JPH01299633A - ベーキング装置 - Google Patents
ベーキング装置Info
- Publication number
- JPH01299633A JPH01299633A JP13056888A JP13056888A JPH01299633A JP H01299633 A JPH01299633 A JP H01299633A JP 13056888 A JP13056888 A JP 13056888A JP 13056888 A JP13056888 A JP 13056888A JP H01299633 A JPH01299633 A JP H01299633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- baking
- vacuum
- ultrasonic wave
- vibration
- vacuum container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/10—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing sonic or ultrasonic vibrations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は真空容器内の部材から発生するガスをあらか
じめ除去するベーキング装置に関するものである。
じめ除去するベーキング装置に関するものである。
43図は例えば雑誌〔真空)VOl、27磁5([株]
59生6月80日発行)の84から87ページIc示さ
れた従来のベーキング装置を示す概略構成図である。図
において、巾は真空容器、(!1は真空容器…の7り、
13Iは真空容器Ill内に搬入された試験機器s +
41は試験機器fil t−加熱するためのヒータ%i
llはヒータ(41の電源、161 Fi真空ポンプで
ある・ 次に動作について説明する。−殻内に、真空容器+l+
の内壁を構成する部材および真空容器(1)内で種々の
実独を行なうために真空容器…内に搬入された試験機器
(31を構成する部材などは。
59生6月80日発行)の84から87ページIc示さ
れた従来のベーキング装置を示す概略構成図である。図
において、巾は真空容器、(!1は真空容器…の7り、
13Iは真空容器Ill内に搬入された試験機器s +
41は試験機器fil t−加熱するためのヒータ%i
llはヒータ(41の電源、161 Fi真空ポンプで
ある・ 次に動作について説明する。−殻内に、真空容器+l+
の内壁を構成する部材および真空容器(1)内で種々の
実独を行なうために真空容器…内に搬入された試験機器
(31を構成する部材などは。
真空容器+1+内の真空度が良くなるにつれ、これらの
部材が大気中に置かれていた間に部材表面に付着してい
た微量の異物ガス、あるいは部材内部に吸着してい友ガ
ス等を除々に放出し、真空容器(1)内の真空度1!c
悪くする。このため真空容器11) に真空洩れが無
い事が明らかな場合でも、真空ポンプ+611&:常時
作動させて、これ等のガスを排出させる。しかし、真空
容器…内の気圧の目標が10 気圧程度よりも低くな
ると、真空ポンプ16)による排出のみでは圧力が下が
らず。
部材が大気中に置かれていた間に部材表面に付着してい
た微量の異物ガス、あるいは部材内部に吸着してい友ガ
ス等を除々に放出し、真空容器(1)内の真空度1!c
悪くする。このため真空容器11) に真空洩れが無
い事が明らかな場合でも、真空ポンプ+611&:常時
作動させて、これ等のガスを排出させる。しかし、真空
容器…内の気圧の目標が10 気圧程度よりも低くな
ると、真空ポンプ16)による排出のみでは圧力が下が
らず。
部材から放出されるガスそのものを減らすこ七が必要と
なる。このためベーキング処置(加熱焼出しとも呼ばれ
る)が行なわれる。以下、このベーキング処置について
説明する。真空容器Ill内に試験機器(31を搬入し
た後真空容器+11のフタI(1)に閉じて真空ポンプ
1611に作動させ、真空容器Ill内の排気を行なう
。真空容器山内の真空度がある程f尚〈なってからヒー
タ141を電源telに接続して試験機器(3)を加熱
する。
なる。このためベーキング処置(加熱焼出しとも呼ばれ
る)が行なわれる。以下、このベーキング処置について
説明する。真空容器Ill内に試験機器(31を搬入し
た後真空容器+11のフタI(1)に閉じて真空ポンプ
1611に作動させ、真空容器Ill内の排気を行なう
。真空容器山内の真空度がある程f尚〈なってからヒー
タ141を電源telに接続して試験機器(3)を加熱
する。
加熱する温度は試験を行なう際の温度より高い事が望ま
しい。又、試験機器13)は本来は加熱されても酸化さ
れない材質であることが好ましいが、真空容器III内
に空気がほとんどないので酸化することはない。試I!
I!機器131が金属性である44+、例えば数百℃に
達するまで加熱し、その状態で数時間ないし数十時間真
空ポンプ(6)により排気を続ける。
しい。又、試験機器13)は本来は加熱されても酸化さ
れない材質であることが好ましいが、真空容器III内
に空気がほとんどないので酸化することはない。試I!
I!機器131が金属性である44+、例えば数百℃に
達するまで加熱し、その状態で数時間ないし数十時間真
空ポンプ(6)により排気を続ける。
この様な処置により、試験機器181を構成する部材に
吸着されていたガス等はほとんど放出される。この処置
の後ヒータ141を消して試験機器(31の温度を下げ
るとガス放出がほとんどなくなり、真空容器Ill内の
真空度が目標レベルに達するので試験等を行なうことが
出来る。なお、説明は省略するが、真空容器Ill内の
内壁等も同様に加熱してベーキング処置を行なうのが一
般的である。第4図はこの様なベーキング処置により放
出されるガスの欧が一般的に時間と共にどう変化するか
を示すもので、ガス放出telケタ減らすためには10
倍の時間が必要である。
吸着されていたガス等はほとんど放出される。この処置
の後ヒータ141を消して試験機器(31の温度を下げ
るとガス放出がほとんどなくなり、真空容器Ill内の
真空度が目標レベルに達するので試験等を行なうことが
出来る。なお、説明は省略するが、真空容器Ill内の
内壁等も同様に加熱してベーキング処置を行なうのが一
般的である。第4図はこの様なベーキング処置により放
出されるガスの欧が一般的に時間と共にどう変化するか
を示すもので、ガス放出telケタ減らすためには10
倍の時間が必要である。
従来のベーキング装置は以上の様に構成されているので
、試験機器が高温になると変質する様な部材で構成され
ている場合にはあまり高温に加熱することは出来ない。
、試験機器が高温になると変質する様な部材で構成され
ている場合にはあまり高温に加熱することは出来ない。
そのため−殻内にはそれほど高温とはせずにその代り加
熱保持している時間を長くする必要がある。又、ベーキ
ング処置は一般的に数十時間を必要とするため。
熱保持している時間を長くする必要がある。又、ベーキ
ング処置は一般的に数十時間を必要とするため。
実験や試験などのための時間ロスが非常に大きいという
課題があった。
課題があった。
この発明は上記のよりな11!題を解消するためになさ
れたもので、ベーキング処置に要する時間を短縮する事
ができるベーキング装置を得ることを目的とする◎ 〔課題を解消するための手段〕 この発明に係るベーキング装置は、真空容器内の部材を
加熱して該部材から発生するガスをめらかしめ除去する
ベーキング装置において、上記部材に超音波振動を印加
する加振装置を設けたものである。
れたもので、ベーキング処置に要する時間を短縮する事
ができるベーキング装置を得ることを目的とする◎ 〔課題を解消するための手段〕 この発明に係るベーキング装置は、真空容器内の部材を
加熱して該部材から発生するガスをめらかしめ除去する
ベーキング装置において、上記部材に超音波振動を印加
する加振装置を設けたものである。
この発明における加振装置は、ベーキング処置時に真空
容器内の部材に超音波振#を印加することにより、上記
部材からのガスの放出を促進させる。
容器内の部材に超音波振#を印加することにより、上記
部材からのガスの放出を促進させる。
以下、この発明の一実施例を図につめて説明する。第1
図において、(11から(6)は上記従来のものと同一
のものである。17)は真空容器Ill内の部材に超音
波振動を印加するW#i装置であり、超音波振動の発振
源である超音波発振器(8)と、超音波発振器(8)に
より発振された超音波振#を真空容器内の部材としての
試験機器(31に伝達する伝達コーン(91により構成
されている。
図において、(11から(6)は上記従来のものと同一
のものである。17)は真空容器Ill内の部材に超音
波振動を印加するW#i装置であり、超音波振動の発振
源である超音波発振器(8)と、超音波発振器(8)に
より発振された超音波振#を真空容器内の部材としての
試験機器(31に伝達する伝達コーン(91により構成
されている。
上記の様に構成されたベーキング装置においては、ヒー
タ141による加熱および真空ポンプ(6)による排気
によりベーキング処置を行なう点は、上記従来のものと
同一であるが、このベーキング処置中に超音波発振器1
811に発振;せ、伝達コーン(9)を通じて試験機器
131に超音波振動を印加すると、試験機器1811に
構成する部材から放出されるガスは、超音波振動により
部材から離脱しやすくなる。このため、従来は鴫と真空
という2つの条件により部材からのガスの放出が行なわ
れていたのが、更に超音波振動という物理的な力が加わ
ることにより、ガスの放出が早くなる。
タ141による加熱および真空ポンプ(6)による排気
によりベーキング処置を行なう点は、上記従来のものと
同一であるが、このベーキング処置中に超音波発振器1
811に発振;せ、伝達コーン(9)を通じて試験機器
131に超音波振動を印加すると、試験機器1811に
構成する部材から放出されるガスは、超音波振動により
部材から離脱しやすくなる。このため、従来は鴫と真空
という2つの条件により部材からのガスの放出が行なわ
れていたのが、更に超音波振動という物理的な力が加わ
ることにより、ガスの放出が早くなる。
なお、試験機器(310寸法の大きい場合など、伝達コ
ーン+91の試験機器131への接触点を適宜移動させ
たり、加振装置(7)を複数個設置することにより超音
波振動が伝わらない部分をなくすようにする。又、超音
波振#けしばしば部材表面で定在波を構成し、部材の良
く振動している部分と、全く振動していない部分を作る
ことがある。この状況を第2図VCより説明する。第2
図1alは振動を発振していない状態を示し、第2図1
alは振動を発振している状態を示すものである。
ーン+91の試験機器131への接触点を適宜移動させ
たり、加振装置(7)を複数個設置することにより超音
波振動が伝わらない部分をなくすようにする。又、超音
波振#けしばしば部材表面で定在波を構成し、部材の良
く振動している部分と、全く振動していない部分を作る
ことがある。この状況を第2図VCより説明する。第2
図1alは振動を発振していない状態を示し、第2図1
alは振動を発振している状態を示すものである。
第2図(b+ VC示すように振#を発振している状態
では伝達コーン(91は実線および仮想線で示す伸縮性
の振動金し、試験機器(3)を構成する部材には、振動
の頗の部分1101と振動の腹の部分Uυが生じ、頗の
部分(10)でにベーキング促進効果が十分でなくなる
。この様な場合が生ずるのを防止するため超音波振動の
周波数は少なくとも1.5倍程度変化させるのが好まし
い。試験機器(3)を構成する部材の振動状態は試験機
器+S+の固臀振動数によって定まるため、試験機器(
31と伝達コーン(91の振動伝達点を移動させてもあ
まり効果はなく、上記のように超音波振動の周波数を変
えるのが最も効果的である。
では伝達コーン(91は実線および仮想線で示す伸縮性
の振動金し、試験機器(3)を構成する部材には、振動
の頗の部分1101と振動の腹の部分Uυが生じ、頗の
部分(10)でにベーキング促進効果が十分でなくなる
。この様な場合が生ずるのを防止するため超音波振動の
周波数は少なくとも1.5倍程度変化させるのが好まし
い。試験機器(3)を構成する部材の振動状態は試験機
器+S+の固臀振動数によって定まるため、試験機器(
31と伝達コーン(91の振動伝達点を移動させてもあ
まり効果はなく、上記のように超音波振動の周波数を変
えるのが最も効果的である。
以上のように、この発明によれv′f%真空容器内の部
材を加熱して該部材から発生するガスをあらかじめ除去
するベーキング装置において、上記部材に超音波振動を
印加するm嵌装置を備えるようにしたので、ベーキング
装置に要する時間を短縮することが出来るものが得られ
る効果がある。
材を加熱して該部材から発生するガスをあらかじめ除去
するベーキング装置において、上記部材に超音波振動を
印加するm嵌装置を備えるようにしたので、ベーキング
装置に要する時間を短縮することが出来るものが得られ
る効果がある。
第1図はこの発明の一実施例によるベーキング装置を示
す概略構成図、第2図1al 、 fl)lは第1図の
動作説明の九めの説明図%第8図は従来のベーキング装
置?示す概略構成図、第4図はベーキング処置時間とガ
ス放出量の一般的関係を示す説明図である。 図において、)11は真空容器、141¥′iヒータ、
161は真空ポンプ、+71は加振装置である。 なお、図中同一符号は同一、又は相当部分を示す。
す概略構成図、第2図1al 、 fl)lは第1図の
動作説明の九めの説明図%第8図は従来のベーキング装
置?示す概略構成図、第4図はベーキング処置時間とガ
ス放出量の一般的関係を示す説明図である。 図において、)11は真空容器、141¥′iヒータ、
161は真空ポンプ、+71は加振装置である。 なお、図中同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)真空容器内の部材を加熱して該部材から発生する
ガスをあらかじめ除去するベーキング装置において、上
記部材に超音波振動を印加する加振装置を備えているこ
とを特徴とするベーキング装置。 - (2)加振装置は超音波の周波数を可変にしたことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のベーキング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13056888A JPH01299633A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ベーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13056888A JPH01299633A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ベーキング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01299633A true JPH01299633A (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=15037359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13056888A Pending JPH01299633A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ベーキング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01299633A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008246380A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Ihi Corp | 真空処理装置及びそのメンテナンス方法 |
JP2010185810A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | ガス採取容器 |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP13056888A patent/JPH01299633A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008246380A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Ihi Corp | 真空処理装置及びそのメンテナンス方法 |
JP2010185810A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | ガス採取容器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6056431B2 (ja) | プラズマエツチング装置 | |
KR960035872A (ko) | 플라즈마처리방법 및 장치 | |
JPH01299633A (ja) | ベーキング装置 | |
JP2003516793A (ja) | 壁・床用キャビテーション洗浄装置 | |
JP4806296B2 (ja) | クリーニング装置 | |
JPH0442821B2 (ja) | ||
JP2002045683A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH11111620A (ja) | プラズマ処理装置およびスパッタ装置 | |
JP3782647B2 (ja) | 表面波プラズマエッチング装置を用いた半導体ウェーハ上の物質膜エッチング方法 | |
JPS6389162A (ja) | 滅菌処理装置 | |
JPS5638598A (en) | Exhausting device of turbo-molecular pump | |
JPH0624185B2 (ja) | ドライエツチング装置 | |
JPH03252081A (ja) | 高圧雰囲気マイクロ波加熱炉 | |
JPH10294199A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
JPH0425222Y2 (ja) | ||
JPS6167919A (ja) | 基板後処理装置 | |
JPH06112141A (ja) | マイクロ波プラズマ装置 | |
JPH086186B2 (ja) | 基板の処理装置およびその処理方法 | |
JP2000073188A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH11135480A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH01319930A (ja) | 気相成長装置 | |
JP2000137532A (ja) | プラズマ発生装置用電源装置 | |
JPH04280486A (ja) | エキシマレーザ装置 | |
JPH07142193A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
JPS63274446A (ja) | 真空装置ベ−キング方法およびその装置 |