JPH01313453A - クロロメチル安息香酸の製造法 - Google Patents
クロロメチル安息香酸の製造法Info
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- JPH01313453A JPH01313453A JP14535288A JP14535288A JPH01313453A JP H01313453 A JPH01313453 A JP H01313453A JP 14535288 A JP14535288 A JP 14535288A JP 14535288 A JP14535288 A JP 14535288A JP H01313453 A JPH01313453 A JP H01313453A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式（Ｉｌｌ
で表されるトルイル酸をラジカル発生剤及び不活性溶媒
の存在下に塩素化することを’ＩＩ徴とする −
一般式（Ｉ） で表されるクロロメチル安息香酸の製造法に関するもの
である。
の存在下に塩素化することを’ＩＩ徴とする −
一般式（Ｉ） で表されるクロロメチル安息香酸の製造法に関するもの
である。
クロロメチル安息香酸は医薬、農薬又はポリアミド若し
くはポリエステル叫の高分子材材の製造原料として有望
な化合物であるが、従来、その製造法としてはパラトル
イル酸を紫外線照射下に塩素化する方法（％公昭４６−
３４４１５号）、パラトルイル酸クロライドを光照射下
に塩素化し、生成するパラクロロメチル安息香酸クロラ
イド及び原料である未反応のパラトルイル酸クロライド
を分留し、パラクロロメチル安息香酸クロライドとして
単離し、該バラクｏｏメチル安息香酸クロライドからパ
ラクロロメチル安息香酸を製造する方法（：Ｊ、Ａ、Ｃ
，Ｓ、シュ、 ５１５２〜５１５４（１９５０））が一
般的である。しかし、パラトルイル酸を原料として使用
する方法は紫外線照射下で反応を行うために、装置上の
問題があり、しかも反応中に光源に付着物が生成すると
、反応効率を著しく悪化させる。そして反応溶媒として
目的物の単離が容易な四塩化炭素又はクロロホルム等の
溶媒を使用しているが、反応の進行にともない反応系中
に結晶として目的物が生成することとなり、これが反応
系中の紫外線の透過を妨げ、反応効率を悪くし、エネル
ギーコストが上昇し、最終的には製造コストをも上昇き
せるものとなる。又、パラトルイル酸クロライドを光照
射下に塩素化する方法は、反応の進行にともないパラク
ロロメチル安息香２クロライドが生成するが、ある程度
生成すると該パラクロロメチル安息香酸クロライドから
更に塩素化が進行し、パラジクロロメチル安息香酸クロ
ライドも生成し、反応系中に未反応のパラトルイル酸ク
ロライド、目的物のパラクロロメチル安息香酸クロライ
ド及び副生成物のバラジクロロメチル安息香酸クロライ
ドが共存することとなり、これらを分留によって単離す
るためには、分留装置等を必要と（７、しがも収率は３
ｏチ程度と低く、収率を上げるために反応剤を過剰に使
用したシ、反応時間をのばす２副生成物のバラジクロロ
メチル安息香酸クロライトノ生成を助長することとなる
。
くはポリエステル叫の高分子材材の製造原料として有望
な化合物であるが、従来、その製造法としてはパラトル
イル酸を紫外線照射下に塩素化する方法（％公昭４６−
３４４１５号）、パラトルイル酸クロライドを光照射下
に塩素化し、生成するパラクロロメチル安息香酸クロラ
イド及び原料である未反応のパラトルイル酸クロライド
を分留し、パラクロロメチル安息香酸クロライドとして
単離し、該バラクｏｏメチル安息香酸クロライドからパ
ラクロロメチル安息香酸を製造する方法（：Ｊ、Ａ、Ｃ
，Ｓ、シュ、 ５１５２〜５１５４（１９５０））が一
般的である。しかし、パラトルイル酸を原料として使用
する方法は紫外線照射下で反応を行うために、装置上の
問題があり、しかも反応中に光源に付着物が生成すると
、反応効率を著しく悪化させる。そして反応溶媒として
目的物の単離が容易な四塩化炭素又はクロロホルム等の
溶媒を使用しているが、反応の進行にともない反応系中
に結晶として目的物が生成することとなり、これが反応
系中の紫外線の透過を妨げ、反応効率を悪くし、エネル
ギーコストが上昇し、最終的には製造コストをも上昇き
せるものとなる。又、パラトルイル酸クロライドを光照
射下に塩素化する方法は、反応の進行にともないパラク
ロロメチル安息香２クロライドが生成するが、ある程度
生成すると該パラクロロメチル安息香酸クロライドから
更に塩素化が進行し、パラジクロロメチル安息香酸クロ
ライドも生成し、反応系中に未反応のパラトルイル酸ク
ロライド、目的物のパラクロロメチル安息香酸クロライ
ド及び副生成物のバラジクロロメチル安息香酸クロライ
ドが共存することとなり、これらを分留によって単離す
るためには、分留装置等を必要と（７、しがも収率は３
ｏチ程度と低く、収率を上げるために反応剤を過剰に使
用したシ、反応時間をのばす２副生成物のバラジクロロ
メチル安息香酸クロライトノ生成を助長することとなる
。
本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結
果、トルイル酸を塩素化する際に、反応促進剤と１２で
ラジカル発生剤を反応系に添加することにより高収率で
目的物を製造することができ、且つ副生成物の生成を抑
えることができることを見出し、本発明を完成させたも
のである。
果、トルイル酸を塩素化する際に、反応促進剤と１２で
ラジカル発生剤を反応系に添加することにより高収率で
目的物を製造することができ、且つ副生成物の生成を抑
えることができることを見出し、本発明を完成させたも
のである。
本発明の製造法を、例えば図式的に示すと下記の如く示
すことができる。
すことができる。
即ち、トルイル酸をラジカル発生剤及び不活性溶媒の存
在下に塩素化することによジクロロメチル安息香酸を製
造することができる。
在下に塩素化することによジクロロメチル安息香酸を製
造することができる。
トルイル酸として汀、オルト−、メタ−、パラ一体のい
ずれも使用でき、とりわけパラトルイル酸が好ましい。
ずれも使用でき、とりわけパラトルイル酸が好ましい。
塩素化剤としては従来この穐の反応に使用されるもの、
例えば塩素、塩化スルフリル等が使用できるが、塩素が
好ましい。
例えば塩素、塩化スルフリル等が使用できるが、塩素が
好ましい。
塩素化剤は、好ましくけトルイル酸１モルに対して１〜
２モル使用される。
２モル使用される。
本発明で使用できるラジカル発生剤としては、例えばア
ゾビスインブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、過酸化ベンゾ
イル又はメタクロロ過安息香酸等を挙けることができ、
好ましくはアゾビスイソブチロニトリルを用いるのが良
い。
ゾビスインブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、過酸化ベンゾ
イル又はメタクロロ過安息香酸等を挙けることができ、
好ましくはアゾビスイソブチロニトリルを用いるのが良
い。
ラジカル発生剤の添加量はトルイル酸１モルに対して０
．１モル以下であれば良く、好ましくはｎ、ｏｏｏｓ〜
［Ｌ０５モルの範囲から選択すれば良い。
．１モル以下であれば良く、好ましくはｎ、ｏｏｏｓ〜
［Ｌ０５モルの範囲から選択すれば良い。
不活性溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素
、クロロベンゼン又は安息香酸メチル等の不活性溶媒を
使用することができる。
、クロロベンゼン又は安息香酸メチル等の不活性溶媒を
使用することができる。
反応温度は４０〜２００″０の範囲から選択きれ、好ま
しくは４０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で反応を
行うのが良い。
しくは４０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で反応を
行うのが良い。
反応時間は反応量、ラジカル発生剤の種類、反応温度等
により一定しないが、反応が完結する時間であれば良い
。
により一定しないが、反応が完結する時間であれば良い
。
反応終了後、目的物を反応系から濾過することによシ高
収率で高純度のクロロ安息香酸を製造することができる
が、更に純度を上ける目的で再結晶法等によシ精製して
も良い。
収率で高純度のクロロ安息香酸を製造することができる
が、更に純度を上ける目的で再結晶法等によシ精製して
も良い。
以下に本発明の実施例を示すが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例１゜
れ、溶媒の還流下１５．５Ｆの塩素ガスを２．５時間通
じ、塩素化を行った。反応終了後、反応物を室温まで冷
却し、目的物を濾過することによりパラクロロ安息香酸
を２２．５を得た。
じ、塩素化を行った。反応終了後、反応物を室温まで冷
却し、目的物を濾過することによりパラクロロ安息香酸
を２２．５を得た。
物性 融点１９７〜１９８℃ 収率８９６％実施例２
クロロホルム２００ｍ、 ハラトル’ｆ Ａ−酸３０
ｆ及びアゾビスイソブチロニトリル１．２２ Ｆを反応
容器に入れ、実施例１と同様にして塩素化を行い、５４
．２９のパラクロロ安息香酸を得た。収率９１．２％実
施例３゜ 四塩化炭素２００ｓｌ 、パラトルイル酸３０Ｆ及び過
酸化ベンゾイルｔ７８ｆを反応容器に入れ、実施例１と
同様にして塩素化を行い、１９．４Ｆのパラクロロ安息
香酸を得た。収率 ７７．２％実施例４、 クロロベンゼン１００ｄ、パラトルイル酸３４ｆ及びア
ゾイソブチロニトリル０．７ｆを反応容器に入れ、反応
温度７０〜１１０℃で１７．７ ｆの塩素ガスを２．５
時間通じ塩素化を行った。反応終了後、反応系にクロロ
ベンゼン４０ａｆｆを加え、反応物を室温まで冷却し、
生成物を濾過するととＫよシパラクロロ安息香酸３０Ｆ
得た。収率７ｏ、３％。
ｆ及びアゾビスイソブチロニトリル１．２２ Ｆを反応
容器に入れ、実施例１と同様にして塩素化を行い、５４
．２９のパラクロロ安息香酸を得た。収率９１．２％実
施例３゜ 四塩化炭素２００ｓｌ 、パラトルイル酸３０Ｆ及び過
酸化ベンゾイルｔ７８ｆを反応容器に入れ、実施例１と
同様にして塩素化を行い、１９．４Ｆのパラクロロ安息
香酸を得た。収率 ７７．２％実施例４、 クロロベンゼン１００ｄ、パラトルイル酸３４ｆ及びア
ゾイソブチロニトリル０．７ｆを反応容器に入れ、反応
温度７０〜１１０℃で１７．７ ｆの塩素ガスを２．５
時間通じ塩素化を行った。反応終了後、反応系にクロロ
ベンゼン４０ａｆｆを加え、反応物を室温まで冷却し、
生成物を濾過するととＫよシパラクロロ安息香酸３０Ｆ
得た。収率７ｏ、３％。
Claims (5)
- （１）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表されるトルイル酸をラジカル発生剤及 び不活性溶媒の存在下に塩素化することを特徴とする一
般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で表されるクロロメチル安息香酸の製造法。 - （２）トルイル酸がパラトルイル酸である請求項第１項
記載のクロロメチル安息香酸の製造法。 - （３）ラジカル発生剤がアゾビスイソブチロニトリル、
過酸化ベンゾイル又はメタクロロ過安息香酸である請求
項第１項記載のクロロメチル安息香酸の製造法。 - （４）不活性溶媒がクロロホルム、四塩化炭素、クロロ
ベンゼン又は安息香酸メチルである請求項第１項記載の
クロロメチル安息香酸の製造法。 - （５）塩素化剤をトルイル酸１モルに対して１〜２モル
使用する請求項第１項記載のクロロメチル安息香酸の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14535288A JPH01313453A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | クロロメチル安息香酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14535288A JPH01313453A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | クロロメチル安息香酸の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01313453A true JPH01313453A (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=15383207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14535288A Pending JPH01313453A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | クロロメチル安息香酸の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01313453A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996027577A1 (en) * | 1995-03-06 | 1996-09-12 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of esters of stilbenedicarboxylic acid |
| KR101341449B1 (ko) * | 2011-01-25 | 2013-12-13 | 주식회사 네이퓨 | 디메틸 테레프탈레이트 제조공정의 부산물로부터 ｐ-클로로메틸벤조산 및 벤조산의 제조방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS525727A (en) * | 1975-07-03 | 1977-01-17 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | Process for preparation of alpha,alpha-dichloro-o-toluic acid |
| JPS63130559A (ja) * | 1986-11-06 | 1988-06-02 | ストウファー ケミカル カンパニー | 芳香族化合物の側鎖の光塩素化 |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP14535288A patent/JPH01313453A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS525727A (en) * | 1975-07-03 | 1977-01-17 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | Process for preparation of alpha,alpha-dichloro-o-toluic acid |
| JPS63130559A (ja) * | 1986-11-06 | 1988-06-02 | ストウファー ケミカル カンパニー | 芳香族化合物の側鎖の光塩素化 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996027577A1 (en) * | 1995-03-06 | 1996-09-12 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of esters of stilbenedicarboxylic acid |
| CN1077879C (zh) * | 1995-03-06 | 2002-01-16 | 伊斯曼化学公司 | 茋二羧酸酯的制法 |
| KR101341449B1 (ko) * | 2011-01-25 | 2013-12-13 | 주식회사 네이퓨 | 디메틸 테레프탈레이트 제조공정의 부산물로부터 ｐ-클로로메틸벤조산 및 벤조산의 제조방법 |
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