JPH01293582A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
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- JPH01293582A JPH01293582A JP63124139A JP12413988A JPH01293582A JP H01293582 A JPH01293582 A JP H01293582A JP 63124139 A JP63124139 A JP 63124139A JP 12413988 A JP12413988 A JP 12413988A JP H01293582 A JPH01293582 A JP H01293582A
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- laser
- laser light
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- laser beam
- excimer laser
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- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
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- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はエキシマレーザ装置に関するものである。
エキシマレーザ装置の出力窓の汚染による劣化対策に関
しては、特開昭６２−１５２１８８号公報に記載されて
いる。これは装置の運転を停止した後、装置内にエツチ
ングガス（ＣＣＵ４．ＣＣＱｚ、ＣＦ４゜ＮＦａ）を導
入し、電圧を印加してエツチングにより出力窓の付着物
（不純物）を除去している。
しては、特開昭６２−１５２１８８号公報に記載されて
いる。これは装置の運転を停止した後、装置内にエツチ
ングガス（ＣＣＵ４．ＣＣＱｚ、ＣＦ４゜ＮＦａ）を導
入し、電圧を印加してエツチングにより出力窓の付着物
（不純物）を除去している。
上記従来技術は、エツチング作業に伴うレーザ装置停止
が避けられない問題であった。
が避けられない問題であった。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、容易にレ
ーザ出力低下を防止することを可能としたエキシマレー
ザ装置を提供することを目的とするものである。
ーザ出力低下を防止することを可能としたエキシマレー
ザ装置を提供することを目的とするものである。
上記目的は、出力窓、全反射窓の装置内面側に近接して
レーザ光透過性部材をレーザ光路をさえぎるように配置
し、かつ装置外部よりレーザ光透過性部材を移動できる
ようにすることにより、達成される。
レーザ光透過性部材をレーザ光路をさえぎるように配置
し、かつ装置外部よりレーザ光透過性部材を移動できる
ようにすることにより、達成される。
出力窓、全反射窓の装置内面側に近接してレーザ光透過
性部材をレーザ光路をさえぎるように配置し、かつ装置
外部よりレーザ光透過性部材を移動できるようにしたの
で、レーザ光透過性部材に付着物が堆積すれば外部から
レーザ光透過性部材を移動させればよくなって、従来の
ように装置を停止させないでも付着物の付着してないレ
ーザ光透過性部材をレーザ光路に送り出すことができる
ようになり、容易にレーザ出力低下を防止することがで
きる。
性部材をレーザ光路をさえぎるように配置し、かつ装置
外部よりレーザ光透過性部材を移動できるようにしたの
で、レーザ光透過性部材に付着物が堆積すれば外部から
レーザ光透過性部材を移動させればよくなって、従来の
ように装置を停止させないでも付着物の付着してないレ
ーザ光透過性部材をレーザ光路に送り出すことができる
ようになり、容易にレーザ出力低下を防止することがで
きる。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。第
１図から第３図には本発明の一実施例が示されている。
１図から第３図には本発明の一実施例が示されている。
対向配置された電極１，２、出力窓３および全反射窓４
を備え、レーザ媒質にハロゲンガスが使用されるエキシ
マレーザ装置５で、本実施例では出力窓３．全反射窓４
の装置内面側に近接してレーザ光透過性部材をレーザ光
路６をさえぎるように配置し、かつ装置外部よりレーザ
光透過性部材を移動できるようにした。このようにする
ことによりレーザ光透過性部材に付着物（不純物）７が
堆積すれば外部からレーザ光透過性部材を移動させれば
よくなって、従来のように装置５を停止させないでも付
着物７の付着してないレーザ光透過性部材をレーザ光路
に送り出すことができるようになり、容易にレーザ出力
低下を防止することを可能としたエキシマレーザ装置５
を得ることができる。
を備え、レーザ媒質にハロゲンガスが使用されるエキシ
マレーザ装置５で、本実施例では出力窓３．全反射窓４
の装置内面側に近接してレーザ光透過性部材をレーザ光
路６をさえぎるように配置し、かつ装置外部よりレーザ
光透過性部材を移動できるようにした。このようにする
ことによりレーザ光透過性部材に付着物（不純物）７が
堆積すれば外部からレーザ光透過性部材を移動させれば
よくなって、従来のように装置５を停止させないでも付
着物７の付着してないレーザ光透過性部材をレーザ光路
に送り出すことができるようになり、容易にレーザ出力
低下を防止することを可能としたエキシマレーザ装置５
を得ることができる。
すなわちレーザ装置５は電極１，２間にパルス状高電圧
を印加し、内部に充填されたレーザ媒体８を励起し、出
力窓３．全反射窓４内でレーザ発振させ、その一部をレ
ーザ光９として取り出す。
を印加し、内部に充填されたレーザ媒体８を励起し、出
力窓３．全反射窓４内でレーザ発振させ、その一部をレ
ーザ光９として取り出す。
くり返してレーザ発振を行わせるため、送風機１０によ
り電極１，２間にレーザ媒体８を高速で送り込む。直流
電源１１．コンデンサ群１２ａ。
り電極１，２間にレーザ媒体８を高速で送り込む。直流
電源１１．コンデンサ群１２ａ。
１２ｂ・・・および１３ａ、１３ｂ・・・よりパルス状
高電圧が作り出される。
高電圧が作り出される。
出力窓３の近傍にレーザ光透過性部材例えばレーザ光透
過性フィルム１４がレーザ光路６をさえぎるように配置
される。レーザ光透過性フイルム（例えば石英製フィル
ム等）１４は巻取りドラム１５．１６に巻かれており、
ハンドル１７．１８の回転により、装置５を解体するこ
となくレーザ光路６へ送り出すことができる。レーザ装
置５の運転に伴゛つてレーザ光透過性フィルム１４の全
反射窓４に面した部分にはガス劣化により生じた不純物
７が堆積し、レーザ出力が低下しはじめるが、このよう
な場合はハンドル１７．１８を回転し、新しい膜面をレ
ーザ光路６へ送り出す。
過性フィルム１４がレーザ光路６をさえぎるように配置
される。レーザ光透過性フイルム（例えば石英製フィル
ム等）１４は巻取りドラム１５．１６に巻かれており、
ハンドル１７．１８の回転により、装置５を解体するこ
となくレーザ光路６へ送り出すことができる。レーザ装
置５の運転に伴゛つてレーザ光透過性フィルム１４の全
反射窓４に面した部分にはガス劣化により生じた不純物
７が堆積し、レーザ出力が低下しはじめるが、このよう
な場合はハンドル１７．１８を回転し、新しい膜面をレ
ーザ光路６へ送り出す。
このように本実施例によれば外部より移動可能なレーザ
光透過性フィルム１４をレーザ装置５内に設け、出力窓
３．全反射窓４への多量の不純物７の付着を防止したの
で、長期にオ）たって安定したレーザ出力を得ることが
できる。
光透過性フィルム１４をレーザ装置５内に設け、出力窓
３．全反射窓４への多量の不純物７の付着を防止したの
で、長期にオ）たって安定したレーザ出力を得ることが
できる。
なお本実施例では出力窓３を対象に説明したが、全反射
窓４についでも同様の構成にし同様の効果を奏すること
ができることは云うまでもない。
窓４についでも同様の構成にし同様の効果を奏すること
ができることは云うまでもない。
第４図および第５図には本発明の夫々異なる他の実施例
が示されている。両者ともレーザ光透過性フィルム１４
を挟んで不純物除去装置１９を取す付け、ハンドル（図
示せず）操作によりレーザ光透過性フィルム１４を移動
させて付着した不純物７を除去するようにしたものであ
るが、第４図の場合は巻取りドラム１５．１６でレーザ
光透過性フィルム１４を上下に移ｍＪさせるようにした
ものであり、第５図の場合は巻取リドラム１５でし・−
ザ光透過性フィルム１４を回転移動させるようにしたも
のである。これらいずれの場合も不純物除去装置１９で
不純物７を除去すれば、Ｌ／−ザ光透過性フィルム１４
を前述の場合よりもｐ期にわたって使用することができ
るようになる。
が示されている。両者ともレーザ光透過性フィルム１４
を挟んで不純物除去装置１９を取す付け、ハンドル（図
示せず）操作によりレーザ光透過性フィルム１４を移動
させて付着した不純物７を除去するようにしたものであ
るが、第４図の場合は巻取りドラム１５．１６でレーザ
光透過性フィルム１４を上下に移ｍＪさせるようにした
ものであり、第５図の場合は巻取リドラム１５でし・−
ザ光透過性フィルム１４を回転移動させるようにしたも
のである。これらいずれの場合も不純物除去装置１９で
不純物７を除去すれば、Ｌ／−ザ光透過性フィルム１４
を前述の場合よりもｐ期にわたって使用することができ
るようになる。
第６図および第７図には本発明の更に他の実施例が示さ
れている。本実施例はレーザ光透過性フィルムに代えて
レーザ光透過性薄板２０を使用し、かつ巻取りドラム１
５ａ、１６ａへの巻取りを容易にするため、可撓性の紐
２Ｌ、２２に各々のレーザ光透過性薄板２０を連結した
ものである。この場合も使用中のレーザ光Ｊｆｉ過性薄
板２０が汚損したら巻取りドラム１５ａ、１６ａで上、
下に移動させて他のレーザ光透過性薄板２ｏに切換えれ
ばよく、前述の場合と同様な作用効果を奏することがで
きる。
れている。本実施例はレーザ光透過性フィルムに代えて
レーザ光透過性薄板２０を使用し、かつ巻取りドラム１
５ａ、１６ａへの巻取りを容易にするため、可撓性の紐
２Ｌ、２２に各々のレーザ光透過性薄板２０を連結した
ものである。この場合も使用中のレーザ光Ｊｆｉ過性薄
板２０が汚損したら巻取りドラム１５ａ、１６ａで上、
下に移動させて他のレーザ光透過性薄板２ｏに切換えれ
ばよく、前述の場合と同様な作用効果を奏することがで
きる。
第８図および第９図には本発明の更に実施例が示されて
いる。本実施例はレーザ光透過部材にレーザ光透過性円
板２３を使用し、このレーザ光透過性円板２３の回転に
より、不純物の付着していないレーザ光透過性円板２３
に代え、レーザ光路を確保するものである。
いる。本実施例はレーザ光透過部材にレーザ光透過性円
板２３を使用し、このレーザ光透過性円板２３の回転に
より、不純物の付着していないレーザ光透過性円板２３
に代え、レーザ光路を確保するものである。
すなわちレーザ光透過性円板２３をレーザ光軸に平行で
、かつレーザ光軸より離れた軸を中心として回転される
円板２３Ａ上に設けたものである。
、かつレーザ光軸より離れた軸を中心として回転される
円板２３Ａ上に設けたものである。
この場合も前述の場合と同様な作用効果を奏することが
できる。
できる。
第１０図には本発明の更に他の実施例が示されている。
本実施例は上述のレーザ光透過性円板２３に不純物除去
装置１９を設けた場合である。
装置１９を設けた場合である。
この場合は不純物除去装置１９で不純物を除去すれば、
レーザ光透過性円板２３を前述の場合よりも長期にわた
って使用することができる。
レーザ光透過性円板２３を前述の場合よりも長期にわた
って使用することができる。
第１１図には本発明の更に他の実施例が示されている。
本実施例は予め多数のレーザ光透過性薄板２０ａをスト
ックしておき、操作棒２４，２５の操作により、順次レ
ーザ光路へ繰り出すようにしたものである。すなわちレ
ーザ光路に使用中のレーザ光透過性薄板２０ａが汚損し
たら操作捧２４で下部に下げ、ストックしである新しい
レーザ光透過性薄板２０ａを操作棒２４でレーザ光路に
繰り出し、下部に下げた汚損したレーザ光透過性薄板２
０ａは操作捧２５で操作し、ストックするようにする。
ックしておき、操作棒２４，２５の操作により、順次レ
ーザ光路へ繰り出すようにしたものである。すなわちレ
ーザ光路に使用中のレーザ光透過性薄板２０ａが汚損し
たら操作捧２４で下部に下げ、ストックしである新しい
レーザ光透過性薄板２０ａを操作棒２４でレーザ光路に
繰り出し、下部に下げた汚損したレーザ光透過性薄板２
０ａは操作捧２５で操作し、ストックするようにする。
この場合も前述の場合と同様な作用効果を奏することが
できる。
できる。
第１２図には本発明の更に実施例が示されている。本実
施例はレーザ装置５外部より参照用レーザ光源２６から
レーザ光９を装置５に導入し、取り出したレーザ光９の
光量変化によりレーザ光透過性フィルム１４の劣化を判
定するようにしたものである。すなわちパワーメータ２
７で初期のレーザ光９の出力を測定しておき１次いで使
用中のレーザ光９の出力をパワーメータ２７で測定する
。
施例はレーザ装置５外部より参照用レーザ光源２６から
レーザ光９を装置５に導入し、取り出したレーザ光９の
光量変化によりレーザ光透過性フィルム１４の劣化を判
定するようにしたものである。すなわちパワーメータ２
７で初期のレーザ光９の出力を測定しておき１次いで使
用中のレーザ光９の出力をパワーメータ２７で測定する
。
このようにすることによりレーザ出力低下をレーザガス
の分解によるものと、不純物のレーザ光透過性フィルム
１４への付着によるものとに区別でき、レーザ光透過性
フィルム１４の移動時期が判るようになり、レーザ光透
過性フィルム１４の移動時期を前述の場合よりも容易に
知ることができ、レーザ光透過性フィルム１４の移動が
前述の場合より容易となる。
の分解によるものと、不純物のレーザ光透過性フィルム
１４への付着によるものとに区別でき、レーザ光透過性
フィルム１４の移動時期が判るようになり、レーザ光透
過性フィルム１４の移動時期を前述の場合よりも容易に
知ることができ、レーザ光透過性フィルム１４の移動が
前述の場合より容易となる。
第１３図には本発明の更に他の実施例が示されている。
本実施例はエキシマレーザを用いたＣＶＤ装［２８，２
９等に本発明を適用したもので、レーザ光入射窓３０の
近傍に、レーザ光透過性フィルム１４ａ、１４ｂを設立
したものである。すなわちエキシマレーザ装［５と、こ
の装置５のレーザ光を利用するエキシマレーザ加工装置
例えばＣＶＤ装［２８，２９とで構成し、ＣＶＤ装置２
８．２９（７）Ｌ／−ザ光入射窓３０（７）ＣＶＤ装置
２８．２９内面側に、レーザ光路をさえぎるように配置
したレーザ光透過性フィルム１４ａ、１４ｂは、ＣＶＤ
装［２８，２９外部より移動できるようにしたものであ
る。なお同図において３１は光路切換ミラーである。こ
のようにすることにより、このようなエキシマレーザシ
ステムでしばしば問題になるレーザ光入射窓３０への不
純物の付着による性能低下を防止することができる。
９等に本発明を適用したもので、レーザ光入射窓３０の
近傍に、レーザ光透過性フィルム１４ａ、１４ｂを設立
したものである。すなわちエキシマレーザ装［５と、こ
の装置５のレーザ光を利用するエキシマレーザ加工装置
例えばＣＶＤ装［２８，２９とで構成し、ＣＶＤ装置２
８．２９（７）Ｌ／−ザ光入射窓３０（７）ＣＶＤ装置
２８．２９内面側に、レーザ光路をさえぎるように配置
したレーザ光透過性フィルム１４ａ、１４ｂは、ＣＶＤ
装［２８，２９外部より移動できるようにしたものであ
る。なお同図において３１は光路切換ミラーである。こ
のようにすることにより、このようなエキシマレーザシ
ステムでしばしば問題になるレーザ光入射窓３０への不
純物の付着による性能低下を防止することができる。
上述のように本発明はエキシマレーザ装置のレーザ出力
低下を容易に防止することができるようになって、容易
にレーザ出力低下を防止することを可能としたエキシマ
レーザ装置を得ることができる。
低下を容易に防止することができるようになって、容易
にレーザ出力低下を防止することを可能としたエキシマ
レーザ装置を得ることができる。
第１図は本発明のエキシマレーザ装置の一実施例の縦断
側面図、第２図は第１図の部分拡大図、第３図は第２図
のＡ−Ａ線に沿う断面図、第４図および第５図は本発明
のエキシマレーザ装置の夫々異なる実施例を示す装置要
部の縦断側面図、第６図は本発明のエキシマレーザ装置
の更に他の実施例の装置要部の縦断側面図、第７図は第
６図のＢ−Ｂ線に沿う断面図、第８図は本発明のエキシ
マレーザ装置の更に他の実施例の装置要部の縦断側面図
、第９図は第８図のＣ−Ｃ線に沿う断面図、第１０図お
よび第１１図は本発明のエキシマレーザ装置の夫々異な
る実施例を示す装置要部の縦断側面図、第１２図および
第１３図は本発明のエキシマレーザ装置の夫々異なる実
施例を示す説明図である。 １．２・・電極、３・・・出力窓、４・・・全反射窓、
５・・・エキシマレーザ装置、６・・・レーザ光路、７
・・・付着物（不純物）、９・・・レーザ光、１４．１
４ａ。 １４ｂ・・・レーザ光透過性フィルム、１５，１５ａ。 １６．１６ａ・・・巻取りドラム、１９・・・不純物除
去装置、２０．２０ａ・・・レーザ光透過性薄板、２１
゜２２・・・可撓性の紐、２３・・・レーザ光透過性円
板、２３Ａ・・円板、２６・・・参照用レーザ光源、２
８゜２９・・・ＣＶＤ装置、３０・・・レーザ光入射窓
。
側面図、第２図は第１図の部分拡大図、第３図は第２図
のＡ−Ａ線に沿う断面図、第４図および第５図は本発明
のエキシマレーザ装置の夫々異なる実施例を示す装置要
部の縦断側面図、第６図は本発明のエキシマレーザ装置
の更に他の実施例の装置要部の縦断側面図、第７図は第
６図のＢ−Ｂ線に沿う断面図、第８図は本発明のエキシ
マレーザ装置の更に他の実施例の装置要部の縦断側面図
、第９図は第８図のＣ−Ｃ線に沿う断面図、第１０図お
よび第１１図は本発明のエキシマレーザ装置の夫々異な
る実施例を示す装置要部の縦断側面図、第１２図および
第１３図は本発明のエキシマレーザ装置の夫々異なる実
施例を示す説明図である。 １．２・・電極、３・・・出力窓、４・・・全反射窓、
５・・・エキシマレーザ装置、６・・・レーザ光路、７
・・・付着物（不純物）、９・・・レーザ光、１４．１
４ａ。 １４ｂ・・・レーザ光透過性フィルム、１５，１５ａ。 １６．１６ａ・・・巻取りドラム、１９・・・不純物除
去装置、２０．２０ａ・・・レーザ光透過性薄板、２１
゜２２・・・可撓性の紐、２３・・・レーザ光透過性円
板、２３Ａ・・円板、２６・・・参照用レーザ光源、２
８゜２９・・・ＣＶＤ装置、３０・・・レーザ光入射窓
。
Claims (8)
- １．対向配置された電極，出力窓および全反射窓を備え
、レーザ媒質にハロゲンガスが使用されるエキシマレー
ザ装置において、前記出力窓，全反射窓の装置内面側に
近接してレーザ光透過性部材をレーザ光路をさえぎるよ
うに配置し、かつ装置外部より前記部材を移動できるよ
うにしたことを特徴とするエキシマレーザ装置。 - ２．前記レーザ光透過性部材が、石英から形成されたも
のである特許請求の範囲第１項記載のエキシマレーザ装
置。 - ３．前記レーザ光透過性部材が、巻取りドラムに巻回さ
れたレーザ光透過性フイルムである特許請求の範囲第１
項または第２項記載のエキシマレーザ装置。 - ４．前記レーザ光透過性部材が、可撓性の紐で連結され
、かつ巻取りドラムに巻回されたレーザ光透過性薄板で
ある特許請求の範囲第１項または第２項記載のエキシマ
レーザ装置。 - ５．前記レーザ光透過性部材が、レーザ光軸に平行で、
かつレーザ光軸より離れた軸を中心として回転される円
板上に設けられたレーザ光透過性円板である特許請求の
範囲第１項または第２項記載のエキシマレーザ装置。 - ６．前記レーザ光透過性部材が、その表面に付着した付
着物を除去する不純物除去装置が設けられたものである
特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項記載
のエキシマレーザ装置。 - ７．対向配置された電極，出力窓および全反射窓を備え
、レーザ媒質にハロゲンガスが使用されるエキシマレー
ザ装置において、前記出力窓，全反射窓の装置内面側に
近接してレーザ光透過性部材をレーザ光路をさえぎるよ
うに配置し、かつ装置外部より前記部材を移動できるよ
うにすると共に、前記装置外部より参照用レーザ光源か
らレーザ光を装置に導入し、取り出したレーザ光の光量
変化により前記部材の劣化を判定するようにしたことを
特徴とするエキシマレーザ装置。 - ８．対向配置された電極，出力窓および全反射窓を備え
、レーザ媒質にハロゲンガスが使用され、前記出力窓，
全反射窓の装置内面側に近接してレーザ光透過性部材が
レーザ光路をさえぎるように配置され、かつ装置外部よ
り前記部材を移動できるようにしたエキシマレーザ装置
と、この装置のレーザ光を利用するエキシマレーザ加工
装置とで構成され、前記加工装置のレーザ光入射窓の加
工装置内面側にレーザ光路をさえぎるように配置したレ
ーザ光透過性部材は、前記加工装置外部より移動できる
ようにされたものであることを特徴とするエキシマレー
ザシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63124139A JP2675332B2 (ja) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63124139A JP2675332B2 (ja) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | エキシマレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01293582A true JPH01293582A (ja) | 1989-11-27 |
| JP2675332B2 JP2675332B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=14877888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63124139A Expired - Lifetime JP2675332B2 (ja) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2675332B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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