JPS58108641A - ウエハ自動交換装置 - Google Patents

ウエハ自動交換装置

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JPS58108641A
JPS58108641A JP20529881A JP20529881A JPS58108641A JP S58108641 A JPS58108641 A JP S58108641A JP 20529881 A JP20529881 A JP 20529881A JP 20529881 A JP20529881 A JP 20529881A JP S58108641 A JPS58108641 A JP S58108641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
wafer
wafers
processed
automatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20529881A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshimichi Taya
田谷 俊陸
Takeo Konuma
小沼 武男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Naka Seiki Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Naka Seiki Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Naka Seiki Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP20529881A priority Critical patent/JPS58108641A/ja
Publication of JPS58108641A publication Critical patent/JPS58108641A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウェハ自動交換装置に係り、特にイオン打込装
置やプラズマエツチング装置などのウェハ処理装置の回
転円板へのウェハの装着およびウェハ処理剤のウェハの
搬出を行うウェハ自動交換装置の改良に関するものであ
る。
この種従来のウェハ自動交換装置は、第1図に示すよう
に、カセット1に収納されたウェハ2をウェハ自動交換
機構3によって1枚ずつ取9出し、ウェハ処理装置4の
回転円板上に装着し、ウェハ処理後のウェハ2は別のカ
セット5に収納するようになってお9、しかも、カセッ
トの交換は手動となっていた。
しかし、このような方式では次のような欠点を生ずる。
fil  ウェハを収納するカセットやカセットへのウ
ェハの収納位置が変わり、そのため、ウェハの工程管理
をコンピュータを用いて行う場合、混乱が生じやすい。
(2)  カセットの交換を人が行うことは、省力化に
反する。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、ウェハ処理後のウェハをウェハ処理前に収納
されていたカセットに同じ順序で収納することができ、
また、複数個のカセットを連続自動交換することができ
るウェハ自動交換装置を提供することにある。
本発明の特徴は、ウェハ処理装置でウェハ処理するため
すべてのウェハを搬出し終って空になったカ七ツ)1−
処理済ウェハ受取シ位置に移動させるとともに後続する
複数の未処理ウェハ入りカセットを11次ウェハ搬出位
置に移動させ、処理済のウェハを収納し終ったカセット
を順次次の場所に移動させるカセット自動搬送機構を具
備した構成とした点にある。
以下本発明を@3図、第4図に示した実施例および第2
図を用いて詳細に説明する。
まず、第2図を用いて本発明の装置の概略について説明
する。第2図は本発明の装置の概念図であり、第2図に
おいては、従来のウェハ自動交換機構3のほかに、新た
にカセット自動搬送機構6’kelkけて、ウェハ処理
装置4で1つのカセット1aの全ウェハの処理が終る前
にウェハを処理中の空のカ七ツ)laを処理済ウェハ受
取位置7Cに搬送し、処理剤のウェハを処理前と同じカ
セットlaの同じ位置に収納するようにするとともに、
次のカセット1b、lCe11m次カセット1aの位置
に移動させ、処理剤ウェハ全収納したカセットla、1
bt IC’に11次次の位1t7b、7aに移動させ
るようにしである。
以下具体的実施例について説明する。第3図は本発明の
ウェハ自動交換装置の一実施例を示す上面図で、ウェハ
入シカセットが3組の場合を例示してアシ、かつ、ウェ
ハ処理装置(イオン打込装置)の打込室の蓋が開いてい
る状態を示しである。
第4図は第3図のカセット自動搬送機構の構造図で、(
a)は左側面図、(b)は上面図である。第3図におい
て、1a、1b、ICは未処理ウェハ入シカセットで、
図では、カセット1aは台8に、カセットlb、ICは
台9にセットしておる状態を示しである。台8にカセッ
ト1aがセットされるとカセツ)laの最下段のウェハ
が光センサ1oに      1入射する光をしゃ断す
るので、そのときの光センサ10からの信号によってベ
ルト11が回わシ、ウェハがベルト11に乗せられてカ
セツ)laから搬出される。そしてそのウエノ1が光セ
ンサ12に検出されるとベルト11が一時停止し、ウエ
ノ・は■の位置でオリフラ合せを行われる。その後、再
びベルト11が回わり、ウェハが光センサ13に検出さ
れると、ベルト11が再び停止し、ウェハは板14、線
15によって水平面より135゜回転させられ、表面が
45’下側に向く状態で板14の上に乗せられる。16
.17は第2図のウェハ自動交換機構3のアームで、図
示のようにT字型に結合されていて、右側から図示の位
置に90°旋回してきてアーム17の両端の吸着盤18
.19がアーム16.17と一緒にアーム11)の支点
を中心として下降して■、■の位置にあるウェハに静か
に妾する。この状態でそれぞれの吸着盤18.19内を
真空にして吸着盤18゜19でウェハを吸引し、アーム
16.17は上記とは逆に上昇し、さらに右へ90°旋
回して、アーム17の両端の吸着盤18.19が■、■
の位置にきたら再び下降してウエノ・を離脱し、アーム
16.17および吸着盤18.19は再び上昇する。な
お、アーム17の右端の吸着盤19は、最初メオン打込
みを始める前には、ウェハ処理装置4(第2図参照)の
回転円板20にウェハがないので、第1回目のイオン打
込みが終ったときから動作するように制御されている。
上記の動作を繰シ返してカセツ)laのウェハが全部回
転円板20上に搬入されると、イオン打込室21の蓋(
図示せず)が閉まる。ただし、このときは、アーム17
は蓋が当たらぬところまで下っている。ついで、真空→
イオン打込み→吸気が行われ、蓋が開いて回転円板20
へのウェハの搬出入が上記の手順によって行われる。
この間にカセット1aは、カセット自動搬送機構6(第
2図参照)のカセット横送シ装置のアーム22によって
両側を支えられる。アーム22は、第4図のエアシリン
ダ27の軸の先端に固定してあり、エアシリンダ27の
軸が右へ動くと、アーム22が右へ移動し、アーム22
に固定しであるラック28が右へ移動すると、平歯車2
9が回転し、ランク30が左へ移動し、左側アーム22
がセラ)laから離れる。このように、左右のアーム2
2は、カセ゛ツ)lae両側から挾むか離すかは一挙動
で行う。
次に、両センjl−23を軸にして、第4図の両側板3
1の底板32をエアシリンダ33で押し上げて3001
頃ける。これはカセット1aの底面が台8の凸部をさけ
るようにするため行う。
次に、第3図において、モータ24の回転によシ、同軸
のボールネジ25が回転して横送シ台26が右方へ移動
し、処理済カセット受取位置であるカセット位置I C
/で停止する。エアシリンダ33が元のhr置に引き込
むと、底板32、両側板31およびアーム22、カセッ
ト1aが水平に保持される。次に、エアシリンダ27の
軸が出て、右アーム22が右方へ移動すると、ランク2
8、平歯車29、ラック30が同時に作動し、左側アー
ム22が左方へ移動してカセツ)laから離れる。次に
、第4図のモータ34が回転し、同軸の平歯車35と3
6を介して台37のラックを下方に移動する。台37の
下辺がボールネジ25の中心まで下ってモータ34が止
まる。
次に、モータ24が逆回転して横送シ台26がカセット
1bの位置にきて止まる。次に台37がモータ34の逆
回転によシ平歯車35.36を介して台37が上方に上
る。次に、エアシリンダ27の作動によシラツク28,
30、平歯車29を介してカセッ)lbをアーム22が
両側から支え、エアシリンダ33により、底板32 、
filll板31、板上1ト1bが30°傾く。次に、
モータ24が回転して横送り台26が右方に移動し、カ
セット1aがあったとこで止まる。エアシリンダ33の
軸が引き込み、底板32が水平となシ、カセット1bが
カセッ1−18があった位置に置かれる。次に、エアシ
リンダ27の作動によジアーム22が開いてカセッ)2
8′f:離れ、モータ34の回転によ9台37が図の下
方に移動して小休止となる。
イオン打込みが終シ、イオン打込室21の藍があき、上
記と同様にしてカセツ)lbからウェハが次々と搬出さ
れる。一方、イオン切込室210回転円板20の■の位
置でウェハが搬出、搬入を繰り返す。このとき、回転円
板20は、ウエノ・の1ピツチずつ回わされる。
カセット1bのウェハの搬出を終シ、回転円板20のイ
オン打込み済みのウエノ1が全部カセット1aへ搬入を
終9、かつ、カセット1bのウエノ・の回転円板20へ
の搬入を終ると、上記と同じ要領で、カセット横送9台
26が右へ移動し、カセット1aをカセット位置1 c
 /の位置からカセット位置1b′の位置に移す。次に
カセツ)lbiカセット位置IC′の位置に移し、また
、カセツ)ICis+を初にカセツ)laがあった位置
Iに移して小休止となる。
その陵、イオン打込室21での真空→イオン打込み→吸
気を終り、イオン打込室21の蓋があくと、引き続きカ
セットICからウェハが搬出され、イオン打込み済みの
ウェハがカセツ)lbに搬入される動作が繰シ返される
ウェハの搬出入が終ると、カセット横送す台(9) 26はカセット位[1b’のカセットlaf:カセツ)
la’の位置にし、カセット位置1 c /のカセット
1bをカセット位置1b′に移し、さらに、空になった
カセットICをカセット位置1 c /に移す。
イオン打込みが終ると、ウェハの搬出が行われ、前のウ
ェハ入りカセット1a+ lbl ICには全部イオン
打込み済みのウェハが収納され、イオン打込み前と同じ
カセットの状態になる。なお、空のカセットは台38に
置かれ、イオン打込み済みのウェハを収納した2つのカ
セットは台39に置かれる。40は横送シ案内棒である
上記したように、本発明によれば、カセット自動搬送機
構を設けて、ウェハを搬出した空のカセツIf処理済の
ウェハの受取位置に自動搬送するようにしたので、ウェ
ハ処理後のウェハをウェハ処理前に収納されていたカセ
ットに同じ順序で収納することができ、また、カセット
を順次移動するようにしたので、複数個のカセットを連
続自動交換することができ、複数個のカセット内のウニ
(10) ハを無理なく連続的に自動処理して省力化、無人化をは
かることができ、さらに、データ整理および作業管理を
効率的に行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のウェハ自動交換装置の概念図、第2図は
本発明のウエノ・自動交換装置の概念図、第3図は本発
明のウェハ自動交換装置の一実施例を示す上面図、第4
図は第3図のカセット自動搬送機構の構造図で、(a)
は左側面図、(b)は上面図である。 11 1a、lbl  IC・・・カセット、2・・・
ウェハ、3・・・ウェハ自動交換機構、4・・・ウェハ
処理装置、6・・・カセット自動搬送機構、4,5.3
7〜39・・・台、10.12.13・・・光センサ、
11・・・ベルト、20・・・回転円板、21・・・イ
オン打込室、22・・・アーム、23・・・センタ、2
4.34・・・モータ、25・・・ボールネジ、26・
・・横送り台、27.33・・・エアシリンダ、28.
30・・・ラック、29゜第1図 / 第2図 第3図 2θ (a)                     (
b)6

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ウェハを収納した複数のカセットよりウェハを取り
    出してウェハ処理装置の回転円板上に搬入し、ウェハ処
    理済の前記ウェハを前記回転円板から搬出して空のカセ
    ットに収納するウェハ自動交換機mt備えたウェハ自動
    交換装置において、前記ウェハ処理装置でウェハ処理す
    るためすべてのウェハを搬出し終って空になったカセッ
    トを処理済ウェハ受取多位置に移動させるとともに後続
    する複数の未処理ウニ八人シカセットを順次ウェハ搬出
    位置に移動させ、処理済のウェハを収納し終ったカセッ
    トを順次次の場合に移動させるカセット自動搬送機構を
    具備すること′fI:特徴とするウェハ自動交換機構。
JP20529881A 1981-12-21 1981-12-21 ウエハ自動交換装置 Pending JPS58108641A (ja)

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