JPH01306563A - 真空チャンバーのシール装置 - Google Patents
真空チャンバーのシール装置Info
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- JPH01306563A JPH01306563A JP13813788A JP13813788A JPH01306563A JP H01306563 A JPH01306563 A JP H01306563A JP 13813788 A JP13813788 A JP 13813788A JP 13813788 A JP13813788 A JP 13813788A JP H01306563 A JPH01306563 A JP H01306563A
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- roll
- rolls
- vacuum chamber
- magnet
- cover
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空雰囲気中で銅帯等の金属帯材に対してメ
ツキ、清浄処理等を行うために使用する真空チャンバー
のシール装置に関スル。
ツキ、清浄処理等を行うために使用する真空チャンバー
のシール装置に関スル。
たとえば、連続的に走行する鋼帯に対してCVD′等の
処理を減圧雰囲気で行う場合、銅帯の搬送経路に真空チ
ャンバーを設け、その前後にチミンバー内の真空度を確
保するためのシール装置が設けられている。
処理を減圧雰囲気で行う場合、銅帯の搬送経路に真空チ
ャンバーを設け、その前後にチミンバー内の真空度を確
保するためのシール装置が設けられている。
このシール装置として、液体封止に代えて機械的な手段
を組み込んだ構造が実開昭58−61449号公報で提
案されている。このシール装置は、第7図に示すように
、真空チャンバーの出入り口に一対のロール51.52
を配置している。真空チャンバーに送り込まれる鋼帯5
3は、これらロール51.52に挟持されて直線状に走
行する。ロール51.52の周囲はカバー54.55で
取り囲まれており、その間の隙間56を可能な限り小さ
くすることにより、外部から真空チャンバーに流入する
ガス流れを抑えている。また、側部に位置するカバー5
7.58も、ロール51.52C”)側面に近接させ、
隙間59を小さくしている。更には、ロール51.52
自体の周面に弾性体を巻き付け、カバー54.55に摺
擦するように設計したものも知られている。
を組み込んだ構造が実開昭58−61449号公報で提
案されている。このシール装置は、第7図に示すように
、真空チャンバーの出入り口に一対のロール51.52
を配置している。真空チャンバーに送り込まれる鋼帯5
3は、これらロール51.52に挟持されて直線状に走
行する。ロール51.52の周囲はカバー54.55で
取り囲まれており、その間の隙間56を可能な限り小さ
くすることにより、外部から真空チャンバーに流入する
ガス流れを抑えている。また、側部に位置するカバー5
7.58も、ロール51.52C”)側面に近接させ、
隙間59を小さくしている。更には、ロール51.52
自体の周面に弾性体を巻き付け、カバー54.55に摺
擦するように設計したものも知られている。
ところが、第7図に示した構造のシール装置では、カバ
ー54.55.57.58とロール51.52との間に
隙間56.59が形成されることが避けられない。
ー54.55.57.58とロール51.52との間に
隙間56.59が形成されることが避けられない。
そのため、この隙間56.59を介して真空チャンバー
に外気が流入し易く、チャンバー内を高真空度に維持す
るためには多数のシール装置を配列することが必要であ
る。また、弾性体を巻き付けたロールをカバーに摺擦さ
せる方式では、摺擦される弾性体の摩耗が激しく、弾性
体を頻繁に取り替えることが必要とされる。そのため、
ラインの稼動率が低下していた。
に外気が流入し易く、チャンバー内を高真空度に維持す
るためには多数のシール装置を配列することが必要であ
る。また、弾性体を巻き付けたロールをカバーに摺擦さ
せる方式では、摺擦される弾性体の摩耗が激しく、弾性
体を頻繁に取り替えることが必要とされる。そのため、
ラインの稼動率が低下していた。
そこで、本発明は、ロールとカバーとの間に最小の隙間
を維持することによって、摺擦による摩耗を無くすと共
に、外気の流入を抑制し、真空チャンバー内を高真空度
に維持することを目的とする。
を維持することによって、摺擦による摩耗を無くすと共
に、外気の流入を抑制し、真空チャンバー内を高真空度
に維持することを目的とする。
本発明における第1のシール装置は、その目的を達成す
るために、金属帯材の搬送経路に沿って真空チャンバー
の出側及び入側に設けた一対のロールと、該ロールの周
面及び側面を取り囲むカバーと、該カバーに内蔵されて
前記ロールの周面及び側面に向けて付勢されるシール材
と、該シール材に取り付けられた第1の磁石と、該磁石
の取付は位置に対応する前記ロールの周面及び側面に埋
め込まれた第2の磁石とを備えており、第1及び第2の
磁石の互いに対向する面が同じ極性をもっていることを
特徴とする。
るために、金属帯材の搬送経路に沿って真空チャンバー
の出側及び入側に設けた一対のロールと、該ロールの周
面及び側面を取り囲むカバーと、該カバーに内蔵されて
前記ロールの周面及び側面に向けて付勢されるシール材
と、該シール材に取り付けられた第1の磁石と、該磁石
の取付は位置に対応する前記ロールの周面及び側面に埋
め込まれた第2の磁石とを備えており、第1及び第2の
磁石の互いに対向する面が同じ極性をもっていることを
特徴とする。
また、第2のシール装置は、金属帯材の搬送経路に沿っ
て真空チャンバーの出側及び入側に設けた一対のロール
と、該ロールの周面及び側面を取り囲むカバーと、該カ
バーに内蔵され前記ロールの局面及び側面に向けて付勢
されるソール材と、該シール材に超音波振動を付与する
超音波振動子とを備えていることを特徴とする。
て真空チャンバーの出側及び入側に設けた一対のロール
と、該ロールの周面及び側面を取り囲むカバーと、該カ
バーに内蔵され前記ロールの局面及び側面に向けて付勢
されるソール材と、該シール材に超音波振動を付与する
超音波振動子とを備えていることを特徴とする。
本発明におけるロールは、カバーに対して原理的に非接
触状態に維持される。
触状態に維持される。
すなわち、第1のシール装置においては、ロールに対し
シール材を機械的に押し付けた状態で、両者の間に磁気
反撥力を働かせている。したがって、ロールとシール材
との間の隙間が大きくなるとき、機械的な押圧力が磁気
反撥力に打ち勝ち、ロールに対してシール材を接近させ
る。逆に、シール材がロールに接触する程度にまで接近
するとき、磁気反撥力が機械的な押圧力よりも大きくな
り、両者を離間させる力が働く。これにより、ロールと
シール材との間に生じる隙間は、極めて小さなものとな
る。
シール材を機械的に押し付けた状態で、両者の間に磁気
反撥力を働かせている。したがって、ロールとシール材
との間の隙間が大きくなるとき、機械的な押圧力が磁気
反撥力に打ち勝ち、ロールに対してシール材を接近させ
る。逆に、シール材がロールに接触する程度にまで接近
するとき、磁気反撥力が機械的な押圧力よりも大きくな
り、両者を離間させる力が働く。これにより、ロールと
シール材との間に生じる隙間は、極めて小さなものとな
る。
また、第2のシール装置においては、シール材に超音波
振動を付与している。これにより、シール材の表面に垂
直な方向の超音波振動が発生し、ロールとシール材との
間を、ガス流入を極度に低下させ実質的な非接触状態に
維持し、両者の間の摩擦抵抗を軽減している。
振動を付与している。これにより、シール材の表面に垂
直な方向の超音波振動が発生し、ロールとシール材との
間を、ガス流入を極度に低下させ実質的な非接触状態に
維持し、両者の間の摩擦抵抗を軽減している。
このようにして、ロールとカバーとの摺擦に起因する摩
耗等の欠陥を防止しながら、外気の流入がない状態とし
ている。その結果、装置の耐久性が向上すると共に、外
乱を排除して真空チャンバー内の露囲気を安定させ、一
定した条件下での真空処理が行われる。
耗等の欠陥を防止しながら、外気の流入がない状態とし
ている。その結果、装置の耐久性が向上すると共に、外
乱を排除して真空チャンバー内の露囲気を安定させ、一
定した条件下での真空処理が行われる。
以下、図面を参照しながら、実施例により本発明の特徴
を具体的に説明する。
を具体的に説明する。
第1図は、磁気反撥力を利用した第1のシール装置を、
ロール軸方向から見た図である。また、第2図は、第1
図のI−I線に沿った断面図である。
ロール軸方向から見た図である。また、第2図は、第1
図のI−I線に沿った断面図である。
上ロールl及び下ロール20間を鋼帯3が通過して真空
チャンバー(図示せず)に搬入され、或いは真空チャン
バーから搬出される。上ロール1の上方には上部カバー
4が、下ロール2の下方には下部カバー5がそれぞれ設
けられている。また、ロール1.2の側面には、側部カ
バー6.7が設けられている。
チャンバー(図示せず)に搬入され、或いは真空チャン
バーから搬出される。上ロール1の上方には上部カバー
4が、下ロール2の下方には下部カバー5がそれぞれ設
けられている。また、ロール1.2の側面には、側部カ
バー6.7が設けられている。
上部カバー4及び下部カバー5の内部には、それぞれ上
ロール1及び下ロール2の周面方向に付勢される上部シ
ールブロック8及び下部シールブロック9が設けられて
いる。上部シールブロック8は、上部カバー4に固定さ
れた支持台10に立設されたピン11に嵌挿されている
押圧バネ12によって、上ロール1の周面方向に付勢さ
れている。下部シールブロック9も、同様に押圧バネ1
2によって下ロール2の周面方向に付勢されている。側
部カバー6.7内には側部シール板13.14が配置さ
れており、これら側部シール板13.14も、同様にし
て押圧バネ12によってロール1.2の側面方向に付勢
されている。
ロール1及び下ロール2の周面方向に付勢される上部シ
ールブロック8及び下部シールブロック9が設けられて
いる。上部シールブロック8は、上部カバー4に固定さ
れた支持台10に立設されたピン11に嵌挿されている
押圧バネ12によって、上ロール1の周面方向に付勢さ
れている。下部シールブロック9も、同様に押圧バネ1
2によって下ロール2の周面方向に付勢されている。側
部カバー6.7内には側部シール板13.14が配置さ
れており、これら側部シール板13.14も、同様にし
て押圧バネ12によってロール1.2の側面方向に付勢
されている。
これらシールブロック8.9には磁石15が取り付けら
れており、それに対応するロール1.2の周面にも磁石
16が設けられている。また、側部シール板13. 1
4にも同様に磁石17が取り付けられており、この磁石
17に対応するように磁石18がロール1,2の側面に
同心円状に埋め込まれている。
れており、それに対応するロール1.2の周面にも磁石
16が設けられている。また、側部シール板13. 1
4にも同様に磁石17が取り付けられており、この磁石
17に対応するように磁石18がロール1,2の側面に
同心円状に埋め込まれている。
これら磁石15と16及び17と18は、それぞれ向か
い合う面が同じ極性をもつように配置されている。
い合う面が同じ極性をもつように配置されている。
シールブロック8.9及び側部シール板13. 14は
、ロール1.2の周面及び側面に接近する方向の力が押
圧バネ12により与えられる。ところが、その間の隙間
が小さくなると、磁石15と16及び17と18の間に
生じる磁気反18力が幾何級数的に大きくなる。そのた
め、シールブロック8,9及び側部シール板13. 1
4は、ロール1,2の周面及び側面に接触することがな
い。しかも、隙間が大きくなったとき、押圧バネ12に
よる機械的な押付は力が磁気反撥力に打ち勝ち、隙間を
小さくする方向にシールブロック8.9及び側部シール
板13.14を移動させる。
、ロール1.2の周面及び側面に接近する方向の力が押
圧バネ12により与えられる。ところが、その間の隙間
が小さくなると、磁石15と16及び17と18の間に
生じる磁気反18力が幾何級数的に大きくなる。そのた
め、シールブロック8,9及び側部シール板13. 1
4は、ロール1,2の周面及び側面に接触することがな
い。しかも、隙間が大きくなったとき、押圧バネ12に
よる機械的な押付は力が磁気反撥力に打ち勝ち、隙間を
小さくする方向にシールブロック8.9及び側部シール
板13.14を移動させる。
そこで、押圧バネ12の力及び磁石15〜18の保磁力
を調整することにより、シールブロック8,9及び側部
シール板13.14がロール1.2の周面及び側面に接
触せずに、外気の流入を阻止する隙間を維持することが
できる。
を調整することにより、シールブロック8,9及び側部
シール板13.14がロール1.2の周面及び側面に接
触せずに、外気の流入を阻止する隙間を維持することが
できる。
第3図は、超音波振動を利用した第2のンール装置を、
ロール軸方向から見た図である。また、第4図は、第3
図のI−I線に沿った断面図である。
ロール軸方向から見た図である。また、第4図は、第3
図のI−I線に沿った断面図である。
本例においても、上ロール1の周面に上部シールブロッ
ク8が、下ロール2の周面に下部シールブロック9が対
向している。また、ロール1,2の側面に、側部シール
板13.14が対向している。
ク8が、下ロール2の周面に下部シールブロック9が対
向している。また、ロール1,2の側面に、側部シール
板13.14が対向している。
シールブロック8,9及び側部シール板13.14には
、それぞれ超音波振動子19が付設されている。
、それぞれ超音波振動子19が付設されている。
複数個の超音波振動子19を取り付ける場合、振動子取
付は間隔をシールブロック8.9又は側部シール板13
.14に伝播する超音波振動の半波長の整数倍にするこ
とが好ましい。
付は間隔をシールブロック8.9又は側部シール板13
.14に伝播する超音波振動の半波長の整数倍にするこ
とが好ましい。
また、超音波振動子19を取り付ける個所でのシールブ
ロック8.9の厚みは、第5図に示すように接触面に振
動の腹が来るように、はぼ超音波振動の半波長の整数倍
にしている。また、側部シール板13.14に対する超
音波振動子19の取付けも、同様にして行われる。また
、超音波振動子19による振動が、系外に伝播しないよ
うに、シールブロック8,9及び側部シール板13.
14がカバーと接触する個所に、振動吸収板20を介在
させることが好ましい。
ロック8.9の厚みは、第5図に示すように接触面に振
動の腹が来るように、はぼ超音波振動の半波長の整数倍
にしている。また、側部シール板13.14に対する超
音波振動子19の取付けも、同様にして行われる。また
、超音波振動子19による振動が、系外に伝播しないよ
うに、シールブロック8,9及び側部シール板13.
14がカバーと接触する個所に、振動吸収板20を介在
させることが好ましい。
シールブロック8.9及び側部シール板13. 14に
超音波振動を付与すると、接触面に垂直な振動方向の超
音波振動がシールブロック8.9及び側部シール板13
.14の表面に発生する。第6図は、このときの振動形
態を拡大して示した図である。
超音波振動を付与すると、接触面に垂直な振動方向の超
音波振動がシールブロック8.9及び側部シール板13
.14の表面に発生する。第6図は、このときの振動形
態を拡大して示した図である。
すなわち、シールブロック8.9及び側部シール板13
.14(以下、これらをシール材で総称する)の接触部
表面は、振動が付与されていない静止時には中立点P0
にある。これに振動が加えられると、接触部表面は、
PlとP2との間で往復運動を繰り返す。そして、接触
部表面がPlからP2に移動するとき、それに接してい
るロール周面又は側面は、シール材の接触部表面と同じ
動きをする。
.14(以下、これらをシール材で総称する)の接触部
表面は、振動が付与されていない静止時には中立点P0
にある。これに振動が加えられると、接触部表面は、
PlとP2との間で往復運動を繰り返す。そして、接触
部表面がPlからP2に移動するとき、それに接してい
るロール周面又は側面は、シール材の接触部表面と同じ
動きをする。
他方、接触部表面がP2からP、に移動するとき、ロー
ルはそれ自体の重量が大きいため、接触部表面の動きに
追従しない。
ルはそれ自体の重量が大きいため、接触部表面の動きに
追従しない。
このようにして、超音波振動をシール材に印加するとき
、このシール材でで囲まれたロール1゜2は、シール材
と同じ動きをするのではなく、最も高いロール側の面に
ほぼ沿った形状P3 に落ち着いてしまう。その結果、
ロール1.2がシール材に接触している時間は、シール
材の接触部表面が最大振幅位置P、に至る前後の極めて
短い時間に限られることになる。そして、残りの大半の
期間、ロール1.2は、シール材の表面から離れている
。したがって、接触部の摩擦抵抗は低減し、接触部の摩
耗量が減少する。
、このシール材でで囲まれたロール1゜2は、シール材
と同じ動きをするのではなく、最も高いロール側の面に
ほぼ沿った形状P3 に落ち着いてしまう。その結果、
ロール1.2がシール材に接触している時間は、シール
材の接触部表面が最大振幅位置P、に至る前後の極めて
短い時間に限られることになる。そして、残りの大半の
期間、ロール1.2は、シール材の表面から離れている
。したがって、接触部の摩擦抵抗は低減し、接触部の摩
耗量が減少する。
しかも、ガスの流れからみるとき、シール材とロール1
.2との間は接触しているのと同じ状態に保たれており
、その隙間を通して外気が真空チャンバーに流入するこ
とが極度に少なくなる。
.2との間は接触しているのと同じ状態に保たれており
、その隙間を通して外気が真空チャンバーに流入するこ
とが極度に少なくなる。
以上に説明したように、本発明においては、ロールの周
囲にできる隙間を極めて小さくし、外気が真空チャンバ
ーに流入すること実質的にを防ぐと共に、シール材とロ
ールとの間に摩擦がないように、或いは摩擦抵抗を軽減
させている。その結果、シール材やロールに摩耗が発生
することがなく、シール性能の劣化がみられない。この
ようにして、本発明によるとき、真空チャンバーの真空
度を長期にわたって安定させることができる。
囲にできる隙間を極めて小さくし、外気が真空チャンバ
ーに流入すること実質的にを防ぐと共に、シール材とロ
ールとの間に摩擦がないように、或いは摩擦抵抗を軽減
させている。その結果、シール材やロールに摩耗が発生
することがなく、シール性能の劣化がみられない。この
ようにして、本発明によるとき、真空チャンバーの真空
度を長期にわたって安定させることができる。
第1図は磁気反攬力を利用したシール装置を示し、第2
図は第1図のI−1線断面図、第3図は超音波振動を利
用したシール装置を示し、第4図は第3図のI−I線断
面図、第5図及び第6図は超音波振動の形態及び接触部
表面の振動状況を説明するための図である。他方、第7
図は、従来のシール装置を示す図である。 1;上ロール 2:下ロール 3:w4帯 4:上部カバー5:下部カバ
ー 6,7;側部カバー8:上部シールブロック
9:下部シールブロック10:支持台 11
:ピン 12・押圧バ:# 13,14:側部シール
板15〜18:磁石 19:超音波振動子20
:振動吸収板 特許出願人 新日本製鐵 株式会社(ほか1名) 代 理 人 小 堀 益(ほか2名)第1図 第2図 第3図 第5図 第7図 IFI
図は第1図のI−1線断面図、第3図は超音波振動を利
用したシール装置を示し、第4図は第3図のI−I線断
面図、第5図及び第6図は超音波振動の形態及び接触部
表面の振動状況を説明するための図である。他方、第7
図は、従来のシール装置を示す図である。 1;上ロール 2:下ロール 3:w4帯 4:上部カバー5:下部カバ
ー 6,7;側部カバー8:上部シールブロック
9:下部シールブロック10:支持台 11
:ピン 12・押圧バ:# 13,14:側部シール
板15〜18:磁石 19:超音波振動子20
:振動吸収板 特許出願人 新日本製鐵 株式会社(ほか1名) 代 理 人 小 堀 益(ほか2名)第1図 第2図 第3図 第5図 第7図 IFI
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属帯材の搬送経路に沿って真空チャンバーの出側
及び入側に設けた一対のロールと、該ロールの周面及び
側面を取り囲むカバーと、該カバーに内蔵されて前記ロ
ールの周面及び側面に向けて付勢されるシール材と、該
シール材に取り付けられた第1の磁石と、該磁石の取付
け位置に対応する前記ロールの周面及び側面に埋め込ま
れた第2の磁石とを備えており、第1及び第2の磁石の
互いに対向する面が同じ極性をもっていることを特徴と
する真空チャンバーのシール装置。 2、金属帯材の搬送経路に沿って真空チャンバーの出側
及び入側に設けた一対のロールと、該ロールの周面及び
側面を取り囲むカバーと、該カバーに内蔵されて前記ロ
ールの周面及び側面に向けて付勢されるシール材と、該
シール材に超音波振動を付与する超音波振動子とを備え
ていることを特徴とする真空チャンバーのシール装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13813788A JPH07113149B2 (ja) | 1988-06-04 | 1988-06-04 | 真空チャンバーのシール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13813788A JPH07113149B2 (ja) | 1988-06-04 | 1988-06-04 | 真空チャンバーのシール装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01306563A true JPH01306563A (ja) | 1989-12-11 |
JPH07113149B2 JPH07113149B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=15214861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13813788A Expired - Lifetime JPH07113149B2 (ja) | 1988-06-04 | 1988-06-04 | 真空チャンバーのシール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07113149B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002275681A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Chuo Seisakusho Ltd | めっき装置の液漏れ防止機構 |
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1988
- 1988-06-04 JP JP13813788A patent/JPH07113149B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002275681A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Chuo Seisakusho Ltd | めっき装置の液漏れ防止機構 |
JP4591984B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2010-12-01 | 株式会社中央製作所 | めっき装置の液漏れ防止機構 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07113149B2 (ja) | 1995-12-06 |
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