JPS6389162A - 滅菌処理装置 - Google Patents
滅菌処理装置Info
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- JPS6389162A JPS6389162A JP23591286A JP23591286A JPS6389162A JP S6389162 A JPS6389162 A JP S6389162A JP 23591286 A JP23591286 A JP 23591286A JP 23591286 A JP23591286 A JP 23591286A JP S6389162 A JPS6389162 A JP S6389162A
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Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、滅菌処理装置に関し、更に詳しくは、プラズ
マを利用して、被処理物、例えば医療用器具等に対し、
短時間で完全な滅菌処理を行う装置に関するものである
。
マを利用して、被処理物、例えば医療用器具等に対し、
短時間で完全な滅菌処理を行う装置に関するものである
。
従来よりこの種滅菌処理装置には各種の滅菌方法を用い
たものが提案され、また実用にも供されている。
たものが提案され、また実用にも供されている。
その主なるものは、蒸気加熱、ヒーター乾式加熱、オゾ
ン及び紫外光等を利用したものである。
ン及び紫外光等を利用したものである。
しかしながら、これら装置の内、蒸気加熱及びヒーター
乾式加熱方式の装置は基本的には温度を上げることによ
って滅菌しようとするものである。
乾式加熱方式の装置は基本的には温度を上げることによ
って滅菌しようとするものである。
したがって、高温にも強い菌を完全に殺すことはできな
かった。
かった。
また、オゾン及び紫外光を利用した装置ではオゾンの化
学反応力、紫外光方式では紫外線の持つ殺菌力により滅
菌処理を行っている。
学反応力、紫外光方式では紫外線の持つ殺菌力により滅
菌処理を行っている。
これらの装置においても、オゾン及び紫外光が当たらぬ
影の部分や被処理物が重なった部分では完全な滅菌が行
われないという問題点があり、また、完全な滅菌をしよ
うとすると長い時間をかけねばならず、処理効率が低下
するという問題点があった。
影の部分や被処理物が重なった部分では完全な滅菌が行
われないという問題点があり、また、完全な滅菌をしよ
うとすると長い時間をかけねばならず、処理効率が低下
するという問題点があった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みなされたもので、
その目的とするところは、短時間で完全な、高効率の滅
菌処理を行うことができる滅菌処理装置を提供すること
にある。
その目的とするところは、短時間で完全な、高効率の滅
菌処理を行うことができる滅菌処理装置を提供すること
にある。
この目的を達成するための、本発明は、プラズマ発生用
ガス導入管と真空排気管を有する処理室と、該処理室内
にプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備え、該
手段によるプラズマによって被処理物に対する滅菌処理
を行う構成を特徴とするものである。
ガス導入管と真空排気管を有する処理室と、該処理室内
にプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備え、該
手段によるプラズマによって被処理物に対する滅菌処理
を行う構成を特徴とするものである。
以下１本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
本発明装置は、プラズマを利用して完全滅菌を行うもの
で、該プラズマを発生させるための手段としては種々あ
って特に限定はされないが、本実施例ではその主なる手
段としてマイクロ波と高周波を用いた場合を図示し、説
明する。
で、該プラズマを発生させるための手段としては種々あ
って特に限定はされないが、本実施例ではその主なる手
段としてマイクロ波と高周波を用いた場合を図示し、説
明する。
第１図はマイクロ波を用いた滅菌処理装置の概略構成図
で、図中１は処理室、２は開閉蓋、３はバルブ４を介し
て処理室１内にプラズマ発生用ガス（大気も含む）、好
ましくはＯ，（酸素） を導入するためのプラズマ発生
用ガス導入管（以下、ガス導入管という）、５はバルブ
６を介して処理室１内に大気を導入するための大気導入
管、７はバルブ８を介して処理室１内を真空排気するた
めの真空排気管、９は放電管、１０は導波管、１１はマ
イクロ波発振部、１２は駆動電源を示す。
で、図中１は処理室、２は開閉蓋、３はバルブ４を介し
て処理室１内にプラズマ発生用ガス（大気も含む）、好
ましくはＯ，（酸素） を導入するためのプラズマ発生
用ガス導入管（以下、ガス導入管という）、５はバルブ
６を介して処理室１内に大気を導入するための大気導入
管、７はバルブ８を介して処理室１内を真空排気するた
めの真空排気管、９は放電管、１０は導波管、１１はマ
イクロ波発振部、１２は駆動電源を示す。
かかる構成に係る装置により被処理物の滅菌処理を行う
には、先ず、蓋２を開け、被処理物１３を入れたパケッ
ト１４を処理室１内に定置して蓋２を密閉する。次いで
、真空ポンプ（図示しない）を動作させ、真空排気管７
、バルブ８を介して処理室１内を所定の真空度にした後
、規定量のプラズマ発生用ガス、好ましくはＯ，（酸素
）をガス導入管３、バルブ４を介して処理室１内に導入
する０次いで、駆動電源１２を動作させてマイクロ波発
振部１１を動作させると導波管１ｏを介して放電管９よ
りプラズマが発生し、被処理物１３に対する滅菌処理が
開始される。
には、先ず、蓋２を開け、被処理物１３を入れたパケッ
ト１４を処理室１内に定置して蓋２を密閉する。次いで
、真空ポンプ（図示しない）を動作させ、真空排気管７
、バルブ８を介して処理室１内を所定の真空度にした後
、規定量のプラズマ発生用ガス、好ましくはＯ，（酸素
）をガス導入管３、バルブ４を介して処理室１内に導入
する０次いで、駆動電源１２を動作させてマイクロ波発
振部１１を動作させると導波管１ｏを介して放電管９よ
りプラズマが発生し、被処理物１３に対する滅菌処理が
開始される。
所定の時間が経過したら、バルブ４を閉じてガス導入管
３よりのプラズマ発生用ガスの導入を停止し、駆動電源
１２の動作を停止して、マイクロ波発振部１１の動作を
停止する。次いで、真空ポンプの動作を停止し、処理室
１内を大気圧に戻すため、バルブ６を開け、大気導入管
５より細菌除去フィルター（図示しない）を介して大気
を導入して処理室１内を大気圧にした後、蓋２を開け。
３よりのプラズマ発生用ガスの導入を停止し、駆動電源
１２の動作を停止して、マイクロ波発振部１１の動作を
停止する。次いで、真空ポンプの動作を停止し、処理室
１内を大気圧に戻すため、バルブ６を開け、大気導入管
５より細菌除去フィルター（図示しない）を介して大気
を導入して処理室１内を大気圧にした後、蓋２を開け。
パケット１４を処理室１内より取り出し、被処理物１３
に対する滅菌処理を完了する。
に対する滅菌処理を完了する。
以上の説明に係る装置は、処理室１内でプラズマを発生
させ、これにより滅菌処理を行うものであるが、プラズ
マはこれを第２図に示すように。
させ、これにより滅菌処理を行うものであるが、プラズ
マはこれを第２図に示すように。
外部部分１５で発生させて、これを処理室１内に導入す
ることも可能である。
ることも可能である。
なお、第２図において、第１図との対応部分には同一符
号を附しである。
号を附しである。
次に、高周波を用いた本発明装置を第３図から第５図に
示す概略構成図に基づいて説明する。
示す概略構成図に基づいて説明する。
第３図はバレル型対向電極方式であって１図中２０は横
形円筒処理室、２１は開閉蓋、２２はバルブ２３を介し
て処理室２０内にプラズマ発生用ガスを導入するガス導
入管、２４はバルブ２５を介してガス導入管２２と連通
され、処理室２０内を大気圧に戻すための大気導入管、
２６はバルブ２７を介して処理室２０内を真空排気する
ための真空排気管、２８．２９は処理室２０の外周に配
設された高周波電極、３０は高周波電源を示す。
形円筒処理室、２１は開閉蓋、２２はバルブ２３を介し
て処理室２０内にプラズマ発生用ガスを導入するガス導
入管、２４はバルブ２５を介してガス導入管２２と連通
され、処理室２０内を大気圧に戻すための大気導入管、
２６はバルブ２７を介して処理室２０内を真空排気する
ための真空排気管、２８．２９は処理室２０の外周に配
設された高周波電極、３０は高周波電源を示す。
かから構成される装置により被処理物の滅菌処理を行う
手順につき説明すると、先ず、蓋２１を開け、被処理物
１３を入れたパケット１４を処理室２ｏ内に定置して蓋
２１を密閉する。
手順につき説明すると、先ず、蓋２１を開け、被処理物
１３を入れたパケット１４を処理室２ｏ内に定置して蓋
２１を密閉する。
次いで、真空ポンプ（図示しない）を動作させ、真空排
気管２６、バルブ２７を介して処理室２０内を所定の真
空度にした後、規定量のプラズマ発生用ガスをガス導入
管２２、バルブ２３を介して処理室２０内に導入する０
次いで、高周波電源３０より電極２８．２９に高周波電
力を印加すると、処理室２０内にてプラズマ放電が起き
てプラズマが発生し、被処理物１３に対する滅菌処理が
開始される。
気管２６、バルブ２７を介して処理室２０内を所定の真
空度にした後、規定量のプラズマ発生用ガスをガス導入
管２２、バルブ２３を介して処理室２０内に導入する０
次いで、高周波電源３０より電極２８．２９に高周波電
力を印加すると、処理室２０内にてプラズマ放電が起き
てプラズマが発生し、被処理物１３に対する滅菌処理が
開始される。
所定の時間が経過したら、バルブ２３を閉じてガス導入
管２２よりのプラズマ発生用ガスの導入を停止し、高周
波電源３ｏの動作を停止する。
管２２よりのプラズマ発生用ガスの導入を停止し、高周
波電源３ｏの動作を停止する。
ついで、真空ポンプの動作を停止し、バルブ２５を開い
て、大気導入管２４より細菌除去フィルター（図示しな
い）を介して処理室２０内に大気を導入して処理室２０
内を大気圧に戻した後、蓋２１を開け、パケット１４を
処理室２０内より取り出し、被処理物１３に対する滅菌
処理を完了する。
て、大気導入管２４より細菌除去フィルター（図示しな
い）を介して処理室２０内に大気を導入して処理室２０
内を大気圧に戻した後、蓋２１を開け、パケット１４を
処理室２０内より取り出し、被処理物１３に対する滅菌
処理を完了する。
第４図は高周波を用いた平行平板型の内部電極方式の滅
菌処理装置の概略構成図であって、第３図との対応部分
には同一符号を附し、その構成説明は省略する。また、
当該装置による滅菌処理手順も前記バレル型対向電極方
式のそれと同じであるため手順説明は省略する。
菌処理装置の概略構成図であって、第３図との対応部分
には同一符号を附し、その構成説明は省略する。また、
当該装置による滅菌処理手順も前記バレル型対向電極方
式のそれと同じであるため手順説明は省略する。
なお、前記の高周波を用いた装置において、その高周波
電極２８．２９の配置は、特に図示しないが、処理室２
０の外部と内部に配置の外部電極方式と内部電極方式、
処理室２０の外周に配置の誘導方式等、公知の全ての電
極方式を含むものである。
電極２８．２９の配置は、特に図示しないが、処理室２
０の外部と内部に配置の外部電極方式と内部電極方式、
処理室２０の外周に配置の誘導方式等、公知の全ての電
極方式を含むものである。
また、高周波を用いた本発明装置においても、前記マイ
クロ波を用いた場合と同様に、第５図に示すように、プ
ラズマを外部部分３１で発生させて、これを処理室２０
内に導入することも可能で ゛ある。
クロ波を用いた場合と同様に、第５図に示すように、プ
ラズマを外部部分３１で発生させて、これを処理室２０
内に導入することも可能で ゛ある。
以上、本発明装置は、真空処理室内において、被処理物
に対してプラズマ発生手段により得られたプラズマによ
って滅菌処理を行うものであるが、該プラズマによって
充分な滅菌効果が得られるのは次のような理由によるも
のである。
に対してプラズマ発生手段により得られたプラズマによ
って滅菌処理を行うものであるが、該プラズマによって
充分な滅菌効果が得られるのは次のような理由によるも
のである。
■ プラズマ状態で発生する高速粒子の作用による。
すなわち、プラズマ中では電子、イオン、高速中性粒子
が高速で運動しており、これらは半導体基板（シリコン
）のような硬い材料にもダメージを与える種々のエネル
ギーを持っている。
が高速で運動しており、これらは半導体基板（シリコン
）のような硬い材料にもダメージを与える種々のエネル
ギーを持っている。
このため、これら高速粒子が菌に当ると瞬時に菌は破壊
されてしまう。
されてしまう。
■ 特に、プラズマ発生用ガスとして０２（酸素）を用
いた場合１周知のように、半導体の製造工程の一種、ア
ッシング（ホトレジスト等を灰化すること）処理に使用
されている。０□プラズマ中に生じた原子状ａ素Ｏと高
分子樹脂とは、下記の化学反応により、ＣＯ２とＨ，Ｏ
に分解気化する。
いた場合１周知のように、半導体の製造工程の一種、ア
ッシング（ホトレジスト等を灰化すること）処理に使用
されている。０□プラズマ中に生じた原子状ａ素Ｏと高
分子樹脂とは、下記の化学反応により、ＣＯ２とＨ，Ｏ
に分解気化する。
Ｃｘ Ｈｙ ＋ Ｏ−＋Ｇ Ｏ、十Ｈ，○よって、特に
０２プラズマを用いた場合、殆どの菌は短時間の内に分
解気化してしまう。
０２プラズマを用いた場合、殆どの菌は短時間の内に分
解気化してしまう。
■ プラズマ状態で発生する紫外線の作用による。
すなわち、高分子材料の表面改質に利用される程強力な
紫外線を放出し、その波長も通常の紫外線ランプからの
ものより波長が短く、強い殺菌力を有している。
紫外線を放出し、その波長も通常の紫外線ランプからの
ものより波長が短く、強い殺菌力を有している。
■ 処理室内を真空に近くすることで、菌自身の持つ内
圧でほぼ全ての細胞が破壊する。
圧でほぼ全ての細胞が破壊する。
しかして、本発明によれば、プラズマ発生用ガス導入管
と真空排気管を有する処理室と、該処理室内にプラズマ
を発生させるプラズマ発生手段とを備え、該プラズマ発
生手段により得られたプラズマによって被処理物の滅菌
処理を行うものであるから、プラズマの有する強力なる
滅菌作用によって、被処理物に対し、従来に比し、きわ
めて短時間で、かつ完全なる滅菌処理を行うことができ
るものである。
と真空排気管を有する処理室と、該処理室内にプラズマ
を発生させるプラズマ発生手段とを備え、該プラズマ発
生手段により得られたプラズマによって被処理物の滅菌
処理を行うものであるから、プラズマの有する強力なる
滅菌作用によって、被処理物に対し、従来に比し、きわ
めて短時間で、かつ完全なる滅菌処理を行うことができ
るものである。
図面は本発明の実施例を示すもので、第１図はマイクロ
波を用いた本発明装置の一例での概略構成図、第２図は
マイクロ波を用いた本発明装置の他例を示す概略構成図
、第３図及び第４図は高周波を用いた本発明装置の概略
構成図、第５図は高周波を用いた本発明装置の他例を示
す概略構成図である。 １．２０・・・処理室 ２．２１・・・蓋 ３．２２・・・プラズマ発生用ガス導入管８．２６・・
・真空排気管 ９・・・放電管 １０・・・導波管 １１・・・マイクロ波発振部 １２・・・駆動電源 ２８．２９・・・高周波電極 ３０・・・高周波電源
波を用いた本発明装置の一例での概略構成図、第２図は
マイクロ波を用いた本発明装置の他例を示す概略構成図
、第３図及び第４図は高周波を用いた本発明装置の概略
構成図、第５図は高周波を用いた本発明装置の他例を示
す概略構成図である。 １．２０・・・処理室 ２．２１・・・蓋 ３．２２・・・プラズマ発生用ガス導入管８．２６・・
・真空排気管 ９・・・放電管 １０・・・導波管 １１・・・マイクロ波発振部 １２・・・駆動電源 ２８．２９・・・高周波電極 ３０・・・高周波電源
Claims (1)
- １、プラズマ発生用ガス導入管と真空排気管を有する処
理室と、該処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発
生手段とを備え、該プラズマ発生手段によるプラズマに
よって被処理物に対する滅菌処理を行う構成を特徴とす
る滅菌処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23591286A JPS6389162A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 滅菌処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23591286A JPS6389162A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 滅菌処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6389162A true JPS6389162A (ja) | 1988-04-20 |
Family
ID=16993078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23591286A Pending JPS6389162A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 滅菌処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6389162A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02279160A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-11-15 | Abtox Inc | プラズマ滅菌方法及び滅菌装置 |
| US5087418A (en) * | 1987-02-25 | 1992-02-11 | Adir Jacob | Process for dry sterilization of medical devices and materials |
| JPH06263120A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-20 | Sando Iron Works Co Ltd | 容器内部の殺菌装置 |
| JP2004528108A (ja) * | 2001-04-25 | 2004-09-16 | オックスフォード インスツルメンツ プラズマ テクノロジー リミテッド | 滅菌方法 |
| WO2005089818A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Japan Science And Technology Agency | マイクロ波プラズマ滅菌方法および装置 |
| JP2011072490A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Japan Medical Creative:Kk | 医療用滅菌装置 |
| JP2014522277A (ja) * | 2011-06-03 | 2014-09-04 | コリア・ベーシック・サイエンス・インスティテュート | 医療用プラズマ滅菌装置 |
-
1986
- 1986-10-03 JP JP23591286A patent/JPS6389162A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5087418A (en) * | 1987-02-25 | 1992-02-11 | Adir Jacob | Process for dry sterilization of medical devices and materials |
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| JPWO2005089818A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2008-01-31 | 独立行政法人科学技術振興機構 | マイクロ波プラズマ滅菌方法および装置 |
| US7700039B2 (en) | 2004-03-19 | 2010-04-20 | Japan Science And Technology Agency | Microwave plasma sterilizing method and device |
| JP2011072490A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Japan Medical Creative:Kk | 医療用滅菌装置 |
| JP2014522277A (ja) * | 2011-06-03 | 2014-09-04 | コリア・ベーシック・サイエンス・インスティテュート | 医療用プラズマ滅菌装置 |
| US9855354B2 (en) | 2011-06-03 | 2018-01-02 | Korea Basic Science Institute | Apparatus for medical sterilization using plasma |
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