JPH09298148A

JPH09298148A - 露光方法及び露光装置

Info

Publication number: JPH09298148A
Application number: JP8113996A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Nakano; 博之中野
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-05-08
Filing date: 1996-05-08
Publication date: 1997-11-18

Abstract

(57)【要約】【課題】露光光の照度低下の問題に適切に対処し得、
特に光学系に付着した異物による照度低下の問題を解決
した露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】光源１と、露光が行われる露光部２との
間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の光
路（光学系配置部３）を構成する露光において、光学系をクリーニング可能に構成光学系における照
度変化を検知可能に構成光学系に付着した付着物質の
分析を可能に構成光源と露光部との間の光学系を２系
統以上の光学系に分割し、露光部において１系統に集光
する構成光源レーザー部分と、光学系と、露光が行わ
れる露光部とをひとまとめにして、同じ環境中において
露光を行う構成、にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

〔発明の詳細な説明〕

【０００２】

【従来の技術】露光技術が利用される分野では、被露光
材の微細化がますます進行している。たとえば、半導体
装置について、加工形成すべきその各種パターンの微細
化は著しく進んでいる。現在、半導体装置の製造分野で
は、ハーフミクロン（０．５μｍ）レベルのデザインル
ールに基づく１６ＭＤＲＡＭが量産ラインに移行され、
最近では６４ＭＤＲＡＭで必要とされる０．３５μｍ用
いるレベルのデザインルールに基づく６４ＭＤＲＡＭの
量産展開が開始されている。またさらに、次世代の２５
６ＭＤＲＡＭで必要とされる０．２５μｍレべル加工に
ついての技術開発が行われている。微細化はさらに速度
を増して、進行して行くと考えられる。半導体装置の製
造分野におけるかかる微細化の進展には、半導体リソグ
ラフィ技術の発展が必要である。このような状況で、露
光光源も短波長化が進み、たとえば波長４３６ｎｍのｇ
線から、波長３６５ｎｍのｉ線、さらに、波長２４８ｎ
ｍのＫｒＦエキシマレーザーへとと短波長化してきてい
るのである。

【０００３】０．２５μｍ世代以降の露光光源の主流
は、従来までの水銀ランプの強度の得られていた波長で
露光していたｇ，ｉ線から、さらに短波長のＫｒＦ，Ａ
ｒＦ等のエキシマ露光にシフトする傾向にある。たとえ
ばＫｒＦエキシマレーザー露光技術においては、Ｋｒ，
Ｆ₂，Ｎｅ等のガスを用いて、２４８ｎｍのパルスレー
ザーを発生させて露光に用いる。

【０００４】従来よりエキシマレーザーリソグラフィ技
術においては、図１１に示すように、露光光を発生する
光源１をなすレーザー光発生装置は、露光部２（図では
露光機本体）とは離れた場所に置いてあるのが通常の設
定である。図１１に示すように、露光部２をなす露光機
本体と、露光光の光源１をなすレーザー発生装置との間
は、光学系が配置されて光路確保が行わる。光学系配置
部３に、一般に、図１２に示す如くレンズ３２ａ〜３２
ｅと、ミラー３１ａ〜３２ｃ等が配置され、これらレン
ズ３２ａ〜３２ｅやミラー３１ａ〜３２ｃを用いた光学
系により、レーザーの光路を確保している。これについ
ては、ステップアンドスキャン型の露光装置でも、ステ
ップアンドリピート型の露光装置でも、同様な配置が採
用されている。

【０００５】しかし、光源１をなすレーザー発生装置か
ら露光部２をなす露光装置本体にまで至るレーザー光
は、最も集光した光であり、エネルギーの高い光であ
る。それゆえ光路上のレンズまたはミラー等に、アンモ
ニア化物、炭化物、シリコン化物、金属などの異物が付
着し、膜状になったりすることがある。このような異物
は、一般に、デポ物（堆積物）などと称されている。レ
ンズまたはミラー等には、主としてその光学性能を維持
するために表面処理が施されていることが多いが、かか
るレンズまたはミラー等に付着ないしは成膜した異物
は、その表面処理を阻害してしまうことがある。代表的
には、レンズには反射防止処理として、反射防止膜が形
成されることが多く、この反射防止膜は異物（デポ物）
により分解されやすい。このような異物（デポ物）は、
光源１であるレーザー発生装置で発生したレーザー光の
光量を低下させ、露光のスループットを低下させる。か
つ、上記したように反射防止膜等の表面処理を阻害し、
所定の露光が達成されなくなる。

【０００６】現状の技術では、窒素パージ等を行うこと
により、雰囲気の不純物の濃度を下げ、デポ物が付着し
ないような工夫をしている。しかし、それで完全にデポ
物がなくなるわけではなく、照度の時間に対する低下は
不可避的におこっている。

【０００７】今後、よりスループットを向上させるため
に、レーザーパワーが増大化していくことは不可避であ
ると考えられる。さらに、今後の微細化進展に伴い、光
リソグラフィの光源のこのＫｒＦ光よりも波長の長いＡ
ｒＦ光（１９３ｎｍ）に移行すると考えられる。レーザ
ーパワーの増大、短波長化によるエネルギーの増加によ
り、ミラー、レンズにおいては、よりデポ物がつきやす
い環境となり、照度低下の問題は現状より大きくなると
考えられる。従来技術においては、このような露光光の
照度低下、特に光学系に付着した異物による、露光光の
照度低下が不可避的であった。よって、さらなる露光の
効率の向上に対して、この問題が隘路になっていた。こ
の問題は、レーザー光を露光光とする場合に顕著である
が、その外の場合も問題になることであり、特にエネル
ギー高く露光を行おうとする場合に共通して問題にな
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】露光技術における上記
した照度低下の問題に対しては、何らかの対策を講じな
ければならない。しかし従来技術にあっては、照度低下
により露光にもたらされる問題は、通常、露光後に判明
するものであり、照度低下の問題を最も適切な時期、た
とえば露光時のリアルタイムで知るとか、露光前に知る
とかということは不可能であった。さらに、照度低下の
原因も、やはり同様に最も適切な時期に知ってその対策
を講じるのが最良であるが、照度低下の原因それ自体
が、必ずしも早期に判明しうるものではなかった。

【０００９】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
し、露光光の照度低下がもたらす問題点についてこれに
適切な対処を施しうる技術を提供することを目的とす
る。特に、光学系に付着した異物による露光光の照度低
下の問題を適切に解決し得、さらなる露光の効率の向上
を十分に達成可能な露光方法及び露光装置を提供するこ
とを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明においては、レー
ザー露光等の露光技術において、上記目的を達成するた
め、次のような手段を採る。すなわち、第１に、露光光
の光源と、露光光により露光が行われる露光部との間
に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の光路
を構成する露光方法において、前記光学系をクリーニン
グ可能に構成して露光を行うことを特徴とする露光方法
を提供する。ここで、クリーニング可能に構成して露光
を行うとは、すなわち露光の前、または露光中、または
露光後に、光学系をクリーニングできるようにしたこと
を言う。また、露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学
系配置部にクリーニング手段を具備する構成としたこと
を特徴とする露光装置を提供する。上記した発明によれ
ば、光学系をクリーニングすることにより、その照度の
劣化を防止できる。

【００１１】第２に、露光光の光源と、露光光により露
光が行われる露光部との間に、光学系を配置してこの光
学系によって露光光の光路を構成する露光方法におい
て、前記光学系における照度変化を検知可能に構成して
露光を行うことを特徴とする露光方法を提供する。ここ
で、照度変化を検知可能に構成して露光を行うとは、す
なわち露光の前、または露光中、または露光後に、照度
変化を検知できるようにしたことを言う。照度変化の検
知は、光学系の各光学部品に対して、その照度変化検知
を行うように構成できる。また、露光光の光源と、露光
光により露光が行われる露光部と、該光源と露光部との
間に設けられた光学系配置部とを備えてなる露光装置に
おいて、前記光学系配置部に光学系に対する照度検知手
段を具備する構成としたことを特徴とする露光装置を提
供する。本発明によれば、照度を検知することにより、
照度変化を適時に知ることができる。よって、照度変化
による問題の発生に対し、速やかに、かつ適確な対処を
行うことが可能となる。

【００１２】第３に、露光光の光源と、露光光により露
光が行われる露光部との間に、光学系を配置してこの光
学系によって露光光の光路を構成する露光方法におい
て、前記光学系に付着した付着物質の分析を可能に構成
して露光を行うことを特徴とする露光方法を提供する。
また、露光光の光源と、露光光により露光が行われる露
光部と、該光源と露光部との間に設けられた光学系配置
部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部
の光学系に付着した付着物質を分析する分析手段を具備
する構成としたことを特徴とする露光装置を提供する。
本発明によれば、光学系に付着した付着物質である異物
の分析して、照度劣化の原因となる異物の正しい情報を
適時に得ることができるので、付着物質による照度変化
について正しい認識を得ることができる。よって、付着
物質に基づく照度変化による問題の発生に対し、速やか
に、かつ適確な対処を行うことが可能となる。

【００１３】第４に、露光光の光源と、露光光により露
光が行われる露光部との間に、光学系を配置してこの光
学系によって露光光の光路を構成する露光方法におい
て、前記光源と露光部との間の光学系を２系統以上の光
学系に分割し、露光部において１系統に集光する構成し
て露光を行うことを特徴とする露光方法を提供する。ま
た、露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光
部と、該光源と露光部との間に設けられた光学系配置部
とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部を
２以上設けて前記光源と露光部との間の光学系を２系統
以上の光学系に分割し、露光部において１系統に集光す
る構成としたことを特徴とする露光装置を提供する。本
発明によれば、光学系配置部を２以上設けて前記光源と
露光部との間の光学系を２系統以上の光学系に分割し、
露光部において１系統に集光する構成としたので、エネ
ルギーを分散できる結果、光学系の付着物質を少なくで
き、あるいは各々の光路について適切な対策を講じるこ
とも可能である。よって、照度変化による問題の発生を
抑制でき、また、この問題点に対し、速やかに、かつ適
確な対処を行うことが可能となる。

【００１４】第５に、露光光の光源と、露光光により露
光が行われる露光部との間に、光学系を配置してこの光
学系によって露光光の光路を構成する露光方法におい
て、露光光がレーザー光であるとともに、光源であるレ
ーザー発生部分と、光学系と、露光が行われる露光部と
をひとまとめにして、同じ環境中において露光を行うこ
とを特徴とする露光方法を提供する。また、露光光の光
源と、露光光により露光が行われる露光部と、該光源と
露光部との間に設けられた光学系配置部とを備えてなる
露光装置において、露光光がレーザー光であるととも
に、光源であるレーザー発生部分と、光学系と、露光が
行われる露光部とをひとまとめにして、同じ環境中にお
いて露光を行う構成としたことを特徴とする露光装置を
提供する。本発明によれば、レーザー光源部分と、光学
系と、露光が行われる露光部とをひとまとめにして、同
じ環境中において露光を行う構成としたので、そのひと
まとめにした環境についてたとえばその雰囲気の制御等
により、光学系の付着物質を少なくできる。よって、照
度変化による問題の発生を抑制でき、また、この問題点
に対し、速やかに、かつ適確な対処を行うことが可能と
なる。

【００１５】また、第１から第５の各手段を組み合わせ
た露光方法または露光装置を提供する。これによって、
上記第１から第５の各手段の各作用効果を組み合わせた
利点を有する露光方法または露光装置が提供できる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態について
さらに説明し、かつ図面を参照して、本発明の好ましい
実施の形態を具体的に説明する。但し当然のことではあ
るが、本発明は図示実施の形態例に限定されるものでは
ない。

【００１７】本発明は、露光技術、たとえばエキシマレ
ーザーリソグラフィにおいて露光スループットを低下さ
せる照度低下を自動的に防ぐ方法、またその方法を用い
た装置として、具体化できる。

【００１８】本発明者の知見によれば、照度の低下には
各種の原因が考えられるが、その主たるひとつは、光源
であるレーザーと、レーザーを誘導している部分の雰囲
気中に存在する不純物が反応し、アンモニア化物、炭化
物、シリコン化物、金属などのデポ物が成膜することに
よる。

【００１９】よって照度を低下させないためには上記に
列挙したような成分の不純物が付着、ないし成膜しない
ようにするか、または付着ないし成膜したとしても、こ
れをクリーニング、たとえば自動的にクリーニングでき
るような機構を備付けていればよいことになる。

【００２０】このような本発明者の知見によれば、本発
明はその好ましいひとつの実施の形態として、たとえば
ステップアンドスキャン型、またはステップアンドリピ
ート型の露光において、ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ
（１９３ｎｍ）等レーザーを光源とする場合に、光源部
分と露光部分をつなぐ光学系に用いられるレンズやミラ
ーをクリーニングする部分を光学系配置部に備え、必要
に応じクリーニング用の溶剤を光学系とつなぐ部分を有
する露光技術として、具体化できる。

【００２１】また、たとえばステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系に用いられるレンズやミラーをクリーニングするク
リーニング用品を光学系配置部に移動可能に設置し、必
要に応じクリーニング用の溶剤を光学系とつなぐ部分を
有する露光技術として、具体化できる。

【００２２】また、たとえばステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系に用いられるレンズやミラーの照度変化をモニター
する機能を有する露光技術として、具体化できる。

【００２３】また、上記の各技術を任意に組み合わせた
露光技術として、具体化できる。

【００２４】また、たとえばステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系に用いられるレンズやミラーに付着している不純成
分を分析できる機能を有する露光技術として、具体化で
きる。

【００２５】またさらに、上記の各技術を任意に組み合
わせた露光技術として、具体化できる。

【００２６】また、たとえばステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系を２系以上に分割し、露光部分で１系統に集光する
機能を有する露光技術として、具体化できる。

【００２７】またさらに、上記の各技術を任意に組み合
わせた露光技術として、具体化できる。

【００２８】また、たとえばステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光学系、露光部分、レーザー部
分を一つにまとめ同じ環境中におく構成とした露光技術
として、具体化できる。

【００２９】この場合に、上記ひとまとめにした環境中
を、窒素、不活性ガス等で置換するか、真空に引くこと
ができるように構成できる。

【００３０】またさらに、上記の各技術を任意に組み合
わせた露光技術として、具体化できる。

【００３１】以下、本発明の好ましい具体的な実施の形
態例を説明することにより、さらに具体的な問題点の解
決の手段を示す。ただし、本発明は以下の実施の形態例
に限定を受けるものではない。

【００３２】実施の形態例１本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図１
に示す。この実施の形態例は、ステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光技術におい
て、ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レ
ーザーを光源とし、この場合に、光源部分と露光部分を
つなぐ光学系に用いられるレンズやミラーをクリーニン
グする部分を設け、また、クリーニング用の溶剤を設置
し、これらを光学系配置部に格納する構成としたもので
ある。

【００３３】本例において露光部をなす露光機本体は、
ステップアンドスキャン型、またはステップアンドリピ
ート型の露光機である。またレーザーはＫｒＦ（２４８
ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等を、露光光３０の光源
としている。全体的な構成は、図１１に示したのと同様
である。

【００３４】図１に示すように、光路の引き回し部分に
用いられるレンズ３２、ミラー３１（図示の簡明のた
め、レンズ、ミラーはすべてを図示するわけではない。
以下の実施の形態例でも同様である。）の近傍位置、図
では各レンズ３２、ミラー３１の横に、レンズ３２、ミ
ラー３１をみがいてクリーニングするブラシをクリーニ
ング手段４１，４２として格納しておく。このブラシと
しては、レンズ３２、ミラー３１に対してそれぞれ符号
４ａで示すブラシＡ、４ｂで示すブラシＢ、４ｃで示す
ブラシＣを配備する。各ブラシは、目的とする除外すべ
き付着物（デポ物）ごとに用いる。すなわち、ブラシＡ
にはクリーニング液Ａを用いて、クリーニング液Ａで除
去すべき付着物（デポ物）をクリーニングするようにす
る。同様に、ブラシＢにはクリーニング液Ｂを用いて、
クリーニング液Ｂで除去すべき付着物（デポ物）をクリ
ーニングするようにし、ブラシＣにはクリーニング液Ｃ
を用いて、クリーニング液Ｃで除去すべき付着物（デポ
物）をクリーニングするようにする。具体的にはここで
は、３種のクリーニング液として、ゴミ用のアルコー
ル、金属用の硝酸、酸化膜用のフッ酸を採用し、各クリ
ーニング液をつけたブラシを、クリーニング手段とし
た。その他構成に応じて、適宜の数のブラシ、適宜の被
クリーニング物質に対応したクリーニング液を用いるよ
うにすればよい。

【００３５】また本実施の形態例では、炭化物除去のた
めに、熱せられた酸素が直接ミラーやレンズにあたるよ
うに準備した、酸素を導入する配管も準備する。具体的
にはここでは、ミラー３１のミラー面用の乾燥空気導入
部４７、及び、レンズ３２の両面用の乾燥空気導入部４
５，４６を設けた。

【００３６】本実施の形態例では、クリーニング手段４
１，４２は、レンズ３２、ミラー３１をクリーニング可
能な位置に、固定しておく。ただし、具体的には、図１
のように、付着物に応じたクリーニングが可能なよう
に、複数のブラシについてその一端を軸支して、任意の
ブラシを任意に使用できる構成にしておく。クリーニン
グ液の液溜め槽４３，４４も、レンズ３２、ミラー３１
に対してそれぞれ設けた。本実施の形態例では、レンズ
３２、ミラー３１に対してはそれぞれひとつの液溜め槽
４３，４４を設けて、クリーニング液を交換するように
したが、場合によっては、液溜め槽４３，４４は、各複
数配置してもよい。クリーニング手段４１，４２、及
び、液溜め槽４３，４４は、本実施の形態例では、光学
系配置部３の内側壁に格納する構成とした。

【００３７】本実施の形態例では、ブラシは基本的に使
い捨てで自動的に交換される。クリーニング後の不要成
分除去のために、排気系統も準備しておく。

【００３８】クリーニングは、以下のように行うことが
できる。クリーニング手段４１，４２のブラシＡを、ク
リーニング液の液溜め槽４３，４４のクリーニング液Ａ
に浸し、光学系（ミラー、またはレンズ）をクリーニン
グし、液溜め槽４３，４４のクリーニング液をクリーニ
ング液Ｂに交換し、クリーニング手段４１，４２のブラ
シＢを、そのクリーニング液Ｂに浸し、光学系（ミラ
ー、またはレンズ）をクリーニングし、さらに液溜め槽
４３，４４のクリーニング液をクリーニング液Ｃに交換
し、クリーニング手段４１，４２のブラシＣを、そのク
リーニング液Ｃに浸して、クリーニングを行う。最後
に、乾燥空気で乾燥を行う。たとえば具体的には、つぎ
のようにしてクリーニングを行うようにすることができ
る。たとえば、スイッチを押すことにより、各レンズ、
ミラーは、まずブラシ４ａ（たとえば、クリーニング液
はアルコール）、次いでブラシ４ｂ（同じく硝酸）、次
いでブラシ４ｃ（同じくフッ酸）とみがかれ、その後、
酸素の配管（乾燥空気導入部４５〜４７）により熱せら
れた乾燥酸素が導入される。最後に仕上げとして再度ア
ッルコールでミラー、レンズをみがき、排気用のスイッ
チがＯＮして、不要成分が除去される。一度使用された
ブラシは使用後、未使用品と交換される。

【００３９】このようにして光路構成のための光学系を
なしているミラー、レンズはクリーニングされ、照度が
回復する。よって、適正な露光が可能となる。

【００４０】実施の形態例２この実施の形態例は、ステップアンドスキャン型、また
はステップアンドリピート型の露光技術において、Ｋｒ
Ｆ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザーを
光源とし、この場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系に用いられるレンズやミラーをクリーニングできる
クリーニング手段を、ここでは移動可能なクリーニング
用品として設け、かつクリーニング用の溶剤（クリーニ
ング液）を、光学系配置部に格納する構成としたもので
ある。

【００４１】本実施の形態例における露光装置の構成の
概要を、図２に示す。図２（ａ）に全体構成を示し、図
２（ｂ）にクリーニング手段４であるブラシの上面を示
す。上述した実施の形態例１では、各レンズ、各ミラー
ごとに、クリーニング手段であるブラシを準備したが、
本実施の形態例では、ブラシ移動エリア（具体的にはこ
こではブラシ移動用レール４８）を設けることによっ
て、各用途のブラシを１本ずつ準備した。すなわち、ク
リーニングすべき付着物に応じ、ここでは４Ａ〜４Ｃの
３つのクリーニング手段（ブラシ）を用いる構成とし
た。クリーニング手段（ブラシ）４Ａ〜４Ｃは、図２
（ｂ）にその上面を示すように、上記移動用エリア（ブ
ラシ移動用レール４８）を並走するように移動して、各
ミラー３２、各レンズ３１の所でとまる。一枚みがいた
あとに乾燥空気で乾燥させ、次のミラー、レンズをみが
くというシーケンスを用いて、全体をクリーニングし、
照度を回復させる。図示の例示で説明すれば、クリーニ
ング手段（ブラシ）４Ａ〜４Ｃは、矢印４９ａ、４９
ｂ、４９ｃ、４９ｄ、４９ｅ、４９ｆという径路で進ん
で、全体をクリーニングする。

【００４２】その他、乾燥空気導入部４５〜４７につい
ては、実施の形態例１と同様である。また、クリーニン
グ液については、水平方向で複数本設けたブラシ４Ａ〜
４Ｃに対し、スタート時点でクリーニング液につけるよ
うにした。

【００４３】実施の形態例３本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図３
に示す。この実施の形態例は、ステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合、光源部分と露光部分をつなぐ光学
系に用いられるレンズやミラーの照度変化をモニターす
る機能（具体的にはここでは照度検知手段５１，５２）
を有する構成としたものである。

【００４４】本例で、露光機本体は、ステップアンドス
キャン型、またはステップアンドリピート型の露光機で
ある。またレーザーはＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ
（１９３ｎｍ）等をである。

【００４５】照度が低下している部分が特定できれば、
その部分にだけ対処すればよい。たとえば、その部分だ
け、クリーニングすればよい。

【００４６】そこでこの実施の形態例では、各レンズ、
ミラーの前後のレーザー光の一部を分岐させて、光学系
配置部３に備付けた照度検知手段５１，５２（照度セン
サー）で、各ミラー３１、レンズ３２の照度を、リアル
タイムでモニターする。その照度が所定の領域に入った
とき、たとえば本例では、照度が８０％以下になったと
ころで、その場所を露光機本体に表示し、照度の低下を
リアルタイムで管理することができる。

【００４７】本実施の形態例によれば、照度が落ちた場
所が特定されているので、その部分について、照度低下
に対する対応をとることができる。たとえば、照度が落
ちた場所のみ、クリーニングすればよい。

【００４８】実施の形態例４本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図４
に示す。この実施の形態例は、実施の形態例１と実施の
形態例３との技術を、組み合わせたものである。

【００４９】すなわち、この実施の形態例においては、
露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光部と
の間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の
光路を構成する場合に、光学系を、各光学系の近傍に配
置したクリーニン手段によりクリーニング可能に構成す
るとともに、前記光学系における照度変化を検知可能に
構成して露光を行うようにしたものである。

【００５０】本実施の形態例では、光学系配置部３に照
度検知手段が配置されており、具体的にはレンズ３２用
の照度モニター５１，５２及びミラー３１用の照度モニ
ター５３が配置されているので、照度の低下している光
学系を直ちに容易かつ正確に知ることができる。したが
って、この情報に基づいて、クリーニングを行うことが
できる。本実施の形態例では、リアルタイムで照度の低
下しているミラー、レンズをみつけ、自動的にクリーニ
ングがなされる構成とした。

【００５１】本実施の形態例では具体的には、照度検知
手段で照度低下をモニターし、一定の値、ここでは８０
％に照度が低下したと感知した光学系（ミラー、または
レンズ）について、洗浄を行う。

【００５２】本実施の形態例では、照度低下の判断、及
びクリーニングの作動制御は、コンピュータ系を用い
て、自動的にこれら一連の動作を行うようにしている。
すなわち図示のように、照度モニター５２からの情報が
コンピュータ系７１に伝達され（図では照度モニター５
２のみの情報伝達を図示するが、もちろん照度モニター
５１，５２，５３からの情報がコンピュータ系７１に伝
達される）、照度モニターからの情報に基づいて、コン
ピュータ系７１がクリーニング手段４１，４２を制御し
て、必要な光学系（ミラー、またはレンズ）についての
クリーニングを行う。

【００５３】クリーニングは、以下のように行われる。
クリーニング手段４１，４２のブラシＡを、クリーニン
グ液の液溜め槽４３，４４のクリーニング液Ａに浸し、
光学系（ミラー、またはレンズ）をクリーニングし、液
溜め槽４３，４４のクリーニング液をクリーニング液Ｂ
に交換し、クリーニング手段４１，４２のブラシＢを、
そのクリーニング液Ｂに浸し、光学系（ミラー、または
レンズ）をクリーニングし、さらに液溜め槽４３，４４
のクリーニング液をクリーニング液Ｃに交換し、クリー
ニング手段４１，４２のブラシＣを、そのクリーニング
液Ｃに浸して、クリーニングを行う。最後に、乾燥空気
導入部４５〜４７からの乾燥空気により、乾燥を行う。

【００５４】実施の形態例５本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図５
に示す。図５（ａ）に全体構成を示し、図５（ｂ）にク
リーニング手段４であるブラシの上面を示す。この実施
の形態例は、実施の形態例２と実施の形態例３との技術
を、組み合わせたものである。

【００５５】すなわち、この実施の形態例においては、
露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光部と
の間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の
光路を構成する場合に、光学系をクリーニング可能に構
成するとともに、前記光学系における照度変化を実施の
形態例３と同様に検知可能に構成して露光を行うように
したものであり、特にクリーニング手段を、実施の形態
例２と同様に光学系配置部内においてレール上を移動可
能に配置したものである。

【００５６】本実施の形態例では、実施の形態例３と同
様に光学系配置部３に照度検知手段が配置されており、
具体的にはレンズ３２用の照度モニター５１，５２及び
ミラー３１用の照度モニター５３が配置されているの
で、照度の低下している光学系を直ちに容易かつ正確に
知ることができる。したがって、この情報に基づいて、
クリーニングを行うことができる。本実施の形態例で
は、リアルタイムで照度の低下しているミラー、レンズ
をみつけ、自動的にクリーニングがなされる構成とし
た。

【００５７】本実施の形態例では具体的には、照度検知
手段で照度低下をモニターし、一定の値、ここでは実施
の形態例３と同様に８０％に照度が低下したと感知した
光学系（ミラー、またはレンズ）について、洗浄を行
う。

【００５８】本実施の形態例では、照度低下の判断、及
びクリーニングの作動制御は、実施の形態例４と同様に
コンピュータ系７１を用いて、自動的にこれら一連の動
作を行うようにしている。すなわち図示のように、照度
モニター５１，５２，５３からの情報がコンピュータ系
に伝達され、この照度モニター５１，５２，５３からの
情報に基づいて、コンピュータ系７１がクリーニング手
段４（ブラシ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）を制御して、必要な光
学系（ミラー、またはレンズ）についてのクリーニング
を行う。

【００５９】クリーニングは、実施の形態例３と同様
に、クリーニング手段４（ブラシ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）が
レール４８によって光学系配置部３の内壁を移動して、
必要なクリーニングを行う。その他の構成については、
実施の形態例４と同様であり、同様な作用効果が得られ
る。

【００６０】実施の形態例６本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図６
に示す。この実施の形態例は、ステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系に用いられるレンズやミラーに付着している不純成
分を分析できる機能を有する構成としたものである。

【００６１】光学系であるミラー、またはレンズに付着
している物質（特に構成元素）が特定できれば、該当す
る光学系（ミラー、またはレンズ）に対し、その付着物
質についての適切な対処を行うことにより、照度低下へ
の対策を講じることができる。たとえば、該当する光学
系（ミラー、またはレンズ）を、その付着物質に関係す
る溶媒、具体的にはその付着物質を除去するに適切なク
リーニング液を用いて、付着物質の除去を行うようにで
きる。たとえば、ゴミ用のアルコール、金属用の硝酸、
酸化膜用のフッ酸を用意して、分析結果に応じて用いる
ようにすることができる。このように分析結果を知れ
ば、たとえば上記のように適切なクリーニング液を速や
かに知って、これにより付着物質除去を行うことがで
き、このようにすることにより、高スループットのクリ
ーニングが達成できる。

【００６２】この実施の形態例では、Ｘ線を利用した元
素分析を行った。すなわちここでは、光学系（ミラー、
またはレンズ）にＸ線を照射し、そこから発生する特定
Ｘ線を解析して、分析を行う。この分析結果に基づい
て、その元素を除去できる溶液でクリーニングすること
で、高スループットのクリーニングを行う。

【００６３】特にここでは、図６に示すように、Ｘ線発
生装置６１で発生させたＸ線を、各光学系（ミラー、ま
たはレンズ）について設けた発信部（たとえば図示では
レンズ３２に対して発信部６２ａ、ミラー３１に対して
発信部６２ｂ）から各光学系（ミラー、またはレンズ）
に符号６４ａ，６４ｂで示すように照射し、そこから発
生する特定Ｘ線を、符号６５ａ，６５ｂで示すように、
同じく各光学系（ミラー、またはレンズ）について設け
たディテクタ（たとえば図示ではレンズ３２に対してデ
ィテクタ６３ａ、ミラー３１に対して発信部６３ｂ）で
検知して、この情報を元素分析用コンピュータ７２にお
いて解析して、分析を行う構成とした。

【００６４】実施の形態例７本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図７
に示す。この実施の形態例は、実施の形態例４と実施の
形態例６との技術を、組み合わせたものである。。

【００６５】すなわち、この実施の形態例においては、
露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光部と
の間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の
光路を構成する場合に、光学系を実施の形態例１と同様
にクリーニング可能に構成するとともに、前記光学系に
おける照度変化を実施の形態例３と同様に検知可能に構
成し、かつ、実施の形態例６と同様に光源部分と露光部
分をつなぐ光学系に用いられるレンズやミラーに付着し
ている不純成分を分析できる機能を有する構成にして露
光を行うようにしたものであり、特にクリーニング手段
を、実施の形態例１と同様に光学系配置部内に固定して
格納したものである。

【００６６】本実施の形態例では、照度検知手段によっ
て、光学系（ミラー、またはレンズ）の照度の低下して
いるものを見つけ、また、分析手段特にＸ線分析手段に
より、汚染源素を特定し、それに基づいてクリーニング
液を決定して、実施の形態例１と同様にクリーニング手
段４１，４２によりクリーニングを行う。本例では、コ
ンピューター系７３は、元素分析のための解析及びこれ
に基づく指令を行うとともに、照度検知手段からの情報
の受容及びこれに基づく指令の双方を行う構成にしてお
く。

【００６７】本実施の形態例を示す図７には、前記した
各実施の形態例の構成部分と同様の符号を付した。これ
ら構成部分により、これら構成部分の作用効果をいずれ
も発揮できるものである。

【００６８】実施の形態例８本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図８
に示す。この実施の形態例は、実施の形態例５と実施の
形態例６との技術を、組み合わせたものである。図８
（ａ）に全体構成を示し、図８（ｂ）にクリーニング手
段４であるブラシの上面を示す。

【００６９】すなわち、この実施の形態例においては、
露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光部と
の間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の
光路を構成する場合に、光学系をクリーニング可能に構
成するとともに、前記光学系における照度変化を実施の
形態例３と同様に検知可能に構成し、かつ、実施の形態
例６と同様に光源部分と露光部分をつなぐ光学系に用い
られるレンズやミラーに付着している不純成分を分析で
きる機能を有する構成にして露光を行うようにしたもの
であり、特にクリーニング手段を、実施の形態例２と同
様に光学系配置部内に移動可能に配置したものである。

【００７０】本実施の形態例では、照度検知手段によっ
て、光学系（ミラー、またはレンズ）の照度の低下して
いるものを見つけ、分析手段特にＸ線分析手段により汚
染源素を特定し、それに基づいてクリーニング液を決定
して、実施の形態例２と同様に、レール４８上を移動可
能なクリーニング手段４（ブラシ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）を
用いて、コンピューター系７３で求めた要クリーニング
部分にクリーニング手段４（ブラシ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）
を制御してそこに移動させ、必要な光学系（ミラー、ま
たはレンズ）についてのクリーニングを行う。

【００７１】本実施の形態例を示す図８には、前記した
各実施の形態例の構成部分と同様の符号を付した。これ
ら構成部分により、これら部分の作用効果をともに発揮
できるものである。

【００７２】実施の形態例９本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図９
に示す。この実施の形態例は、ステップアンドスキャン
型、またはステップアンドリピート型の露光において、
ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レーザ
ーを光源とする場合に、光源部分と露光部分をつなぐ光
学系を２系以上に分割し、露光部分で１系統に集光する
機能を有する構成としたものである。

【００７３】レーザー発生装置から露光機本体に入射す
るレーザー光は、最も集光した光であり、それゆえ高い
エネルギーを持っている。高いエネルギーであるので、
光学系も、汚染されやすいことになる。しかし、汚染防
止のためにレーザー光のエネルギーを落とすことは、露
光スループット向上の立場からは、避けなければならな
い。

【００７４】よってこの実施の形態例では、露光スルー
プット向上のためレーザー光を高エネルギー化する必要
性を満足させつつ、レーザー光の光路を分割することに
より、トータルのパワーは落とさずに、一つの光路での
エネルギーは落として、汚染を生じにくくしたものであ
る。これにより、光学系（ミラー、またはレンズ）が汚
染される率を落とすことが可能になる。理想的には、レ
ーザー光はその光路をｎ本とすると、各光路の露光エネ
ルギーは１／ｎとなる。これにより、光学系（ミラー、
またはレンズ）に対する汚染を遅らせることができる。

【００７５】本実施の形態例では、図９に示すように、
光源１であるレーザー発生装置から、露光部２に至る光
学経路（光学系配置部）を、図に符号３Ａ，３Ｂで示す
ように２分割して、ミラー系も、図に符号３１Ａ，３１
Ｂで示すように２分割し、レンズ系も、図に符号３２
Ａ，３２Ｂで示すように２分割して、異物の付着を防止
するようにした。

【００７６】本実施の形態例では、光路の分割のために
光源１であるレーザー発生装置のレーザー出口に光路分
光機８１を設け、また、露光機２の入り口に分割したレ
ーザー光を集光する光路集光機８２を設けた。

【００７７】実施の形態例１０本実施の形態例における露光装置の構成の概要を、図１
０に示す。この実施の形態例では、ステップアンドスキ
ャン型、またはステップアンドリピート型の露光におい
て、ＫｒＦ（２４８ｎｍ），ＡｒＦ（１９３ｎｍ）等レ
ーザーを光源とする場合に、光学系、露光部分、レーザ
ー部分を一つにまとめ同じ環境中におく構成とした。

【００７８】この場合特に、上記ひとまとめにした環境
中を、窒素、不活性ガス等で置換するか、真空に引くこ
とができるように構成した。

【００７９】高エネルギーのレーザー光を用いる場合、
高エネルギーエキシマ光と、装置内部の不純物が反応し
て、光学系（ミラー、またはレンズ）に異物が付着する
ことが避けられない場合がある。この場合も、光学系、
露光部、レーザー部を一つにまとめ、同じ環境中におく
ことによって、異物生成の反応を遅らせ、異物付着の防
止とする。この環境を、窒素、不活性ガス等で置換する
か、真空に引くことにより、このような異物付着の有効
な防止を実現できる。また、ＡｒＦを露光光源とした場
合は、空気（酸素）に吸収帯があるため、置換（窒素置
換等）はもともと必要であるので、装置の大幅な改造は
不要である。

【００８０】本実施の形態例では具体的には、図１０に
示すように、光源１であるレーザー発生装置、光学系
（ミラー、またはレンズ）、露光部２を、ひとまとめに
して、露光装置１０の全体をなす露光チャンバーに収納
する。この露光装置１０（露光チャンバー）は全体が気
密にしうる構造になっているとともに、ガス導入系１０
１，１０２を有し、排気系１０３を、適宜導入すべきガ
スや排気構造に応じた構造で有している。よって、動作
時は、全体を気密にし、排気系１０３からポンプを用い
るなどして、全体を真空に引いて、異物生成の反応が起
こりにくい真空環境とする。あるいは、排気後、所定の
ガスを導入して、異物生成の反応が起こりにくい雰囲気
環境とする。図示例では、ふたつのガス導入系１０１，
１０２を用いて、少なくとも２種のガスを独立の導入系
から導入できるようにした。もちろん、ひとつのガス導
入系を用いて交互にガス導入を行い得るようにしてもよ
く、その構成は任意である。排気、ガス導入、排気と、
露光との手順は任意であるが、一般には、あらかじめシ
ーケンスを組んで、自動運転できるようにする。

【００８１】図１０に示す符号３１Ａ〜３１Ｄは、光源
１であるレーザー発生装置から露光部２に至る露光光３
０（レーザー光）の光路を構成する光学系をなすミラー
であり、符号３２Ａ〜３２Ｆは、同じく露光光３０（レ
ーザー光）の光路を構成する光学系をなすレンズであ
る。露光部２においては、適宜のマスクを用いた投影露
光（一般に縮小投影露光）により、ウェハ２１に露光が
行われる。符号２２は、被露光材であるウェハ２１を載
置して支持するウェハステージである。

【００８２】実施の形態例１１本実施の形態例は、図示は省略するが、実施の形態例９
と、上述した実施の形態例１ないし８のいずれか少なく
とも一つとの技術を、組み合わせたものである。

【００８３】実施の形態例９は、図９に示したように、
光路を２以上に分割する技術である。よって、実施の形
態例１と該実施の形態例９を組み合わせた実施の形態例
１１の１では、光路を分割（具体的には図９のように、
光路を２分割）するとともに、各光路３Ａ，３Ｂを構成
するための光学系配置部に、それぞれ図１と同様の、光
学系配置部の一定位置（レンズ、ミラー等の光学系を清
掃しやすい位置）に配設されたクリーニング手段（ブラ
シ）を配備する構成とする。この例では、実施の形態例
９の異物付着防止効果と、仮に異物が生成して光学系に
付着しても、実施の形態例１と同様にこれをクリーニン
グして、露光光の照度を確保できる。

【００８４】また、実施の形態例２と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の２では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図２と同様の、レール上を移動可能なクリ
ーニング手段（ブラシ）を配備する構成とする。この例
では、実施の形態例９の異物付着防止効果と、仮に異物
が生成して光学系に付着しても、実施の形態例１と同様
にこれをクリーニングして、露光光の照度を確保でき
る。

【００８５】また、実施の形態例３と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の３では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図３と同様の照度検知手段５１，５２をも
ける。この例では、実施の形態例９の異物付着防止効果
と、その照度検知手段５１，５２による速やかで確実な
確認とが実現でき、かつ仮になんらかの事情で照度低下
が発生してもこれを速やかに確実に知ることができて、
適切な処置をとることができる。

【００８６】また、実施の形態例４と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の４では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図４と同様に照度検知手段５１〜５３、ク
リーニング手段４１，４２をも設ける。よってこの例で
は、実施の形態例９の異物付着防止効果と、その照度検
知手段５１，５２による速やかで確実な確認とが実現で
き、かつ実施の形態例４と同様のクリーニングを制御良
く行うことができる。

【００８７】また、実施の形態例５と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の５では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図５と同様に照度検知手段５１，５２、ク
リーニング手段４を設ける。よってこの例では、実施の
形態例９の異物付着防止効果と、その照度検知手段５
１，５２による速やかで確実な確認とが実現でき、かつ
実施の形態例４と同様のクリーニングを制御良く行うこ
とができる。

【００８８】また、実施の形態例６と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の６では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図６と同様な分析手段を設ける。よってこ
の例では、実施の形態例９の異物付着防止効果と、その
分析手段による速やかで確実な確認とが実現でき、かつ
仮になんらかの事情で異物付着が発生しても、これを速
やかに確実に分析できて、適切な処置をとることができ
る。

【００８９】また、実施の形態例７と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の７では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図７と同様のクリーニング機構を設けたの
で、実施の形態例９の異物付着防止効果と、実施の形態
例７と同様のクリーニングを制御良く行うことができ
る。

【００９０】また、実施の形態例８と該実施の形態例９
を組み合わせた実施の形態例１１の８では、光路を分割
（具体的には図９のように、光路を２分割）するととも
に、各光路３Ａ，３Ｂを構成するための光学系配置部
に、それぞれ図８と同様のクリーニング機構を設けたの
で、実施の形態例９の異物付着防止効果と、実施の形態
例８と同様のクリーニングを制御良く行うことができ
る。

【００９１】

【発明の効果】上述のとおり、本発明によれば、露光光
の光源と、露光光により露光が行われる露光部との間
に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の光路
を構成する露光技術における、露光光の照度低下がもた
らす問題点について、これに適切な対処を施しうるよう
にすることができた。特に、光学系に付着した異物によ
る露光光の照度低下の問題を適切に解決し得、さらなる
露光の効率の向上を十分に達成可能な露光方法及び露光
装置を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態例１の構成を示す図であ
る。

【図２】本発明の実施の形態例２の構成を示す図であ
る。

【図３】本発明の実施の形態例３の構成を示す図であ
る。

【図４】本発明の実施の形態例４の構成を示す図であ
る。

【図５】本発明の実施の形態例５の構成を示す図であ
る。

【図６】本発明の実施の形態例６の構成を示す図であ
る。

【図７】本発明の実施の形態例７の構成を示す図であ
る。

【図８】本発明の実施の形態例８の構成を示す図であ
る。

【図９】本発明の実施の形態例９の構成を示す図であ
る。

【図１０】本発明の実施の形態例１０の構成を示す図
である。

【図１１】レーザーを用いた半導体露光装置の一般的
構成を示す図である。

【図１２】光学系配置部中の光路におけるレーザー光
の動きと、ミラー、レンズの配置の一例を示す図であ
る。

【符号の説明】

１・・・露光光の光源（レーザー発生装置）、２・・・
露光部、３，３Ａ，３Ｂ・・・光学系配置部（光路）、
３０・・・露光光（レーザー光）、３１ａ〜３１ｃ，３
１Ａ〜３１Ｄ・・・（光学系をなす）ミラー、３２ａ〜
３２ｅ，３２Ａ〜３２Ｆ・・・（光学系をなす）レン
ズ、４，４１，４２・・・クリーニング手段、４ａ，４
ｂ，４ｃ・・・（固定型の）ブラシ（クリーニング手
段）、４Ａ，４Ｂ，４Ｃ・・・（移動型の）ブラシ（ク
リーニング手段）、４３，４４・・・クリーニング液の
液溜め、４５〜４７・・・乾燥空気導入部、４８・・・
ブラシ移動レール、４９ａ〜４９ｆ・・・（移動型の）
ブラシの動き、５１〜５３・・・照度検知手段（照度モ
ニター）、６１・・・分析手段（Ｘ線発生装置）、６２
ａ，６２ｂ・・・分析手段（Ｘ線発信部）、６３ａ，６
３ｂ・・・分析手段（Ｘ線ディテクタ）、６４ａ，６４
ｂ，６５ａ，６５ｂ・・・分析手段（Ｘ線）、７１・・
・（照度分析・クリーニング制御）コンピューター系、
７２・・・（元素分析用）コンピューター系、７３・・
・（元素分析・照度分析・クリーニング制御）コンピュ
ーター系、８１・・・光路分光機、８１・・・光路集光
機、１０・・・露光装置（露光チャンバー）、１０１，
１０２・・・ガス導入系、１０３・・・排気系。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】露光光の光源と、露光光により露光が行わ
れる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系によ
って露光光の光路を構成する露光方法において、前記光学系をクリーニング可能に構成して露光を行うこ
とを特徴とする露光方法。
【請求項２】露光光がレーザー光であることを特徴とす
る請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】露光光の光源と、露光光により露光が行わ
れる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光学
系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部にクリーニング手段を具備する構成と
したことを特徴とする露光装置。
【請求項４】露光光がレーザー光であることを特徴とす
る請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】クリーニングがクリーニング液により行わ
れるものであることを特徴とする請求項３に記載の露光
装置。
【請求項６】クリーニング手段が、光学系配置部に固定
された清掃具であることを特徴とする請求項３に記載の
露光装置。
【請求項７】クリーニング手段が、光学系配置部に移動
可能に取り付けられた清掃具であることを特徴とする請
求項３に記載の露光装置。
【請求項８】露光光の光源と、露光光により露光が行わ
れる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系によ
って露光光の光路を構成する露光方法において、前記光学系における照度変化を検知可能に構成して露光
を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項９】露光光がレーザー光であることを特徴とす
る請求項８に記載の露光方法。
【請求項１０】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部に、光学系に対する照度検知手段を具
備する構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系に
よって露光光の光路を構成する露光方法において、前記光学系をクリーニング可能に構成するとともに、前
記光学系における照度変化を検知可能に構成して露光を
行うことを特徴とする請求項８に記載の露光方法。
【請求項１３】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項１２に記載の露光方法。
【請求項１４】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部に、クリーニング手段と、光学系に対
する照度検知手段とを具備する構成としたことを特徴と
する請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１５】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】クリーニングがクリーニング液により行
われるものであることを特徴とする請求項１４に記載の
露光装置。
【請求項１７】クリーニング手段が、光学系配置部に固
定された清掃具であることを特徴とする請求項１４に記
載の露光装置。
【請求項１８】クリーニング手段が、光学系配置部に移
動可能に取り付けられた清掃具であることを特徴とする
請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１９】前記照度検知手段からの情報が制御系に
伝達され、該情報に基づいて制御系がクリーニング手段
を制御する構成としたことを特徴とする請求項１４に記
載の露光装置。
【請求項２０】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系に
よって露光光の光路を構成する露光方法において、前記光学系に付着した付着物質の分析を可能に構成して
露光を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項２１】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項２０に記載の露光方法。
【請求項２２】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部の光学系に付着した付着物質を分析す
る分析手段を具備する構成としたことを特徴とする露光
装置。
【請求項２３】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】分析手段が、Ｘ線を光学系に与え、発生
する特定Ｘ線を解析して分析を行う手段からなることを
特徴とする請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２５】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部にクリーニング手段と前記光学系配置
部の光学系に付着した付着物質を分析する分析手段とを
具備する構成としたことを特徴とする請求項２２に記載
の露光装置。
【請求項２６】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部に、クリーニング手段と、前記光学系
配置部の光学系に対する照度検知手段と、前記光学系配
置部の光学系に付着した付着物質を分析する分析手段と
を具備する構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項２７】クリーニングがクリーニング液により行
われるものであることを特徴とする請求項２５に記載の
露光装置。
【請求項２８】クリーニング手段が、光学系配置部に固
定された清掃具であることを特徴とする請求項２５に記
載の露光装置。
【請求項２９】クリーニング手段が、光学系配置部に移
動可能に取り付けられた清掃具であることを特徴とする
請求項２５に記載の露光装置。
【請求項３０】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系に
よって露光光の光路を構成する露光方法において、前記光源と露光部との間の光学系を２系統以上の光学系
に分割し、露光部において１系統に集光する構成して露
光を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項３１】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項３０に記載の露光方法。
【請求項３２】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部を２以上設けて前記光源と露光部との
間の光学系を２系統以上の光学系に分割し、露光部にお
いて１系統に集光する構成としたことを特徴とする露光
装置。
【請求項３３】露光光がレーザー光であることを特徴と
する請求項３２に記載の露光装置。
【請求項３４】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部に、クリーニング手段と、光学系に対
する照度検知手段と、前記光学系配置部の光学系に付着
した付着物質を分析する分析手段とを具備する構成とす
るとともに、前記光学系配置部を２以上設けて前記光源
と露光部との間の光学系を２系統以上の光学系に分割
し、露光部において１系統に集光する構成としたことを
特徴とする請求項３２に記載の露光装置。
【請求項３５】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部にクリーニング手段を具備する構成と
するとともに、前記光学系配置部を２以上設けて前記光
源と露光部との間の光学系を２系統以上の光学系に分割
し、露光部において１系統に集光する構成としたことを
特徴とする請求項３２に記載の露光装置。
【請求項３６】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、前記光学系配置部にクリーニング手段を具備するととも
に、前記光学系配置部の光学系に対する照度検知手段ま
たは前記光学系配置部の光学系に付着した付着物質を分
析する分析手段との少なくともいずれかを具備し、か
つ、前記光学系配置部を２以上設けて前記光源と露光部
との間の光学系を２系統以上の光学系に分割し、露光部
において１系統に集光する構成としたことを特徴とする
請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３７】クリーニング手段が、光学系配置部に固
定された清掃具であることを特徴とする請求項３３に記
載の露光装置。
【請求項３８】クリーニング手段が、光学系配置部に移
動可能に取り付けられた清掃具であることを特徴とする
請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３９】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系に
よって露光光の光路を構成する露光方法において、露光光がレーザー光であるとともに、光源であるレーザ
ー発生部分と、光学系と、露光が行われる露光部とをひ
とまとめにして、同じ環境中において露光を行うことを
特徴とする露光方法。
【請求項４０】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、露光光がレーザー光であるとともに、光源であるレーザ
ー発生部分と、光学系と、露光が行われる露光部とをひ
とまとめにして、同じ環境中において露光を行う構成と
したことを特徴とする露光装置。
【請求項４１】前記同じ環境を、窒素、不活性ガスで置
換する、または真空に引くことを可能としたことを特徴
とする請求項４０に記載の露光装置。
【請求項４２】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、露光光がレーザー光であり、前記光学系配置部にクリーニング手段を有するとすると
ともに、前記光学系配置部を２以上設けて前記光源と露
光部との間の光学系を２系統以上の光学系に分割し、露
光部において１系統に集光する構成とし、かつ、光源で
あるレーザー発生部分と、光学系と、露光が行われる露
光部とをひとまとめにして、同じ環境中においたことを
特徴とする請求項４０に記載の露光装置。
【請求項４３】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、露光光がレーザー光であり、前記光学系配置部にクリーニング手段を有するとすると
ともに、前記光学系配置部の光学系に対する照度検知手
段または前記光学系配置部の光学系に付着した付着物質
を分析する分析手段の少なくともいずれかを具備する構
成とするとともに、光源であるレーザー発生部分と、光
学系と、露光が行われる露光部とをひとまとめにして、
同じ環境中においたことを特徴とする請求項４０に記載
の露光装置。
【請求項４４】露光光の光源と、露光光により露光が行
われる露光部と、該光源と露光部との間に設けられた光
学系配置部とを備えてなる露光装置において、露光光がレーザー光であり、前記光学系配置部にクリーニング手段を有するとすると
ともに、照度検知手段または前記光学系配置部の光学系
に付着した付着物質を分析する分析手段の少なくともい
ずれかを具備する構成とするとともに、前記光学系配置
部を２以上設けて前記光源と露光部との間の光学系を２
系統以上の光学系に分割し、露光部において１系統に集
光する構成とし、かつ、光源であるレーザー発生部分
と、光学系と、露光が行われる露光部とをひとまとめに
して、同じ環境中においたことを特徴とする請求項４０
に記載の露光装置。
【請求項４５】クリーニング手段が、光学系配置部に固
定された、もしくは移動可能に取り付けられた清掃具で
あることを特徴とする請求項４３に記載の露光装置。
【請求項４６】前記同じ環境を、窒素、不活性ガスで置
換する、または真空に引くことを可能としたことを特徴
とする請求項４３に記載の露光装置。