JP2890409B2 - Charge transfer device - Google Patents

Charge transfer device

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電荷転送装置に関し、特に高速駆動のために
最終ゲートを別配線にした電荷転送装置の駆動方法に関
する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a charge transfer device, and more particularly, to a method for driving a charge transfer device in which a final gate is separately formed for high-speed driving.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来電荷転送装置においては高速駆動のために最終ゲ
ートを別配線にしたものがある(例えば特開昭58−1031
72)。これは、出力用電荷−電圧変換部のフローティン
グジャンクション部への信号電荷の流入速度を上げるた
めに、最終ゲートのクロック変化スピードを上げたもの
である。
In a conventional charge transfer device, there is a device in which the final gate is provided with a separate wiring for high-speed driving (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
72). This is to increase the clock change speed of the final gate in order to increase the speed of the signal charge flowing into the floating junction of the output charge-to-voltage converter.

この種の電荷転送装置の従来技術を第7図に示す。従
来装置の構造は第7図(a)に示すように、P型シリコ
ン基板1にN型層2を有している。電荷転送部のN型層
2にはP型のバリアー(障壁)領域7を有しており、そ
の表面にはN型層2上とバリアー領域7上とで1組とな
る転送電極8を有している。1組の転送電極8にはクロ
ックφとこれと逆位相のクロックφとが交互に加えら
れている。N型層2の右端の部分には出力部分が形成さ
れ、この出力部はN型のフローティングジャンクション
部12とリセットドレインN型層3とが形成され、これら
の間の上部にリセットパルスφの与えられたリセット
ゲート4が形成されている。フローティングジャンクシ
ョン部12からは出力バッファー5を介して出力VOUTが取
り出されている。リセットドレインN型層3には例えば
接地電位である固定電位VRDが与えられている。フロー
ティングジャンクション部12の直前には固定電位VOG
与えられる出力ゲート6が設けられ、その前に最終ゲー
ト11が設けられている。最終ゲート11にはクロックφ
と同じクロックではあるがクロックφとは別に出力さ
れたものφ1Lがクロックφとは別の配線で与えられて
いる。クロックφ1Lは最終ゲート11にのみ与えられてい
るので波形はなまりのない急峻なパルスとなっており、
高速の出力が可能となっている。
FIG. 7 shows a prior art of this type of charge transfer device. The structure of the conventional device has an N-type layer 2 on a P-type silicon substrate 1 as shown in FIG. The N-type layer 2 of the charge transfer section has a P-type barrier (barrier) region 7, and a surface thereof has a pair of transfer electrodes 8 on the N-type layer 2 and the barrier region 7. doing. A clock φ and a clock φ 2 having an opposite phase to the clock φ are alternately applied to one set of transfer electrodes 8. The right end portion of the N-type layer 2 output portion is formed, the output unit and the floating junction portion 12 and the reset drain N-type layer 3 of N-type is formed, the reset pulse phi R to the top between them A given reset gate 4 is formed. The output VOUT is extracted from the floating junction section 12 via the output buffer 5. The reset drain N-type layer 3 are given a fixed potential V RD is, for example, ground potential. An output gate 6 to which a fixed potential VOG is applied is provided immediately before the floating junction section 12, and a final gate 11 is provided before the output gate 6. The final gate 11 has a clock φ 1
Phi 1L those output separately from the 1 is the clock phi is the same clock are given in a different wiring from the clock phi 1 and. Since the clock φ 1L is given only to the final gate 11, the waveform is a sharp pulse without rounding,
High-speed output is possible.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

ところが従来の最終ゲート11へのクロックφ1Lの別配
線された構造においては、駆動条件によっては正常な出
力波形が得られないという欠点が存在していた。以下そ
の内容を第7図(b)〜(d)および第8図を用いて説
明する。
However, the conventional structure in which the clock φ1L is separately wired to the final gate 11 has a drawback that a normal output waveform cannot be obtained depending on driving conditions. Hereinafter, the contents will be described with reference to FIGS. 7 (b) to (d) and FIG.

第7図(b)〜(d)は、時刻t1,t2,t3での転送電
極8下および出力部のポテンシャル分布を示した図であ
り、第8図はクロックφ1L,φ,リセットパルスφ
および出力VOUTのタイミングチャートである。
Figure 7 (b) ~ (d) is a diagram showing the potential distribution of the transfer electrodes 8 below and the output portion of the at time t 1, t 2, t 3 , FIG. 8 is a clock phi 1L, phi 2 , the reset pulse φ R
6 is a timing chart of an output VOUT .

いま時刻t1においては、クロックφ1Lが低レベル、ク
ロックφが高レベルであるため信号電荷Qはクロック
φの与えられた転送電極下に蓄積されている。フロー
ティングジャンクション部12にはその直前の電荷Q1が蓄
積されている。時刻t2となりクロックφが低レベルと
なり、クロックφ1Lが中間レベルとなっている状態にお
いては、第3図(c)に示すようにクロックφの与え
られた転送電極下のポテンシャル井戸より信号電荷Qが
流出しはじめているが、クロックφ1Lがまだ中間レベル
であるため、クロックφ1Lの与えられた転送電極下には
信号電荷蓄積用のポテンシャル井戸がまだ形成されてい
ない。このため、クロックφの与えられた転送電極下
より流出しはじめた信号電荷Qは最終ゲート11下を通過
しフローディングジャンクション部12へ流入してしま
う。この流入は1ビット前の信号電位Q1と読み出そうと
する電荷Qの一部ΔQとが加算された形で出力信号VOUT
が出ることを意味し、第8図に示すように出力信号VOUT
が時刻t2より増加し、異常な波形となる。
In now time t 1, the clock phi 1L signal charge Q for low level, the clock phi 2 is high are accumulated under the transfer electrodes given clock phi 1. The floating junction section 12 charges to Q 1 immediately before is accumulated. Time t 2 next clock phi 2 becomes the low level, in a state where the clock phi 1L is in the middle level, from the potential well under the transfer electrodes given clock phi 2 as shown in FIG. 3 (c) Although the signal charges Q have begun to flow out, since the clock φ 1L is still at the intermediate level, a potential well for storing signal charges has not yet been formed below the transfer electrode supplied with the clock φ 1L . Therefore, the signal charge Q that has begun to flow out from under the transfer electrode given the clock φ 2 passes under the final gate 11 and flows into the floating junction 12. This inflow is caused by adding the signal potential Q 1 one bit before and the part ΔQ of the charge Q to be read out to the output signal V OUT
Output signal V OUT as shown in FIG.
There was an increase from time t 2, an abnormal waveform.

このように信号電荷ΔQの先おくりが起きた状態にお
いては出力信号が1ビット前に加算されることとなり、
正常な出力波形を示さず、かつまたその出力レベルも信
頼性がない。
As described above, in the state where the advance of the signal charge ΔQ has occurred, the output signal is added one bit before,
It does not show a normal output waveform and its output level is also unreliable.

よって従来の最終ゲートに与えるクロックφ1Lの別配
線構造においては、信号電荷先おくりが起きない様な特
別な配慮が必要であり、駆動回路が繁雑となっていた。
Therefore, in another wiring structure of the clock phi 1L given to conventional final gate, gift signal charge destination requires special consideration, such as not to cause the drive circuit has been a complicated.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明の電荷転送は最終転送ゲートの印加クロックと
その一段前のゲートに印加されるクロックとの関係を最
終ゲートに印加されるクロックが低レベルから高レベル
に変化する時点において、最終ゲートに印加されるクロ
ックが高レベルへ上りきった時点以後にその一段前のゲ
ートに印加されるクロックが高レベルから低レベルに変
化する手段を備えている。
In the charge transfer according to the present invention, the relationship between the clock applied to the final transfer gate and the clock applied to the immediately preceding gate is applied to the final gate when the clock applied to the final gate changes from a low level to a high level. There is provided a means for changing the clock applied to the immediately preceding gate from the high level to the low level after the clock to be output has reached the high level.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図(a)は本発明の一実施例に用いる電荷転送の
出力部近辺の断面図であり、第2図はそのリセットパル
スφ,クロックφ1L,φおよび出力VOUTのタイミン
グチャートである。また第1図(b)〜(d)は第2図
の各時刻t1A,t2A,t3Aでの電荷転送装置内の電荷転送
部と出力部のポテンシャルを示す図である。第1図
(a)に示した電荷転送装置の断面構造は先に説明した
第7図(a)の電荷転送装置と同じであるので、説明は
省略する。次に動作を第1図(b)〜(d)および第2
図を用いて説明する。いま時刻t1Aにおいては、クロッ
クφ1Lは低レベル、クロックφが高レベルであるた
め、信号電荷Qはクロックφに与えられた転送電極下
に蓄積されている。時刻t2Aとなり、クロックφ1Lが高
レベルとなりクロックφが高レベルから低レベルに変
化しはじめている状態となる。この状態では第1図
(c)に示すようにクロックφの与えられた転送電極
下のポテンシャル井戸より信号電荷Qが流出しはじめて
いるがクロックφ1Lがすでに高レベルとなっており、ク
ロックφ1Lの与えられた転送電極下には信号電荷蓄積用
のポテンシャル井戸が確実に形成されており、クロック
φの与えられた転送電極下より流出しはじめた信号電
荷は最終ゲート11下にすべて蓄積され、従来技術で発生
したような信号電荷ΔQの先おくりモードは発生しな
い。
FIG. 1A is a cross-sectional view of the vicinity of an output section of charge transfer used in an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart of the reset pulse φ R , clocks φ 1L and φ 2 and output V OUT . It is. FIGS. 1B to 1D are diagrams showing the potentials of the charge transfer unit and the output unit in the charge transfer device at each of the times t 1A , t 2A , and t 3A in FIG. The cross-sectional structure of the charge transfer device shown in FIG. 1A is the same as that of the charge transfer device of FIG. 7A described above, and a description thereof will be omitted. Next, the operation will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to the drawings. Now, at time t 1A , since the clock φ 1L is at the low level and the clock φ 2 is at the high level, the signal charge Q is accumulated under the transfer electrode given to the clock φ 1 . Next time t 2A, a state of the clock phi 2 becomes the clock phi 1L is a high level is started to change from a high level to a low level. Has a first view (c) the clock phi 2 of the signal charges Q from the potential well under the transfer electrodes provided as shown in the beginning to flow out clock phi 1L already high level in this state, the clock phi A potential well for storing signal charges is surely formed under the given transfer electrode of 1 L , and all signal charges that have begun to flow out from under the given transfer electrode of clock φ 2 are accumulated under the final gate 11. Therefore, the advance mode of the signal charge ΔQ as in the prior art does not occur.

第3図は、本発明によるタイミング関係を有するクロ
ックφ,2φ,φ1Lを発生する回別の例を示した回路
図であり、クロックφ,φを出力するMOSトランジ
スタ24,25および26,27で構成されるドライバーの前々段
のインバータ21よりクロックφ1Lを得ている。こうする
ことにより第4図のタイミングチャートよりわかるよう
にそれぞれのインバータ21,22,23の信号遅延T21,T22
T23及びMOSトランジスタ24,25および26,27より成るバッ
ファー回路の遅延TDによりクロックφ1Lが完全に立ち上
がってから(時刻T1)クロックφの立下がりが開始す
る。
FIG. 3 is a circuit diagram showing another example of generating clocks φ 1 , 2φ 2 , φ 1L having a timing relationship according to the present invention. MOS transistors 24, 25 outputting clocks φ 1 , φ 2 are shown in FIG. And a clock φ1L is obtained from the inverter 21 at the stage just before the driver composed of 26 and 27. By doing so, as can be seen from the timing chart of FIG. 4, the signal delays T 21 , T 22 ,
T 23 and MOS transistors 24, 25 and the clock phi 1L from completely risen by the delay T D of the buffer circuit consisting of 26 and 27 (time T 1) fall of the clock phi 2 is started.

次に第5図および第6図を用いて本発明の他の実施例
を説明する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

P型シリコン基板51の表面部に有するN型層52には電
荷転送部と出力部が設けられている。電荷転送部にはP
型バリアー領域57を有し、このP型バリアー領域57上と
N型層52上とで1組となる転送電極58,59が設けられて
いる。転送電極59にはクロックφが、また転送電極58
にはこれとは逆位相のクロックφが与えられている。
転送電極の最後のものは出力ゲート56として固定電位V
OGが与えられている。その直前の転送電極の組は最終ゲ
ート61としてクロックφ1Lがクロックφからインバー
タ31で形成されて、他の転送電極とは別配線で与えられ
ている。最終ゲート61の直前の1組の転送電極30にはク
ロックφがインバータ31〜34を介してクロックφ2L
して、やはり他の転送電極とは別配線で与えられてい
る。出力部ではN型のフローティングジャンクション部
62とリセットドレインN型層53とそれらの間の上のリセ
ットゲート54とを有している。リセットドレインN型層
53には固定電位VRDが、またリセットゲート54にはリセ
ットパルスφが与えられている。フローディングジャ
ンクション部62からはバッファー55を介して出力VOUT
取り出されている。
The N-type layer 52 on the surface of the P-type silicon substrate 51 has a charge transfer section and an output section. P in the charge transfer section
It has a type barrier region 57, and a pair of transfer electrodes 58 and 59 is provided on the P type barrier region 57 and the N type layer 52. A clock φ 1 is applied to the transfer electrode 59 and a transfer electrode 58
Is supplied with a clock φ 2 having a phase opposite to that of the clock φ 2 .
The last of the transfer electrodes is fixed potential V as output gate 56
OG is given. In the set of transfer electrodes immediately before that, a clock φ 1L is formed as the final gate 61 by the inverter 31 from the clock φ 2, and is provided by a separate wiring from the other transfer electrodes. The clock φ 2 is supplied to the set of transfer electrodes 30 immediately before the final gate 61 via the inverters 31 to 34 as the clock φ 2L , also on a separate line from the other transfer electrodes. N-type floating junction at output
62, a reset drain N-type layer 53, and a reset gate 54 above them. Reset drain N-type layer
Fixed potential V RD to 53, also to the reset gate 54 is given a reset pulse phi R. An output VOUT is extracted from the floating junction 62 via a buffer 55.

このように外部入力クロックφよりインバータ31,3
2,33,34を用いて、クロックφ1L,φ2Lを発生し、出力
ゲート56の直前の最終ゲート61およびこの最終ゲート61
の一段前の1組の転送電極30に与えている。これらクロ
ックφ2Lはインバータ32,33,34を用いクロックφ1Lより
遅延したクロックとなっている。
Inverter than this way, the external input clock φ 2 31,3
The clocks φ 1L and φ 2L are generated using 2, 33, and 34, and the final gate 61 immediately before the output gate 56 and the final gate 61
Is provided to a set of transfer electrodes 30 one stage before. These clocks phi 2L has a clock that is delayed from the clock phi 1L using an inverter 32, 33 and 34.

このようにクロックφ2Lを遅延させることにより第6
図のタイミング図よりわかるようにこれも最終ゲート61
に印加するクロックφ1Lが完全に立ち上がってから(時
刻T1)、最終ゲート61の前段の1組の転送電極30に印加
するクロックφ2Lの立下りが開始する。従って、第1〜
4図で説明した一実施例と同様の効果を有することとな
る。
By delaying the clock φ 2L in this manner, the sixth
As can be seen from the timing diagram, this is also the final gate 61
After the clock φ 1L to be applied to the first gate 61 completely rises (time T 1 ), the falling of the clock φ 2L applied to the set of transfer electrodes 30 in the preceding stage of the final gate 61 starts. Therefore, the first to first
4 has the same effect as the embodiment described with reference to FIG.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明は電荷転送装置におい
て、最終ゲートに印加されるクロックが低レベルから高
レベルに変化する時点において、最終ゲートクロックが
高レベルへ上りきった時点以後にその一段前のゲートの
クロックが高レベルから低レベルに変化する手段を備え
ていることにより、信号出力の先おくりを防止できる効
果がある。尚、本発明はP型基板のうめ込みチャンネル
型CCDを一例として説明を行なったが、導電型を逆と
し、電圧の正負を逆にすればN型基板においても実施で
きるのは言うまでもない。またうめ込みチャンネル型CC
Dにかぎらず表面チャンネル型CCDでも実施しうることも
明らかである。
As described above, according to the present invention, in the charge transfer device, at the time when the clock applied to the final gate changes from the low level to the high level, after the final gate clock has reached the high level, Providing the means for changing the gate clock from the high level to the low level has the effect of preventing the advance of the signal output. Although the present invention has been described with reference to a buried channel type CCD of a P-type substrate as an example, it goes without saying that the present invention can be applied to an N-type substrate if the conductivity type is reversed and the polarity of the voltage is reversed. Recessed channel type CC
It is clear that not only D but also a surface channel CCD can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a)は本発明の一実施例に用いる電荷転送装置
の断面図、第1図(b)〜(d)はその電荷転送部と出
力部の各時刻でのポテンシャル分布を示すポテンシャル
図である。 第2図は第1図の動作を説明するためのタイミング図で
ある。 第3図は本発明の一実施例に用いるクロック発生回路の
回路図である。 第4図は第3図のクロック発生回路の各部信号を示す波
形図である。 第5図は本発明の他の実施例を示す断面図、第6図はそ
のクロックタイミングを示す波形図である。 第7図は従来の電荷転送装置の断面図、第7図(b)〜
(d)はその電荷転送部と出力部の各時刻でのポテンシ
ャル分布を示すポテンシャル図、第8図はその動作を説
明するタイミング図である。 1,51……半導体基板、2,52……N型層、3,53……リセッ
トドレインN型層、4,54……リセットゲート、5,55……
出力バッファー、6,56……出力ゲート、7,57……P型バ
リアー層、8,58,59……転送電極、11,61……最終ゲー
ト、21,22,23,31,32,33,34……インバータ、24,25,26,2
7……MOSトランジスタ、30……最終ゲートの前段の転送
電極
FIG. 1A is a sectional view of a charge transfer device used in an embodiment of the present invention, and FIGS. 1B to 1D show potential distributions of the charge transfer unit and the output unit at each time. FIG. FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of FIG. FIG. 3 is a circuit diagram of a clock generation circuit used in one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a waveform diagram showing signals of various parts of the clock generation circuit of FIG. FIG. 5 is a sectional view showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a waveform diagram showing the clock timing. FIG. 7 is a sectional view of a conventional charge transfer device, and FIGS.
(D) is a potential diagram showing the potential distribution of the charge transfer section and the output section at each time, and FIG. 8 is a timing chart for explaining the operation. 1,51 ... Semiconductor substrate, 2,52 ... N-type layer, 3,53 ... Reset drain N-type layer, 4,54 ... Reset gate, 5,55 ...
Output buffer, 6,56 Output gate, 7,57 P-type barrier layer, 8,58,59 Transfer electrode, 11,61 Final gate, 21,22,23,31,32,33 , 34 …… Inverter, 24,25,26,2
7 ... MOS transistor, 30 ... Transfer electrode in front of final gate

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】電荷の転送方向に複数の転送ゲートを配列
し前記転送ゲートのうち隣接する転送ゲート同士にはそ
れぞれ相補的に変化するクロックが印加された電荷転送
装置において、 前記転送ゲートのうち、前記電荷転送装置の出力ゲート
直前の第1の転送ゲートと、前記第1の転送ゲートの一
段前の第2の転送ゲートには、前記第1の転送ゲートに
印加されるクロックの低レベルから高レベルへの変化が
完了してから、前記第2の転送ゲートに印加されるクロ
ックが高レベルから低レベルへ変化するクロックが印加
されていることを特徴とする電荷転送装置。
1. A charge transfer device in which a plurality of transfer gates are arranged in a charge transfer direction, and adjacent transfer gates among the transfer gates are applied with clocks that change complementarily, respectively. The first transfer gate immediately before the output gate of the charge transfer device and the second transfer gate immediately before the first transfer gate are connected to a low level of a clock applied to the first transfer gate. A charge transfer device wherein a clock applied to the second transfer gate changes from a high level to a low level after the change to a high level is completed.
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