
れた複数枚のウエハの自動交換装置に関する。従
来例えば第1図及び第2図示のようにイオン注入
口aを設けた真空室b内で複数枚のウエハcを取
付けたデイスクdを回転させて、多数枚のウエハ
cにイオン注入処理を行なう装置が知られるが、
この種装置ではデイスクdを真空室bから取出し
イオン注入処理の終えたウエハcを新たなウエハ
cに交換する作業が煩雑で、これを自動的に行な
うことが望まれる。またデイスクdに取付けるべ
き新たなウエハcの枚数に不足を生じた場合イオ
ン注入中にイオンビームがデイスクdの開孔eを
介して背後のウエハ冷却装置fを照射し真空室b
内を汚損するので、該開孔eを適当に閉塞するこ
とが好ましい。
本発明はかかる要望を満足したウエハ自動交換
装置を提供することを目的としたもので、周囲に
ウエハが装填されるべき開口を備えた円板状のデ
イスクを保持して間歇的にこれを回転するデイス
ク回転装置と、該デイスクの側方の移送路上に置
かれた複数枚のウエハを出し入れ自在に収容する
マガジンを該移送路下方から突出し且つ移送方向
に移動する移動片により浮上させてウエハ取出位
置からウエハ収容位置まで移送する移送装置と、
該デイスクとウエハ取出位置及びウエハ収容位置
との各中間に設けられ、該ウエハと略同径のダミ
ーウエハを下方に備えると共にその上方にウエハ
を下面から支承する閉位置とダミーウエハの通過
を許容する開位置とに開閉自在の腕片を備えた中
間ステーシヨンと、該移送路のウエハ取出位置及
びウエハ収容位置の各マガジンと該中間ステーシ
ヨンの各間でウエハを吸着して移送する揺動自在
の腕片からなる第1移送腕装置と、該中間ステー
シヨンと該デイスクの開口との間でウエハを吸着
して移送する2叉状の揺動自在の腕片からなる第
2移送腕装置とから成る。
本発明の実施例を別紙図面につき説明するに、
その第3図に於て1はシリコンその他の円形のウ
エハ、2は該ウエハ1の複数枚が装填されてイオ
ン注入装置内に出し入れされるデイスク、3は該
デイスク2の周囲に環状に配設したウエハ1が取
付けされる開口を示し、該ウエハ1は該開口3を
塞ぐように装填され、その周囲をばね4で弾圧さ
れた2叉状の押え杆5で押圧固定し、該ウエハ1
の取外しに際しては該デイスク2の透孔2aを介
して突入するピンにより押え杆5が持ち上げされ
る。
該デイスク2はその裏面に第5図に明示するよ
うなボス部6を備え、これをデイスク回転装置7
のチヤツク機構8で把持して該デイスク2を略水
平に回転するようにした。
該回転装置7はギヤボツクス9を介して間歇的
に回転される中空軸10を備え、その側方に設け
たシリンダ11が伸縮すると該中空軸10の内外
の互に連絡した連杆12とベアリングケース1
3,13が上下動して該中空軸10の上端部のチ
ヤツク機構8が作動し、そのアーム8aが前記ボ
ス部6を把持し或は解放するようにした。14は
シリンダ11により上下動する腕杆で、その先端
部が下方のベアリングケース13に形成した係合
溝15と係合する。
間歇的に回転するデイスク2の側方には、第3
図に見られるようにマガジン16をウエハ取出位
置17からウエハ収容位置18へと移送する移送
装置19が設けられると共に該移送装置19のウ
エハ取出位置17及びウエハ収容位置18と該デ
イスク2の各中間に開閉自在の腕片20を備えた
中間ステーシヨン21,22が夫々設けられる。
そしてウエハ取出位置17及びウエハ収容位置1
8の各マガジン16,16と各中間ステーシヨン
21,22との各間にウエハ1を吸着して夫々移
送する腕片23からなる第1移送腕装置24,2
5を設けると共に中間ステーシヨン21,22と
該デイスク2の開口3との間でウエハ1を吸着し
て移送する2叉状の揺動自在の腕片26a,26
bからなる第2移送腕装置26を設けるようにし
た。
該移送装置19の詳細は第6図及び第7図に示
す如くであり左右1対の長溝27を形成した移送
路28の下方に電動機29とスライダ30が往復
動するスライド軸31を取付けた可動枠32の複
数組を列状に配列して設け、各組の電動機29が
回転すると、その出力軸33に取付けた円盤状の
カム34が固定枠35のローラ36に乗り上げて
可動枠32を上動させると共にリンク37を介し
てスライダ30に連結したホイール38が回転し
て該スライド軸31に沿つてスライダ30を移動
させ、かくて該スライダ30に取付けた左右1対
の長手のアーム39が移送路28の長溝27を介
してその上方に突出して該移送路28上のマガジ
ン16を浮上させると共に該スライダ30のスト
ローク距離だけ移送する。該アーム39はこの移
送路28上に突出して移動する行程を終えるとカ
ム34による可動枠32の下降とリンク37の戻
り作動により移送路28の下方に沈下して復動
し、マガジン16は該アーム39のかかる作動の
複数回の繰返しで移送路28のウエハ取出位置1
7からウエハ収容位置18へと浮上状態で送ら
れ、マガジン16と移送路28とが摺接しないの
で塵芥が発生せずウエハ1の表面を汚染すること
がない。尚図示の如く可動枠32の複数組を設け
る場合、各アーム39は第3図に点線示の如く内
外に千鳥状に配設することが好ましい。該デイス
ク2と移送装置19のウエハ取出位置17及びウ
エハ収容位置18の各中間に設けられる中間ステ
ーシヨン21,22には、その下方に第11図に
鎖線で示すようなアルミニウムその他でウエハ1
と同径に形成された同形のダミーウエハ54の複
数枚を収容するポツト40を設けると共に上方に
第8図乃至第11図示のような開閉自在の腕片2
0を設けて構成され、各腕片20は第11図示の
如く内側下方にその閉位置に於てはウエハ1の下
面周囲を支承するがその開位置ではその下方のポ
ツト40のダミーウエハ54の通過取出しを妨げ
ない程度のフランジ41を備えるようにした。ま
た各腕片20は第8図乃至第10図示の如くその
根部20a,20aに於てシリンダ本体42の左
右に突設した案内ピン43,43に挿着され、該
シリンダ本体42内のピストン44が室45内に
導入された圧力流体によりばね46′に抗して移
動するとピストン杆47と一体のスライド軸48
のローラ49が該根部20aのカム50を押し、
該腕片20はシリンダ本体42から離れた開位置
に移動する。また該ピストン44に作用する圧力
流体が排除されると該ピストン44はばね46′
に押されて戻れるのでローラ49のカム50に対
する押圧が解かれ腕片20,20はこれらの間に
張設した戻しばね46に引かれて閉位置に移動す
る。該腕片20,20の開閉作動の指令は例えば
第2移送腕装置26の先端のセンサから出され、
その指令によりシリンダ本体42への圧力流体の
流路の開閉弁が作動することにより行ない得る。
該ポツト40の底部には第4図示のようにリフ
ト53を設けてダミーウエハ54の最上層のもの
が腕片20のすぐ下方に常時位置するように押し
上げられるようにした。
マガジン16はウエハ1を間隔を存して収容し
得るようにウエハ収容棚55を備えると共にその
側方及び上方に該ウエハ1を出し入れする開口5
6及び吸盤51を設けた第1移送腕装置24,2
5の腕片23が降下進入する開放部59を備え、
また各第1移送腕装置24,25の腕片23はそ
の根部を昇降自在の機枠60の案内杆61に沿つ
てリンク62により往復摺動するスライダ63に
固定された構成を夫々有し、各第1移送腕装置2
4,25はマガジン16の移送路28上の位置に
対応して夫々次の如き作動を行なう。即ちウエハ
取出位置17に位置したマガジン16からウエハ
1を取出す場合、第1移送腕装置24の腕片23
は機枠60がその側方のシリンダ64により降下
されてマガジン16の開放部59からウエハ1を
吸着すべく進入し、続いてリンク62が電動機6
5により揺動されると該腕片23は中間ステーシ
ヨン21方向に移動し、同時にシリンダ64の復
動で機枠60を元の高さにまで戻され、ウエハ1
が中間ステーシヨン21の腕片20上に達すると
吸盤51の吸引力が解除されてウエハ1が中間ス
テーシヨン21上に載せられる。
ウエハ収容位置18に位置したマガジン16に
ウエハ1を収容する場合、もう一方の第1移送腕
装置25は先ずシリンダ64による機枠60の下
降により腕片23で中間ステーシヨン22上のウ
エハ1を吸着し、続く電動機65の回動とシリン
ダ64による機枠60の上昇で腕片23はマガジ
ン16方向に移動し乍ら適当高さ上昇し、ウエハ
1をマガジン16の前方の開口56からその収容
棚55内に収め、そこで吸着を解除してその収容
が終る。
各中間ステーシヨン21,22の間には先端に
吸盤66を有する略直角に拡いた第2移送腕装置
26の腕片26a,26bを軸67で軸着し、該
腕片26a,26bが昇降及び90°の旋回を行な
う軸67により作動されると一方の腕片26aの
吸盤66は中間ステーシヨン21上のウエハ1を
吸着すると同時に他方の腕片26bがデイスク2
上のイオン注入済のウエハ1を吸着して上昇し、
続く90°の旋回と昇降で腕片26bのウエハ1を
デイスク2から中間ステーシヨン22上に排出す
べく移送すると共に腕片26aのウエハ1を該デ
イスク2に装填する。この間デイスク2の押え杆
5はデイスク2の透孔2aを介して突入するピン
により持ち上げされ、開口3上のウエハ1が交換
されるを許容する。ウエハ取出位置17のマガジ
ン16のウエハ1がなくなつた場合、中間ステー
シヨン21上にはウエハ1が第1移送腕装置24
により送られて来ないが、この場合該中間ステー
シヨン21の腕片20が開き第2移送腕装置26
はポツト40内に用意されたダミーウエハ54を
吸着してデイスク2の開口3に取付けする。この
ダミーウエハ54を取付けたデイスク2の開口3
は適当な記憶装置により記憶され、イオン注入処
理後に該開口3からダミーウエハ54を取外して
中間ステーシヨン22上に載せられた場合その腕
片20が開いて該ダミーウエハ54を下方のポツ
ト40に収容し、ウエハ収容位置18のマガジン
16内には収容されない。
その作動を説明するに、イオン注入処理済みの
ウエハ1を備えたデイスク2がデイスク回転装置
7に載せられると、先ず第2移送腕装置26が上
下してデイスク2のイオン注入済みのウエハ1の
1枚と中間ステーシヨン21上に送られて来た新
しいウエハ1とを各腕片26a,26bで吸着
し、90°旋回したのちその吸着が解除されるとデ
イスク2の開口3には新しいウエハ1が装填され
る。この装填が終るとデイスク2は回転装置7に
より1区画回転して次の交換されるべきウエハ1
が第2移送腕装置26の取出位置に位置する。中
間ステーシヨン22上のイオン注入済みのウエハ
1は第1移送腕装置25により吸着され移送装置
19のウエハ収容位置18に位置するマガジン1
6のウエハ収容棚55内に収められる。またもう
一方の中間ステーシヨン21上には移送装置19
のウエハ取出位置17に位置するマガジン16か
らもう一方の第1移送腕装置24により取出され
た新しいウエハ1が載置される。そして再び第2
移送腕装置26が作動してデイスク2のウエハ1
を新しいものに取換える。
以上の作動を繰返すことによりデイスク2のイ
オン注入済みの複数枚のウエハ1が新しいウエハ
1に交換されるが、ウエハ取出位置17のマガジ
ン16内の新しいウエハ1がなくなつた場合中間
ステーシヨン21の腕片20が開き、第2移送腕
装置26はポツト40内のダミーウエハ54を吸
着し、これをデイスク2の開口3に装填する。
従つてイオン注入すべくマガジン16に用意し
たウエハ1の枚数がデイスク2の開口3の数より
も少なくてもダミーウエハ54が装填されるので
イオン注入処理の際に該開口3を介してイオンビ
ームが透過することを防止し得、真空室内の汚損
を防止出来る。またデイスク2からダミーウエハ
54が中間ステーシヨン22に取出されたときは
腕片20が開いて下方のポツト40内にダミーウ
エハ54を収容する。
ウエハ取出位置17のマガジン16が空になる
と移送装置19が作動してそのアーム39が移送
路28上に突出移動するので空のマガジン16は
浮上状態でウエハ収容位置18方向に送られ、そ
の際ウエハ収容位置18のイオン注入済みのウエ
ハ1を収容したマガジン16を側方に送り、必要
に応じて待機位置68に用意された新しいウエハ
1を収めたマガジン16をウエハ取出位置17に
移送することが出来る。
このように本発明によればデイスクを間歇的に
回転させるデイスク回転装置と、マガジンをウエ
ハ取出位置からウエハ収容位置へと浮上させて移
送する移送装置と、該デイスクと移送装置との間
のダミーウエハを開閉自在の腕片で取出収容自在
とする中間ステーシヨンと、ウエハ取出位置及び
ウエハ収容位置の各マガジンと該中間ステーシヨ
ンの間でウエハを吸着して移送する第1移送腕装
置と、該中間ステーシヨンと該デイスクの間でウ
エハを移送する2叉状の第2移送腕装置とを設け
たのでデイスクに取付けされるべきウエハの枚数
に不足を生じても自動的にダミーウエハを取付け
出来、イオン注入処理に際してウエハで閉塞され
ないデイスクの開口が存することの不都合を解消
出来、マガジンは移送装置で浮上されて送られる
ので移送による塵芥の発生が防止され、ウエハの
清浄度を向上させ得、円滑迅速なウエハの交換を
行なえる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はイオン注入の截断平面図、第2図はそ
の−線截断側面図、第3図は本発明装置の1
例の平面図、第4図はその−線截断面図、第
5図は第3図の−線截断面図、第6図及び第
7図は第3図の−線及び−線截断面図、
第8図は中間ステーシヨンの腕片の拡大平面図、
第9図はその−線截断面図、第10図は第8
図の左側面図、第11図は第8図の−線
截断面図である。 1……ウエハ、2……デイスク、3……開口、
7……デイスク回転装置、16……マガジン、1
7……ウエハ取出位置、18……ウエハ収容位
置、19……移送装置、20……腕片、21,2
2……中間ステーシヨン、23……腕片、24,
25……第1移送腕装置、26a,26b……腕
片、26……第2移送腕装置、28……移送路、
54……ダミーウエハ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 周囲にウエハが装填されるべき開口を備えた
    円板状のデイスクを保持して間歇的にこれを回転
    するデイスク回転装置と、該デイスクの側方の移
    送路上に置かれた複数枚のウエハを出し入れ自在
    に収容するマガジンを該移送路下方から突出し且
    つ移送方向に移動する移動片により浮上させてウ
    エハ取出位置からウエハ収容位置まで移送する移
    送装置と、該デイスクとウエハ取出位置及びウエ
    ハ収容位置との各中間に設けられ、該ウエハと略
    同径のダミーウエハを下方に備えると共にその上
    方にウエハを下面から支承する閉位置とダミーウ
    エハの通過を許容する開位置とに開閉自在の腕片
    を備えた中間ステーシヨンと、該移送路のウエハ
    取出位置及びウエハ収容位置の各マガジンと該中
    間ステーシヨンの各間でウエハを吸着して移送す
    る移動自在の腕片からなる第1移送腕装置と、該
    中間ステーシヨンと該デイスクの開口との間でウ
    エハを吸着して移送する2叉状の揺動自在の腕片
    からなる第2移送腕装置とから成るウエハ自動交
    換装置。
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