JPH01292859A - Method of driving charge transfer device - Google Patents

Method of driving charge transfer device

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JPH01292859A
JPH01292859A JP12313588A JP12313588A JPH01292859A JP H01292859 A JPH01292859 A JP H01292859A JP 12313588 A JP12313588 A JP 12313588A JP 12313588 A JP12313588 A JP 12313588A JP H01292859 A JPH01292859 A JP H01292859A
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final gate
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Kazuo Miwata
三輪田 和雄
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Abstract

PURPOSE:To prevent advanced feed of signal output by providing a means to change a gate clock of the preceding stage of the final gate clock from a high level to a low level after the final gate clock attains to the high level at the time when a clock applied to the final gate changes from the low level to the high level. CONSTITUTION:At a time (t1A), a clock phi1L is at a low level and a clock phi2 is at a high level, and therefore signal charge Q is stored under a transfer electrode which is provided to a clock phi1. At a time (t2A), the clock phi1L becomes the high level and the clock phi2 begins to change from the high level to the low level. Under the condition, signal charge Q begins to flow out from a potential well under the transfer electrode which is provided with the clock phi2. However, since the clock phi1L has been already the high level, and the potential well for signal charge storage is securely formed under the transfer electrode which is provided with the clock phi1L. The signal charge beginning to flow out from under the transfer electrode which is provided with the clock phi2 is entirely stored under a final gate 11 and advanced feed mode of signal charge DELTAQ is not thereby generated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電荷転送装置に関し、特に高速駆動のために最
終ゲートを別配線にした電荷転送装置の駆動方法に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a charge transfer device, and more particularly to a method for driving a charge transfer device in which the final gate is wired separately for high-speed driving.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来電荷転送装置においては高速駆動のために最終ゲー
トを別配線にしたものがある(例えば特開昭58−10
3172)。これは、出力用電荷−を圧変換部のフロー
ティングジャンクション部への信号電荷の流入速度を上
げるために、最終ゲートのクロック変化スピードを上げ
たものである。
Some conventional charge transfer devices have the final gate wired separately for high-speed operation (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-10
3172). This is because the clock change speed of the final gate is increased in order to increase the speed at which signal charges flow into the floating junction section of the pressure converter.

この種の電荷転送装置の従来技術を第7図に示す。従来
装置の構造は第7図(a−)に示すように、P型シリコ
ン基板1にN型層2を有している。電荷転送部のN型層
2にはP型のバリアー(障壁)領域7を有しており、そ
の表面にはN型層2上とバリアー領域7上とで1組とな
る転送電極8を有している。1組の転送電極8にはクロ
ックφとこれと逆位相のクロックφ2とが交互に加えら
れている。N型層2の右端の部分には出力部分が形成さ
れ、この出力部はN型のフローティングジャンクション
部12とリセットドレインN型層3とが形成され、これ
らの間の上部にリセットパルスφ、の与えられたリセッ
トゲート4が形成されている。
A conventional technique of this type of charge transfer device is shown in FIG. The structure of the conventional device has an N-type layer 2 on a P-type silicon substrate 1, as shown in FIG. 7(a-). The N-type layer 2 of the charge transfer section has a P-type barrier region 7, and a pair of transfer electrodes 8 on the N-type layer 2 and barrier region 7 are provided on the surface thereof. are doing. A clock φ and a clock φ2 having an opposite phase are alternately applied to one set of transfer electrodes 8. An output portion is formed at the right end portion of the N-type layer 2, and this output portion includes an N-type floating junction portion 12 and a reset drain N-type layer 3, and a reset pulse φ is applied to the upper part between these. A given reset gate 4 is formed.

フローティングジャンクション部12からは出力バッフ
ァ−5を介して出力V。。、が取り出されている。リセ
ットドレインN型層3には例えば接地電位である固定電
位VRDが与えられている。フローティングジャンクシ
ョン部12の直前には固定電位V。。の与えられる出力
ゲート6が設けられ、その前に最終ゲート11が設けら
れている。最終ゲート11にはクロックφ1と同じクロ
ックではあるがクロックφ1とは別に出力されたものφ
1Lがクロックφ1とは別の配線で与えられている。
An output V is output from the floating junction section 12 via an output buffer 5. . , has been taken out. A fixed potential VRD, which is, for example, a ground potential, is applied to the reset drain N-type layer 3. A fixed potential V is applied immediately before the floating junction section 12. . An output gate 6 is provided, which is provided with a final gate 11. The final gate 11 receives a clock φ that is the same as the clock φ1 but is output separately from the clock φ1.
1L is provided through a different wiring from the clock φ1.

クロックφ1Lは最終ゲート11にのみ与えられている
ので波形はなまりのない急峻なパルスとなっており、高
速の出力が可能となっている。
Since the clock φ1L is applied only to the final gate 11, the waveform is a steep pulse without rounding, and high-speed output is possible.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが従来の最終ゲート11へのクロックφ1Lの列
配線された構造においては、駆動条件によっては正常な
出力波形が得られないという欠点が存在していた。以下
その内容を第7図(b)〜(d)および第8図を用いて
説明する。
However, the conventional structure in which the clock φ1L to the final gate 11 is wired in columns has a drawback that a normal output waveform cannot be obtained depending on the driving conditions. The contents will be explained below using FIGS. 7(b) to (d) and FIG. 8.

第7図(b)〜(d)は、時刻tl、t2.t3での転
送電極8下および出力部のポテンシャル分布を示した図
であり、第8図はクロックφlL+ φ2.リセットパ
ルスφ、および出力V。UTのタイミングチャートであ
る。
FIGS. 7(b) to (d) show times tl, t2. FIG. 8 is a diagram showing the potential distribution under the transfer electrode 8 and at the output section at t3, and FIG. Reset pulse φ, and output V. It is a timing chart of UT.

いま時刻t1においては、クロックφ1Lが低レベル、
クロックφ2が高レベルであるため信号電荷龜はクロッ
クφ1の与えられた転送電極下に蓄積されている。フロ
ーティングジャンクション部12にはその直前の電荷Q
1が蓄積されている。
At the current time t1, the clock φ1L is at a low level,
Since the clock φ2 is at a high level, signal charges are accumulated under the transfer electrode to which the clock φ1 is applied. The floating junction part 12 has a charge Q just before it.
1 has been accumulated.

時刻t2となりクロックφ2が低レベルとなり、クロッ
クφ1Lが中間レベルとなっている状態においては、第
3図(C)に示すようにクロックφ2の与えられた転送
電極下の、ポテンシャル井戸より信号電荷Qが流出しは
じめているが、クロックφ1Lがまだ中間レベルである
ため、クロックφ1Lの与えられた転送電極下には信号
電荷蓄積用のポテンシャル井戸がまだ形成されていない
。このため、クロックφ2や与えられた転送電極下より
流出しはじめた信号電荷Qは最終ゲート11下を通過し
フローティングジャンクション部12へ流入してしまう
。この流入は1ビツト前の信号電位Qlと読み出そうと
する電荷Qの一部ΔQとが加算された形で出力信号V。
At time t2, when the clock φ2 is at a low level and the clock φ1L is at an intermediate level, the signal charge Q is transferred from the potential well under the transfer electrode to which the clock φ2 is applied, as shown in FIG. 3(C). However, since the clock φ1L is still at an intermediate level, a potential well for storing signal charges has not yet been formed under the transfer electrode to which the clock φ1L is applied. Therefore, the clock φ2 and the signal charge Q that has started to flow out from under the applied transfer electrode pass under the final gate 11 and flow into the floating junction section 12. This inflow produces an output signal V in the form of the sum of the previous signal potential Ql and a portion ΔQ of the charge Q to be read.

、J、rが出ることを意味し、第8図に示すように出力
信号V。。アが時刻t2より増加し、異常な波形となる
, J, r, and the output signal V as shown in FIG. . A increases from time t2, resulting in an abnormal waveform.

このように信号電荷ΔQの先おくりが起きた状態におい
ては出力信号が1ビツト前に加算されることとなり、正
常な出力波形を示さず、かつまたその出力レベルも信頼
性がない。
In such a state where the signal charge ΔQ is shifted ahead, the output signal is added one bit earlier, and the output signal does not exhibit a normal output waveform, and its output level is also unreliable.

よって従来の最終ゲートに与えるクロックφ1Lの別記
線構造においては、信号電荷光おくりが起きない様な特
別な配慮が必要であり、駆動回路が繁雑となっていた。
Therefore, in the conventional separate line structure for the clock φ1L applied to the final gate, special consideration must be taken to prevent signal charge light from occurring, and the drive circuit becomes complicated.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の電荷転送は最終転送ゲートの印加クロックとそ
の一段前のゲートに印加されるクロックとの関係を最終
ゲートに印加されるクロックが低レベルから高レベルに
変化する時点において、最終ゲートに印加されるクロッ
クが高レベルへ上りきった時点以後にその一段前のゲー
トに印加されるクロックが高レベルから低レベルに変化
する手段を備えている。
In the charge transfer of the present invention, the relationship between the clock applied to the final transfer gate and the clock applied to the gate one step before is determined by applying the clock applied to the final gate at the time when the clock applied to the final gate changes from a low level to a high level. The device is provided with means for changing from a high level to a low level the clock applied to the gate one stage before the clock applied to the gate after the clock applied to the gate reaches the high level.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図(a)は本発明の一実施例に用いる電荷転送の出
力部近辺の断面図であり、第2図はそのリセットパルス
φ8.クロックφIL+ φ2および出力Vourのタ
イミングチャートである。また第1図(b)〜(d)は
第2図の各時刻tIAp i 2As i 3Aでの電
荷転送装置内の電荷転送部と出力部のポテンシャルを示
す図である。第1図(a)に示した電荷転送装置の断面
構造は先に説明した第7図(a)の電荷転送装置と同じ
であるので、説明は省略する。
FIG. 1(a) is a cross-sectional view of the vicinity of the output part of the charge transfer used in one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the reset pulse φ8. 3 is a timing chart of clock φIL+φ2 and output Vour. Further, FIGS. 1(b) to 1(d) are diagrams showing the potentials of the charge transfer section and the output section in the charge transfer device at each time tIAp i 2Asi 3A in FIG. 2. The cross-sectional structure of the charge transfer device shown in FIG. 1(a) is the same as that of the charge transfer device shown in FIG. 7(a) described above, so a description thereof will be omitted.

次に動作を第1図(b)〜(d)および第2図を用いて
説明する。いま時刻tlAにおいては、クロックφ1L
は低レベル、クロックφ2が高レベルであるため、信号
電荷Qはクロックφ1に与えられた転送電極下に蓄積さ
れている。時刻t2Aとなり、クロックφ1Lが高レベ
ルとなりクロックφ2が高レベルから低レベルに変化し
はじめている状態となる。この状態では第1図(C)に
示すようにクロックφ2の与えられた転送電極下のポテ
ンシャル井戸より信号電荷Qが流出しはじめているがク
ロ。
Next, the operation will be explained using FIGS. 1(b) to (d) and FIG. 2. At the current time tlA, the clock φ1L
is at a low level and the clock φ2 is at a high level, so the signal charge Q is accumulated under the transfer electrode applied to the clock φ1. At time t2A, the clock φ1L goes high and the clock φ2 begins to change from high level to low level. In this state, as shown in FIG. 1(C), the signal charge Q begins to flow out from the potential well under the transfer electrode to which the clock φ2 is applied.

りφ1Lがすでに高レベルとなっており、クロックφ1
Lの与えられた転送電極下には信号電荷蓄積用のポテン
シャル井戸が確実に形成されており、クロックφ2の与
えられた転送電極下より流出しはじめた信号電荷は最終
ゲート11下にすべて蓄積され、従来技術で発生したよ
うな信号電荷ΔQの先おくりモードは発生しない。
Since the clock φ1L is already at high level, the clock φ1
A potential well for accumulating signal charges is reliably formed under the transfer electrode to which clock φ2 is applied, and the signal charges that begin to flow out from under the transfer electrode to which clock φ2 is applied are all accumulated under the final gate 11. , a mode in which the signal charge ΔQ is placed first, which occurs in the prior art, does not occur.

第3図は、本発明によるタイミング関係を有するクロッ
クφ1,2φ2.φ1Lを発生する同列の例を示した回
路図であり、クロックφ1.φ2を出力するMOS)ラ
ンジスタ24,25および26゜27で構成されるドラ
イバーの前々段のインバータ21よりクロックφ1Lを
得ている。こうすることにより第4図のタイミングチャ
ートよりわかるようにそれぞれのインバータ21,22
.23の信号遅延T211 T221 T23及びMo
Sトランジスタ24.25および26.27より成るバ
ッファー回路の遅延Tnによりクロックφ1Lが完全に
立上がってから(時刻T1)クロックφ2の立下がりが
開始する。
FIG. 3 shows clocks φ1, 2φ2 . . . having a timing relationship according to the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a parallel circuit that generates clocks φ1. The clock φ1L is obtained from the inverter 21 in the previous stage of the driver, which is composed of transistors 24, 25 and 26°27 which output the MOS transistor φ2. By doing this, as can be seen from the timing chart in FIG.
.. Signal delay of 23 T211 T221 T23 and Mo
After the clock φ1L completely rises due to the delay Tn of the buffer circuit composed of S transistors 24.25 and 26.27 (time T1), the clock φ2 starts falling.

次に第5図および第6図を用いて本発明の他の実施例を
説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described using FIGS. 5 and 6.

P型シリコン基板510表面部に有するN型層52には
電荷転送部と出力部が設けられている。
A charge transfer section and an output section are provided in the N-type layer 52 on the surface of the P-type silicon substrate 510.

電荷転送部にはP型バリアー領域57を有し、このP型
バリアー領域57上とN型層52上とで1組となる転送
電極58.59が設けられている。
The charge transfer section has a P-type barrier region 57, and a pair of transfer electrodes 58 and 59 are provided on the P-type barrier region 57 and the N-type layer 52.

転送電極59にはクロックφ1が、また転送電極58に
はこれとは逆位相のクロックφ2が与えられている。転
送電極の最後のものは出力ゲート56として固定電位v
0゜が与えられている。その直前の転送電極の組は最終
ゲート61としてクロックφ1Lがクロックφ2からイ
ンバータ31で形成されて、他の転送電極とは別配線で
与えられている。
The transfer electrode 59 is provided with a clock φ1, and the transfer electrode 58 is provided with a clock φ2 having an opposite phase. The last of the transfer electrodes is connected to a fixed potential v as an output gate 56.
0° is given. The immediately preceding set of transfer electrodes is formed by an inverter 31 from which the clock φ1L is derived from the clock φ2 as the final gate 61, and is provided through separate wiring from the other transfer electrodes.

最終ゲート61の直前の1組の転送電極30にはクロッ
クφ2がインバータ31〜34を介してクロックφ2L
として、やはり他の転送電極とは別配線で与えられてい
る。出力部ではN型のフローティングジャンクション部
62とリセットドレインN型層53とそれらの間の上の
リセットゲート54とを有している。リセットドレイン
N型層53には固定電位v3わが、またリセットゲート
54にはリセットパルスφ8が与えられている。フロー
ティングジャンクション部62からはバッファー55を
介して出力V。IJTが取り出されている。
A clock φ2 is applied to a set of transfer electrodes 30 immediately before the final gate 61 via inverters 31 to 34, and a clock φ2L
As such, it is also provided with separate wiring from other transfer electrodes. The output section has an N-type floating junction section 62, a reset drain N-type layer 53, and an upper reset gate 54 between them. A fixed potential v3 is applied to the reset drain N-type layer 53, and a reset pulse φ8 is applied to the reset gate 54. An output V is output from the floating junction section 62 via the buffer 55. IJT has been taken out.

このように外部入力クロックφ2よりインバータ31,
32,33,34を用いて、クロックφlL+φ2Lを
発生し、出力ゲート56の直前の最終ゲート61および
この最終ゲート61の一段前の1組の転送電極30に与
えている。これらクロックφ2Lはインバータ32,3
3.34を用いクロックφ1Lより遅延したクロックと
なっている。
In this way, the inverter 31,
32, 33, and 34 are used to generate a clock φ1L+φ2L, which is applied to the final gate 61 immediately before the output gate 56 and a set of transfer electrodes 30 one stage before the final gate 61. These clocks φ2L are connected to inverters 32, 3
3.34 and is a clock delayed from clock φ1L.

このようにクロックφ2Lを遅延させることにより第6
図のタイミング図よりわかるようにこれも最終ゲート6
1に印加するクロックφ1Lが完全に立ち上がってから
(時刻T1)、最終ゲー)61の前段の1組の転送電極
30に印加するクロックφ2Lの立下りが開始する。従
って、第1〜4図で説明した一実施例と同様の効果を有
することとなる。
By delaying the clock φ2L in this way, the sixth
As you can see from the timing diagram in the figure, this is also the final gate 6.
After the clock φ1L applied to the gate 1 completely rises (time T1), the clock φ2L applied to the set of transfer electrodes 30 in the previous stage of the final gate 61 starts falling. Therefore, it has the same effect as the embodiment described in FIGS. 1 to 4.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明は電荷転送装置において、
最終ゲートに印加されるクロックが低レベルから高レベ
ルに変化する時点において、最終ゲートクロックが高レ
ベルへ上りきった時点以後にその一段前のゲートのクロ
ックが高レベルから低レベルに変化する手段を備えてい
ることにより、信号出力の先おくすな防止できる効果が
ある。尚、本発明はP型基板のうめ込みチャンネル型C
ODを一例として説明を行なったが、導電型を逆とし、
電圧の正負を逆にすればN型基板においても実施できる
のは言うまでもない。またうめ込みチャンネル型COD
にかぎらず表面チャンネル型CODでも実施しうろこと
も明らかである。
As explained above, the present invention provides a charge transfer device including:
At the time when the clock applied to the final gate changes from low level to high level, the clock of the gate one step before it changes from high level to low level after the time when the final gate clock reaches high level. This has the effect of preventing early signal output. Incidentally, the present invention relates to a channel type C embedded in a P type substrate.
The explanation was given using OD as an example, but if the conductivity type is reversed,
It goes without saying that this process can also be carried out on an N-type substrate by reversing the positive and negative voltages. Also, embedded channel type COD
It is obvious that the present invention can also be implemented not only in a surface channel type COD.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)は本発明の一実施例に用いる電荷転送装置
の断面図、第1図(b)〜(d)はその電荷転送部と出
力部の各時刻でのポテンシャル分布を示すポテンシャル
図である。 第2図は第1図の動作を説明するためのタイミング図で
ある。 第3図は本発明の一実施例に用いるクロック発生回路の
回路図である。 第4図は第3図のクロック発生回路の各部信号を示す波
形図である。 第5図は本発明の他の実施例を示す断面図、第6図はそ
のクロックタイミングを示す波形図である。 第7図は従来の電荷転送装置の断面図、第7図(b)〜
(d)はその電荷転送部と出力部の各時刻でのポテンシ
ャル分布を示すポテンシャル図、第8図はその動作を説
明するタイミング図である。 1.51・・・・・・半導体基板、2,52・・・・・
・N型層、3.53・・・・・・リセットドレインN型
層、4,54・・・・・・リセットゲート、5,55・
・・・・・出力バッファー、6,56・・・・・・出力
ゲート、7,57・・・・・・P型バリアー層、8,5
8.59・・・・・・転送電極、11.61・・・・・
・最終ゲート、21,22,23゜31.32,33.
34・・・・・・インバータ、24゜25.26.27
・・・・・・MOS)ランジスタ、30・・・・・・最
終ゲートの前段の転送電極 代理人 弁理士  内 原   音 節f図 第Z図 よ k く 万              U翁1」第4M 8″   く 万 袴6図 &。 箭7図 第8図
FIG. 1(a) is a sectional view of a charge transfer device used in an embodiment of the present invention, and FIGS. 1(b) to (d) are potential distributions at each time in the charge transfer section and output section. It is a diagram. FIG. 2 is a timing diagram for explaining the operation of FIG. 1. FIG. 3 is a circuit diagram of a clock generation circuit used in one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a waveform diagram showing signals of various parts of the clock generation circuit of FIG. 3. FIG. 5 is a sectional view showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a waveform diagram showing its clock timing. Figure 7 is a cross-sectional view of a conventional charge transfer device, Figure 7(b) -
(d) is a potential diagram showing the potential distribution at each time in the charge transfer section and the output section, and FIG. 8 is a timing diagram explaining the operation. 1.51... Semiconductor substrate, 2,52...
・N-type layer, 3.53...Reset drain N-type layer, 4,54...Reset gate, 5,55...
...Output buffer, 6,56...Output gate, 7,57...P-type barrier layer, 8,5
8.59...Transfer electrode, 11.61...
・Final gate, 21, 22, 23° 31. 32, 33.
34...Inverter, 24°25.26.27
...MOS) transistor, 30...transfer electrode agent in front of the final gate Patent attorney Hakama 6th & 7th Hakama 8th

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 少なくとも半導体基板上に形成された電荷転送装置にお
いて、電荷転送装置の出力ゲート直前の第1の転送ゲー
トと、前記第1の転送ゲートの一段前の第2の転送ゲー
トに印加されるクロックにおいて、前記第1の転送ゲー
トに印加されるクロックが低レベルから高レベルに変化
する時点において、前記第1の転送ゲートに印加される
クロックが高レベルへの変化が完了した時点以後に、前
記第2の転送ゲートに印加されるクロックが高レベルか
ら低レベルへ変化するようにしたことを特徴とする電荷
転送装置の駆動方法。
In a charge transfer device formed on at least a semiconductor substrate, a clock applied to a first transfer gate immediately before the output gate of the charge transfer device and a second transfer gate one stage before the first transfer gate, At the time when the clock applied to the first transfer gate changes from low level to high level, after the time when the clock applied to the first transfer gate completes the change to high level, the second A method for driving a charge transfer device, characterized in that a clock applied to a transfer gate of the charge transfer device changes from a high level to a low level.
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