JPS63209187A - エキシマレ−ザ装置 - Google Patents
エキシマレ−ザ装置Info
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- JPS63209187A JPS63209187A JP62041274A JP4127487A JPS63209187A JP S63209187 A JPS63209187 A JP S63209187A JP 62041274 A JP62041274 A JP 62041274A JP 4127487 A JP4127487 A JP 4127487A JP S63209187 A JPS63209187 A JP S63209187A
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、エキシマレーザ装置、特にそのウィンドウ部
の改善に関するものである。
の改善に関するものである。
［従来の技術］
第４図は、従来のエキシマレーザ装置の一例を示す概略
の側断面図である。図において、２はエキシマレーザ装
置本体、４はレーザ・チャンバーであり、このレーザ・
チャンバー４内には、ハロゲンガス及び希ガスの混合ガ
スよりなるレーザ媒買物質が充填されている。６はリア
ミラー、８はフロントミラーであって、これらによって
ウィンドウ部ないしレーザ共振器が構成されている。
の側断面図である。図において、２はエキシマレーザ装
置本体、４はレーザ・チャンバーであり、このレーザ・
チャンバー４内には、ハロゲンガス及び希ガスの混合ガ
スよりなるレーザ媒買物質が充填されている。６はリア
ミラー、８はフロントミラーであって、これらによって
ウィンドウ部ないしレーザ共振器が構成されている。
従来のエキシマレーザ装置は上記のように構成され、放
電によりリアミラー６及びフロントミラー８の間でレー
ザが発振し、この発振したレーザ光の一部を、フロント
ミラー８を介して外部へ取り出すことにより、レーザ光
を利用することができるようになっている。
電によりリアミラー６及びフロントミラー８の間でレー
ザが発振し、この発振したレーザ光の一部を、フロント
ミラー８を介して外部へ取り出すことにより、レーザ光
を利用することができるようになっている。
上記の装置においては、放電を繰り返し行うとレーザ・
チャンバー４内のガスによる汚れや、予備電ｇ！（図示
せず）等のスパッタリング等による汚れがウィンドウ部
すなわちリアミラー６及びフロントミラー８に付着し、
レーザ出力の低下の一因となる。
チャンバー４内のガスによる汚れや、予備電ｇ！（図示
せず）等のスパッタリング等による汚れがウィンドウ部
すなわちリアミラー６及びフロントミラー８に付着し、
レーザ出力の低下の一因となる。
、従って、通常はレーザパルスの発振を１０６〜１０７
回程度行った後に、リアミラー６及びフロントミラー８
の交換・クリーニングを行う。
回程度行った後に、リアミラー６及びフロントミラー８
の交換・クリーニングを行う。
［発明が解決しようとする問題点］
上記のような従来のエキシマレーザ装置では、ウィンド
ウ部の交換を行う際に、レーザ・チャンバー４内のガス
を排気する必要がある。
ウ部の交換を行う際に、レーザ・チャンバー４内のガス
を排気する必要がある。
また、注入ウィンドウがリアミラー６またはフロントミ
ラー８である場合には、さらに上記ウィンドウ部交換後
の光軸合わせ等も必要となる。このため、ウィンドウ部
の交換には相当の手間と時間が掛かるという問題点があ
った。
ラー８である場合には、さらに上記ウィンドウ部交換後
の光軸合わせ等も必要となる。このため、ウィンドウ部
の交換には相当の手間と時間が掛かるという問題点があ
った。
また、リアミラー６またはフロントミラー８の交換は、
レーザ・チャンバー４内のガスの寿命にかかわらず行う
必要があるので、ガスがまだ発振可能にもかかわらず、
上記ミラーの交換の毎にガスをレーザ・チャンバー４か
ら排気しなければならない。このためガスを無駄に使用
し、ランニングコストが必要以上に余計に掛かるという
問題点があった。
レーザ・チャンバー４内のガスの寿命にかかわらず行う
必要があるので、ガスがまだ発振可能にもかかわらず、
上記ミラーの交換の毎にガスをレーザ・チャンバー４か
ら排気しなければならない。このためガスを無駄に使用
し、ランニングコストが必要以上に余計に掛かるという
問題点があった。
° なお、ウィンドウ部の汚れを防ぐ方法としては、レ
ーザ・チャンバー４内のガスをウィンドウ部に吹きつけ
る方法等があるが、電極のスパッタによる汚れに対して
はあまり効果が期待できない。
ーザ・チャンバー４内のガスをウィンドウ部に吹きつけ
る方法等があるが、電極のスパッタによる汚れに対して
はあまり効果が期待できない。
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
で、ウィンドウ部の交換を、容易に、かつレーザチャン
バー内のガスの排気をせずに行うことができるエキシマ
レーザ装置を提供することを目的とするものである。
で、ウィンドウ部の交換を、容易に、かつレーザチャン
バー内のガスの排気をせずに行うことができるエキシマ
レーザ装置を提供することを目的とするものである。
［問題点を解決するための手段］
本発明に係るエキシマレーザ装置は、レーザ・チャンバ
ー内のフロントミラー及びリアミラーのそれぞれに近接
した位置に、前記レーザ・チャンバー内に充填されたガ
ス等による汚染から該フロントミラー及びリアミラーを
保護するための複数のレーザ光透過性領域を有する光学
部材を設け、各レーザ光透過性領域がレーザ光光軸上で
８勅可能であるように配置したことにより上記問題点を
解決したものである。
ー内のフロントミラー及びリアミラーのそれぞれに近接
した位置に、前記レーザ・チャンバー内に充填されたガ
ス等による汚染から該フロントミラー及びリアミラーを
保護するための複数のレーザ光透過性領域を有する光学
部材を設け、各レーザ光透過性領域がレーザ光光軸上で
８勅可能であるように配置したことにより上記問題点を
解決したものである。
［作用］
本発明においては、レーザ・チャンバー内のフロントミ
ラー及びリアミラーのそれぞれに近接した位置に、前記
レーザ・チャンバー内に充填されたガス等による汚染か
ら該フロントミラー及びリアミラーを保護するための複
数のレーザ光透過性領域を有する光学部材を設け、各レ
ーザ光透過性領域がレーザ光光軸上で移動可能であるよ
うに配置したことにより、発振物質や予備電極等のスパ
ッタリング等による汚染物質は該光学部材のレーザ光透
過性領域に付着し、リアミラー６やフロントミラー８は
汚れなくなる。また、該光学部材は移動可能に備えられ
ているので、該光学部材をレーザ・チャンバー内で移動
させるだけで交換を行うことができ、その交換の際にレ
ーザ・チャンバー内のガスの排気をする必要がなくなる
。
ラー及びリアミラーのそれぞれに近接した位置に、前記
レーザ・チャンバー内に充填されたガス等による汚染か
ら該フロントミラー及びリアミラーを保護するための複
数のレーザ光透過性領域を有する光学部材を設け、各レ
ーザ光透過性領域がレーザ光光軸上で移動可能であるよ
うに配置したことにより、発振物質や予備電極等のスパ
ッタリング等による汚染物質は該光学部材のレーザ光透
過性領域に付着し、リアミラー６やフロントミラー８は
汚れなくなる。また、該光学部材は移動可能に備えられ
ているので、該光学部材をレーザ・チャンバー内で移動
させるだけで交換を行うことができ、その交換の際にレ
ーザ・チャンバー内のガスの排気をする必要がなくなる
。
［実施例］
以下本発明の実施例について、図を用いて説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す側断面図である。図
において、２，４．６及び８は上記従来装置と同一のも
のである。
において、２，４．６及び８は上記従来装置と同一のも
のである。
次に、１０は保護部材ホルダーであり、リアミラー６及
びフロントミラー８に接近して可動的に備えられている
。１２は保護部材であって、上記保護部材ホルダー１０
に、リアミラー６またはフロントミラー８のレーザ発振
光の光軸上に位置するように複数取付けられている。
びフロントミラー８に接近して可動的に備えられている
。１２は保護部材であって、上記保護部材ホルダー１０
に、リアミラー６またはフロントミラー８のレーザ発振
光の光軸上に位置するように複数取付けられている。
第２図は上記保護部材ホルダー１０の一例を示す斜視図
であり、回転可能な円板状保護部材ホルダー１０の回転
中心から等距離の位置に、複数の保護部材１２が取付け
られている。なお、該保護部材１２は、例えば両面にＡ
Ｒコーティングが施された構成となっている。
であり、回転可能な円板状保護部材ホルダー１０の回転
中心から等距離の位置に、複数の保護部材１２が取付け
られている。なお、該保護部材１２は、例えば両面にＡ
Ｒコーティングが施された構成となっている。
次に、上記実施例の全体的作用について説明する。
発振されたレーザ光は、一方においてリアミラー６に向
って進行するが、このとぎ保護部材１２を通過してリア
ミラー６に入射する。
って進行するが、このとぎ保護部材１２を通過してリア
ミラー６に入射する。
そして、リアミラー６によって反射されたレーザ光は、
反対方向に進行するが、同様に保護部材１２を通過して
フロントミラー８に入射する。
反対方向に進行するが、同様に保護部材１２を通過して
フロントミラー８に入射する。
以上のように、リアミラー６及びフロントミラー８に対
するレーザ光の入射は、いずれも保護部材１２を介して
、第２図の矢印ＦＡで示すように行われる。
するレーザ光の入射は、いずれも保護部材１２を介して
、第２図の矢印ＦＡで示すように行われる。
従って、レーザ媒質や予備電極等のスパッタリング等に
よる汚染物質は該保護部材１２に付着し、リアミラー６
及びフロントミラー８が保護部材１２に保護されること
になるので、リアミラー６及びフロントミラ−８自体は
ほとんど汚れることかない。
よる汚染物質は該保護部材１２に付着し、リアミラー６
及びフロントミラー８が保護部材１２に保護されること
になるので、リアミラー６及びフロントミラ−８自体は
ほとんど汚れることかない。
すなわち、通常、エキシマレーザ装置のりアミラー６ま
たはフロントミラー８の汚れは、レーザ光の照射された
部分に限定されるため、保護部材１２がリアミラー６ま
たはフロントミラー８のレーザ光の光軸上に位置してい
れば、リアミラー６及びフロントミラー８には汚染物質
はほとんど到達しないことになる。
たはフロントミラー８の汚れは、レーザ光の照射された
部分に限定されるため、保護部材１２がリアミラー６ま
たはフロントミラー８のレーザ光の光軸上に位置してい
れば、リアミラー６及びフロントミラー８には汚染物質
はほとんど到達しないことになる。
また、該保護部材１２が汚れた場合には、第２図に示す
ように、円板状の保護部材ホルダー１０を例えば矢印Ｆ
Ｂの方向に回転８動させ、汚染していない別の保護部材
１２を光軸に合わせれば、保護部材１２の交換は、簡単
に完了することになる。
ように、円板状の保護部材ホルダー１０を例えば矢印Ｆ
Ｂの方向に回転８動させ、汚染していない別の保護部材
１２を光軸に合わせれば、保護部材１２の交換は、簡単
に完了することになる。
従って、保護部材１２の交換の際には、レーザ・チャン
バー４内のガス排気をしたり、新たにミラーの光軸合わ
せをする必要がなくなる。
バー４内のガス排気をしたり、新たにミラーの光軸合わ
せをする必要がなくなる。
次に、第３図を参照しながら、保護部材ホルダ一部分の
他の構成例について説明する。
他の構成例について説明する。
第３図は、保護部材ホルダーの構成を示す斜視図であり
、１４は長方形の保護部材ボルダ−１１６は保護部材で
ある。レーザ光は、矢印ＦＣのように保護部材１６に入
射する。この場合の保護部材１６の交換は、保護部材ホ
ルダー１４を矢印ＦＤの方向に直線的に移動させること
により、容易に行うことができる。 − 保護部材の材質としては、硝材としてホタル石、石英、
ＭｇＦ、が好ましい。また、ＡＲコーティング材として
はフッ化物をオーバコートしたものが好ましく、これに
より保護部材が発振物質のハロゲンガスにより劣化する
のを防ぐことができる。
、１４は長方形の保護部材ボルダ−１１６は保護部材で
ある。レーザ光は、矢印ＦＣのように保護部材１６に入
射する。この場合の保護部材１６の交換は、保護部材ホ
ルダー１４を矢印ＦＤの方向に直線的に移動させること
により、容易に行うことができる。 − 保護部材の材質としては、硝材としてホタル石、石英、
ＭｇＦ、が好ましい。また、ＡＲコーティング材として
はフッ化物をオーバコートしたものが好ましく、これに
より保護部材が発振物質のハロゲンガスにより劣化する
のを防ぐことができる。
ところで、上記実施例では、複数の保護部材１２が保護
部材ホルダー１０に分離して配置されている例を示した
が、本発明は上記の例に何等限定されることはなく、例
えば面積の大きな単一の保護部材を配置してもよい。
部材ホルダー１０に分離して配置されている例を示した
が、本発明は上記の例に何等限定されることはなく、例
えば面積の大きな単一の保護部材を配置してもよい。
その場合は、保護部材の汚れた部分を光軸からずらし、
汚れていない部分が光軸に合うように移動させればよい
。なお、保護部材は、両面がＡＲコーティングされてい
るものに限らず、レーザ発振光透過性の部材ならばいか
なるものでもよいことはいうまでもない。
汚れていない部分が光軸に合うように移動させればよい
。なお、保護部材は、両面がＡＲコーティングされてい
るものに限らず、レーザ発振光透過性の部材ならばいか
なるものでもよいことはいうまでもない。
また、保護部材は極力フロントミラー、リアミラーに接
近あるいは密着させ、交換時にはこれらのミラーから一
定の間隔だけ離れて動くような構造としてもよい。
近あるいは密着させ、交換時にはこれらのミラーから一
定の間隔だけ離れて動くような構造としてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、レーザ・チャ
ンバー内のフロントミラー及びリアミラーのそれぞれに
近接した位置に、複数のレーザ光透過性領域を有する光
学部材を設け、各レーザ光透過性領域がレーザ光光軸上
で移動可能であるように配置することとしたので、リア
ミラー及びフロントミラーの汚染を良好に防止すること
ができるとともに、汚染された保護領域の交換をレーザ
チャンバー内のガスの排気をせずに行ってガスの使用量
を減らすことができ、コストの低減を図ることができる
という効果がある。
ンバー内のフロントミラー及びリアミラーのそれぞれに
近接した位置に、複数のレーザ光透過性領域を有する光
学部材を設け、各レーザ光透過性領域がレーザ光光軸上
で移動可能であるように配置することとしたので、リア
ミラー及びフロントミラーの汚染を良好に防止すること
ができるとともに、汚染された保護領域の交換をレーザ
チャンバー内のガスの排気をせずに行ってガスの使用量
を減らすことができ、コストの低減を図ることができる
という効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す側断面図、第２図は本
発明の一実施例の保護部材ホルダーを示す斜視図、第３
図は他の保護部材ホルダーの例を示す斜視図、第４図は
従来のエキシマレーザ装置の一例を示す側断面図である
。 ［主要部分の符号の説明］ ２・・・エキシマレーザ−１４・・・レーザ・チャンバ
ー、６・・・リアミラー、８・・・フロントミラー、１
０．１４・・・ミラーホルダー、１２゜１６・・・保護
部材
発明の一実施例の保護部材ホルダーを示す斜視図、第３
図は他の保護部材ホルダーの例を示す斜視図、第４図は
従来のエキシマレーザ装置の一例を示す側断面図である
。 ［主要部分の符号の説明］ ２・・・エキシマレーザ−１４・・・レーザ・チャンバ
ー、６・・・リアミラー、８・・・フロントミラー、１
０．１４・・・ミラーホルダー、１２゜１６・・・保護
部材
Claims (3)
- （１）レーザ・チャンバーと、フロントミラーと、リア
ミラーとを有するエキシマレーザ装置において、 前記レーザ・チャンバー内のフロントミラー及びリアミ
ラーのそれぞれに近接した位置に、前記レーザ・チャン
バー内に充填されたガス等による汚染から該フロントミ
ラー及びリアミラーを保護するための複数のレーザ光透
過性領域を有する光学部材を設け、各レーザ光透過性領
域がレーザ光光軸上で移動可能であるように配置したこ
とを特徴とするエキシマレーザ装置。 - （２）前記保護領域は、ＡＲコーティング（アンチ・レ
フレクティヴコーティング。以下同 じ。）された光透過性部材で形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のエキシマレーザ装置
。 - （３）前記光学部材は、全体がＡＲコーティングされた
レーザ光透過性部材で形成されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62041274A JPS63209187A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | エキシマレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62041274A JPS63209187A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | エキシマレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63209187A true JPS63209187A (ja) | 1988-08-30 |
Family
ID=12603864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62041274A Pending JPS63209187A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | エキシマレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63209187A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01223786A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ発振器 |
| JPH01293582A (ja) * | 1988-05-21 | 1989-11-27 | Hitachi Ltd | エキシマレーザ装置 |
| EP0627131A4 (en) * | 1992-02-19 | 1994-10-12 | Coherent Inc | PLATE LASER WITH INCREASED LIFETIME. |
| EP3258554A1 (en) * | 2016-06-14 | 2017-12-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization method and device |
| WO2020039612A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レーザ光出射ヘッド及びそれを用いたレーザ加工装置 |
| CN111934167A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 准分子激光退火系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61203689A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-09 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振装置 |
-
1987
- 1987-02-26 JP JP62041274A patent/JPS63209187A/ja active Pending
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| EP3258554A1 (en) * | 2016-06-14 | 2017-12-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization method and device |
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| US11087980B2 (en) | 2016-06-14 | 2021-08-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser crystallization device |
| WO2020039612A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レーザ光出射ヘッド及びそれを用いたレーザ加工装置 |
| JPWO2020039612A1 (ja) * | 2018-08-24 | 2021-08-10 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レーザ光出射ヘッド及びそれを用いたレーザ加工装置 |
| CN111934167A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 准分子激光退火系统 |
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